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기판;상기 기판 중 적어도 일부 상에 형성된 산화물층;전기적으로 서로 분리된 복수의 패턴을 갖고, 상기 산화물층 중 외부에 노출된 노출부를 정의하도록 상기 산화물층 상에 형성된 금속 패턴부;전기적으로 서로 분리된 복수의 패턴을 갖도록 상기 금속 패턴부 상에 형성된 산화물 패턴부; 및상기 산화물층의 상기 노출부 중 적어도 일부 상에 형성된 광학적 성질 조절 패턴부를 포함하는 터치 패널
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제1항에 있어서,상기 산화물층의 두께는 20 nm 이상 60 nm 이하이며, 상기 산화물층을 구성하는 물질은 TiO2, Nb2O5, ZnO, ZrO2 및 HfO2로 이루어진 군에서 적어도 하나 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 터치 패널
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제1항에 있어서,상기 금속 패턴부의 두께는 5 nm 이상 15 nm 이하이며, 상기 금속 패턴부를 구성하는 물질은 Ag, Ag-Al 합금, Ag-Mo 합금, Ag-Au 합금, Ag-Pd 합금, Ag-Ti 합금, Ag-Cu 합금, Ag-Au-Pd 및 Ag-Au-Cu 합금으로 이루어진 군에서 적어도 하나 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 터치 패널
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제1항에 있어서,상기 산화물 패턴부의 두께는 30 nm 이상 70 nm 이하이며, 상기 산화물 패턴부를 구성하는 물질은 ITO(Indium Tin Oxide), AZO(Al-doped ZnO), GZO(Ga-doped ZnO), ITZO(Indium-Tin-Zinc Oxide), ZTO(Zinc-Tin Oxide), IGO(Indium-Gallium Oxide), SnO2 및 ZnO로 이루어진 군에서 적어도 하나 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 터치 패널
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제1항에 있어서,상기 광학적 성질 조절 패턴부의 두께는 50 nm 이상 110 nm 이하이며, 상기 광학적 성질 조절 패턴부를 구성하는 물질은 MgO, Ta2O3 및 SiON로 이루어진 군에서 적어도 하나 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 터치 패널
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제1항에 있어서,상기 터치 패널은 상기 광학적 성질 조절 패턴부 중 적어도 일부 및 상기 산화물 패턴부 중 적어도 일부 상에 형성된 절연 패턴부; 및상기 절연 패턴부 중 적어도 일부 및 상기 산화물 패턴부 중 적어도 일부 상에 형성되며, 상기 산화물 패턴부의 상기 복수의 패턴 중 적어도 두 개의 패턴을 전기적으로 연결하는 브리지 패턴부을 더 포함하는 터치 패널
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제6항에 있어서,상기 산화물 패턴부, 상기 광학적 성질 조절 패턴부, 상기 절연 패턴부 및 상기 브리지 패턴부 중 외부에 노출된 부분 상에 형성된 광접착층을 더 포함하는 터치 패널
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