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엑스선 마스크 및 그 제작 방법

  • 기술번호 : KST2015096873
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 방사광 엑스선을 이용하여 고 종횡비의 플라스틱 마이크로 소자를 제작하는데 사용되는 엑스선 마스크 및 그 제작 방법에 관한 것이다. 본 발명은 멤브레인 구조물의 측면조도를 산화막 공정을 통해 개선하고, 흡수체를 멤브레인 구조물에 파묻고, 엑스선의 임계파장을 변화시키는 금속 박막을 함께 실장함으로써, 보다 견고하고 내구성이 강하며 측면조도가 개선된 엑스선 마스크 및 그 제작 방법을 제공한다. 아울러 본 발명은 실리콘 멤브레인 구조물의 건식식각 단일공정을 통해 흡수체의 두께를 손쉽게 조절하여 용이하게 높은 흡수체-멤브레인 콘트라스트를 제공한다. 엑스선 마스크, 흡수체, 파묻힌 구조, 금속 박막, 측면조도, 산화막
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC G03F 1/22(2013.01) G03F 1/22(2013.01)
출원번호/일자 1020040093773 (2004.11.17)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0577077-0000 (2006.04.28)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20060510) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.11.17)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김진태 대한민국 대전 유성구
2 한상필 대한민국 대전 서구
3 최춘기 대한민국 대전 유성구
4 성희경 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신영무 대한민국 서울특별시 강남구 영동대로 ***(대치동) KT&G타워 *층(에스앤엘파트너스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2004.11.17 수리 (Accepted) 1-1-2004-0532531-41
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2006.03.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2006.04.14 수리 (Accepted) 9-1-2006-0024338-31
4 등록결정서
Decision to grant		 2006.04.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0247973-15
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
방사광을 이용한 깊은 엑스선 사진식각에 사용되는 엑스선 마스크에 있어서, 엑스선을 투과시키는 멤브레인 구조물; 상기 멤브레인 구조물의 제 1 주면에 파묻히는 흡수체; 및 상기 멤브레인 구조물의 제 2 주면 상에 형성되며 상기 엑스선의 임계파장을 변화시키기 위한 금속 박막을 포함하는 엑스선 마스크
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 멤브레인 구조물은 상기 흡수체가 충전되는 도랑 모양의 미세 채널을 구비하며 측면조도 10㎚ 이하로 형성되는 미세 구조물; 및 상기 미세 구조물을 연결하며 상기 흡수체를 지지하는 흡수체 지지부를 구비하는 엑스선 마스크
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 멤브레인 구조물의 상기 제 2 주면은 상기 흡수체 지지부의 두께를 감소시키도록 상기 제 1 주면측으로 파여진 오목한 형상으로 형성되는 엑스선 마스크
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멤브레인 구조물로 형성하고자 하는 재료의 제 1 주면 및 제 2 주면에 보호 박막을 형성하는 단계; 상기 보호 박막이 형성된 상기 제 1 주면을 패터닝하여 도랑 모양의 미세 채널을 구비한 미세 구조물을 형성하는 단계; 상기 미세 구조물 위에 산화막을 형성한 후 제거하는 단계; 상기 미세 채널에 흡수체를 매립하는 단계; 및 상기 멤브레인 구조물의 엑스선 투과율을 향상시키기 위해 상기 제 2 주면을 얇게 식각하는 단계를 포함하는 엑스선 마스크 제작 방법
5 5
제 4 항에 있어서, 상기 제 2 주면 상에 금속 박막을 형성하는 단계를 더 포함하는 엑스선 마스크 제작 방법
6 6
제 5 항에 있어서, 상기 형성된 금속 박막을 일정 두께로 성장시키는 단계를 더 포함하는 엑스선 마스크 제작 방법
7 7
제 4 항에 있어서, 상기 미세 구조물 상에 산화막을 형성한 후 제거하는 단계는 상기 미세 구조물의 측면조도를 10㎚ 이하로 형성하는 단계를 포함하는 엑스선 마스크 제작 방법
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제 4 항에 있어서, 상기 미세 구조물 상에 산화막을 형성한 후 제거하는 단계는 상기 미세 구조물의 측면조도를 10㎚ 이하로 형성하는 단계를 포함하는 엑스선 마스크 제작 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.