기판의 뒷면에 비아-홀을 형성하는 뒷면 비아-홀의 제작 방법에 있어서,

다수의 비아-홀 영역과, 식각 상태를 모니터링하기 위한 창 영역이 함께 형성된 마스크를 이용하여 비아-홀 형성을 위한 식각패턴을 형성하여 식각 완료점을 모니터 하면서 비아-홀을 제작하는 것을 특징으로 하는 직접 식각 조정 방법에 의한 뒷면 비아-홀의 제작 방법

제 1 항에 있어서, 상기 마스크를 이용하여 비아-홀을 식각할때에,

기판의 비아-홀을 형성할 표면에 감광막을 도포한후, 상기 마스크를 사용하여 비아홀 영역 및 비아-홀 식각 모니터용 창을 갖는 식각 패턴을 형성하고, Ni금속을 증착한 후 리프트 오프 공정으로 Ni 보조 마스크를 형성한 후, 상기 감광막에 의한 식각 패턴과 상기 Ni 금속 마스크를 이용하여 식각하고, 상기 비아-홀 식각 모니터용 창을 통해서 식각 완료점을 모니터 하여 비아-홀을 형성하는 것을 특징으로 하는 직접 식각 조정 방법에 의한 뒷면 비아-홀의 제작 방법

소자 및 회로 기판(1)에 활성층(2)와 전면 금속층(3)을 형성하고, 표면 보호막을 입혀, 고온 왁스(4)로 투명 지지 기판(5)에 접착 하는 단계와,

비아-홀 영역(10a)과 창 영역(10b)이 형성된 별도의 마스크(10)을 사용하여, 상기 기판(1)의 뒷면에 도포된 감광막(8)의 표면에 패턴을 형성하고, Ni 금속(9)을 증착한 후 리프트 오프 공정으로 Ni 금속 마스크를 형성하는 단계와,

상기 감광막(8)을 제거하고 Ni금속 마스크에 의해 식각 모니터용 창(11)을 형성하며, 그 위에 다시 감광막을 입히고, 상기 비아-홀 용 별도의 마스크(10)을 사용하여 비아-홀 식각용 마스크 패턴(12)과 식각 모니터용 창(11a)를 형성 하는 단계와,

상기 비아 홀 용 감광막 마스크 패턴(12)와 Ni 금속 마스크(9)를 사용하여 식각하여 비아-홀 부분(13)과 식각된 비아-홀 창(14),(14a),(14b)을 형성하는 단계와,

비아-홀 식각용 마스크(12) 및 상기 식각 마스크인 Ni 금속 마스크(9)를 제거하고, 베이스 금속을 증착하여 전기도금법에 의해 금(16)을 도금하는 단계와,

투명 지지대(5)를 탈착하고 세척을 하여 완료하는 단계를 수행하도록 이루어진 것을 특징으로 하는 직접 식각 조정 방법에 의한 뒷면 비아-홀의 제작 방법