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전도성 고분자 필름 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015096152
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 전도성 고분자 필름 제조 방법에 관한 것으로, 유기 용매에 리튬염을 용해시키는 제 1 공정과, 상기 제 1 공정을 통해 리튬염이 용해된 유기 용매에 전도성 고분자를 소량씩 첨가하면서 용해시켜 진한 청색의 용액을 얻는 제 2 공정과, 상기 제 2 공정을 통해 얻어진 진한 청색의 용액을 7일 이상 그대로 방치한 후 평판면에 일정한 두께로 도포하는 제 3 공정 및, 상기 제 3 공정을 통해 도포된 용액중 용매를 건조시키는 제 4 공정을 포함하는 것을 특징으로 하여 구성된다.이로부터 본 발명은, 전도성을 가진 전도성고분자 필름을 용액으로부터 직접 얻을 수 있기 때문에 전도성을 가진 고분자 필름을 얇은 막으로 가공할 수 있을 뿐만 아니라 필요에 따라 두께를 조절할 수 있으며 사용하는 염의 종류와 농도에 따라 필름의 전도도를 조절할 수 있으므로 전자/전기 부품 등 사용 목적에 따라 다양한 분야에 응용이 가능하다.전도성고분자필름, 리튬염, 도핑, 폴리아닐린, 필름제조방법, 이중 도핑법, 전기전도도
Int. CL C08J 5/18 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1019990058382 (1999.12.16)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0371137-0000 (2003.01.22)
공개번호/일자 10-2001-0056773 (2001.07.04) 문서열기
공고번호/일자 (20030207) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1999.12.16)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 류광선 대한민국 대전광역시유성구
2 김광만 대한민국 대전광역시유성구
3 강성구 대한민국 대전광역시유성구
4 장순호 대한민국 대전광역시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 전영일 대한민국 광주 북구 첨단과기로***번길**, ***호(오룡동)(특허법인세아 (광주분사무소))

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 1999.12.16 수리 (Accepted) 1-1-1999-0173147-69
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2001.12.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2002.01.25 수리 (Accepted) 9-1-2002-0034725-38
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2002.03.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0098932-54
6 의견서
Written Opinion		 2002.05.27 수리 (Accepted) 1-1-2002-0163932-11
7 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2002.05.27 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2002-0163936-04
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
9 등록결정서
Decision to grant		 2002.10.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0389737-05
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
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제 14 항에 있어서,

상기 제 3 공정을 통해 얻어진 상기 고분자 필름의 평탄면은 반대편 면인 공기와 접촉하는 면보다 전도도가 큰 것을 특징으로 하는 전기 전도성 고분자 필름 제조 방법

16 16

제 14 항에 있어서,

상기 유기 용매는 리튬염과 전도성 고분자를 동시에 녹일 수 있고 극성을 가진 물질로 구성되는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 필름 제조 방법

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제 16 항에 있어서,

상기 유기 용매는 엔-메틸-2-피롤리디논(N-methyl-2-pyrrolidinone)인 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 필름 제조 방법

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제 17 항에 있어서,

상기 리튬염은 LiClO4, LiPF6, LiBF4, LiAsF6, LiCF3SO3, LiN(CF3SO2)2, LiC(CF3SO2)3 중 하나 이상을 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 필름 제조 방법

20 20

제 14항에 있어서,

상기 리튬염은 건조 상자 내에서 자석 젓개를 이용하여 약 1시간 정도 저어서 완전히 용해되어진 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 필름 제조 방법

21 21

제 14 항에 있어서,

상기 전도성 고분자는 폴리아닐린(polyaniline), 폴리피롤(polypyrrole), 폴리사이오펜(polythiophene) 및 이들 유도체(derivative)중 하나 이상을 혼합하여 사용하는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 필름 제조 방법

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제 21 항에 있어서,

상기 제 2 공정은 전도성 고분자를 약 1∼10 wt% (전도성 고분자 질량/NMP질량 백분율) 정도씩 1

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제 22 항에 있어서,

상기 전도성 고분자는 첨가되는 양이 약 3 wt% 인 것을 특징으로 하는 특징으로 하는 전도성 고분자 필름 제조 방법

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제 14 항에 있어서,

상기 제 2 공정을 통해 얻어진 진한 청색의 용액은 거름 막을 이용하여 용해되지 않은 고분자 입자들을 제거한 후 상기 제 3 공정으로 진행하는 포화 불순물 제거 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자 필름 제조 방법

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1 JP2001172418 JP 일본 DOCDBFAMILY
2 US6309694 US 미국 DOCDBFAMILY
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