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노광 장치

기술번호 : KST2015096874
담당센터 : 대전기술혁신센터
전화번호 : 042-610-2279

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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명은 반도체 소자의 제조 공정에 사용되는 웨이퍼 노광 장치에 관한 것으로, 광원으로부터 제공되는 광을 반사시키는 반사경, 상기 반사경으로부터 제공되는 광의 경로를 변환시키는 광 경로 변환부, 상기 광 경로 변환부의 양측에 각각 설치되며, 상기 광의 경로를 변화시키는 제 1 거울, 시료의 양측에 각각 설치되며, 광의 경로를 변화시키는 제 2 거울, 마스크의 양측에 각각 설치되며, 상기 제 1 거울에 반사된 광을 상기 마스크로 입사시키거나, 상기 마스크를 통과한 광을 상기 제 2 거울로 입사시키는 제 3 거울을 포함하며, 한번 웨이퍼를 정렬시킨 상태에서 웨이퍼의 일면 또는 양면이나 특정 면을 연속적으로 노광시킬 수 있다. 노광 장치, 양면 노광, 광 경로 변환부, 거울, 회전수단
Int. CL	H01L 21/027 (2006.01)
CPC	G03F 7/702(2013.01) G03F 7/702(2013.01)
출원번호/일자	1020040096680 (2004.11.24)
출원인	한국전자통신연구원
등록번호/일자	10-0566096-0000 (2006.03.23)
공개번호/일자
공고번호/일자	(20060331) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	소멸
심사진행상태	수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2004.11.24)
심사청구항수	8

출원인

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번호	이름	국적	주소
1	한국전자통신연구원	대한민국	대전광역시 유성구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	김상기	대한민국	대전 유성구
2	이주욱	대한민국	대전 서구
3	박종문	대한민국	대전 유성구
4	유성욱	대한민국	대구 수성구
5	박건식	대한민국	대전 유성구
6	윤용선	대한민국	대전 유성구
7	배윤규	대한민국	대전 서구
8	임병원	대한민국	대전 유성구
9	구진근	대한민국	대전 유성구
10	김보우	대한민국	대전 유성구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	신영무	대한민국	서울특별시 강남구 영동대로 **(대치동) KT&G타워 층(에스앤엘파트너스)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	한국전자통신연구원	대한민국	대전광역시 유성구

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번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	특허출원서 Patent Application	2004.11.24	수리 (Accepted)	1-1-2004-0548858-84
2	등록결정서 Decision to grant	2006.03.22	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2006-0158771-34
3	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2009.08.04	수리 (Accepted)	4-1-2009-5150899-36
4	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2015.02.02	수리 (Accepted)	4-1-2015-0006137-44

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 광원, 소정의 패턴이 형성된 마스크, 노광을 위해 홀더에 장착된 시료, 상기 광원으로부터 제공되는 광을 반사시키는 반사경, 상기 반사경으로부터 제공되는 광의 경로를 변환시키는 광 경로 변환부, 상기 광 경로 변환부의 양측에 각각 설치되며, 상기 광의 경로를 변화시키는 제 1 거울, 상기 시료의 양측에 각각 설치되며, 광의 경로를 변화시키는 제 2 거울, 상기 마스크의 양측에 각각 설치되며, 상기 제 1 거울에 반사된 광을 상기 마스크로 입사시키거나, 상기 마스크를 통과한 광을 상기 제 2 거울로 입사시키는 제 3 거울을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치
2	2 제 1 항에 있어서, 상기 마스크와 상기 제 3 거울 사이에 각각 설치된 렌즈를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 장치
3	3 제 1 항에 있어서, 상기 광 경로 변환부는 일면 또는 양면이 반사면으로 이루어진 거울 또는 빔 스플리터로 구성된 것을 특징으로 하는 노광 장치
4	4 제 1 항에 있어서, 상기 광 경로의 변환을 위해 상기 광 경로 변환부를 회전시키는 회전수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치
5	5 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 거울에 반사된 광을 상기 마스크로 입사시키거나, 상기 마스크를 통과한 광을 상기 제 2 거울로 입사시키기 위해 상기 제 3 거울을 회전시키는 회전수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치
6	6 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 거울은 일면이 반사면으로 구성되고, 상기 제 3 거울은 양면이 반사면으로 구성된 것을 특징으로 하는 노광 장치
7	7 제 1 항에 있어서, 상기 홀더에 상기 웨이퍼의 가장자리부가 장착된 것을 특징으로 하는 노광 장치
8	8 제 1 항에 있어서, 상기 웨이퍼의 둘레에 광의 회절이나 퍼짐을 방지하기 위한 가이드 링이 더 구비된 것을 특징으로 하는 노광 장치
9	8 제 1 항에 있어서, 상기 웨이퍼의 둘레에 광의 회절이나 퍼짐을 방지하기 위한 가이드 링이 더 구비된 것을 특징으로 하는 노광 장치

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순번	패밀리번호	국가코드	국가명	종류
1	US07190432	US	미국	FAMILY
2	US20060109444	US	미국	FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번	패밀리번호	국가코드	국가명	종류
1	US2006109444	US	미국	DOCDBFAMILY
2	US7190432	US	미국	DOCDBFAMILY

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특허 등록번호	10-0566096-0000

권리란

표시번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 권리란 표입니다.
표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20041124 출원 번호 : 1020040096680 공고 연월일 : 20060331 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20060322 청구범위의 항수 : 2 유별 : H01L 21/027 발명의 명칭 : 노광 장치 존속기간(예정)만료일 : 20160324

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 한국전자통신연구원 대전광역시 유성구...

등록료란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 등록료란 표입니다.
제 1 - 3 년분	금 액	256,500 원	2006년 03월 24일	납입
제 4 년분	금 액	216,000 원	2009년 03월 03일	납입
제 5 년분	금 액	216,000 원	2010년 02월 26일	납입
제 6 년분	금 액	216,000 원	2011년 02월 28일	납입
제 7 년분	금 액	404,000 원	2012년 02월 28일	납입
제 8 년분	금 액	176,000 원	2013년 03월 04일	납입
제 9 년분	금 액	176,000 원	2014년 03월 03일	납입
제 10 년분	금 액	350,000 원	2015년 02월 26일	납입

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정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
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번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	특허출원서	2004.11.24	수리 (Accepted)	1-1-2004-0548858-84
2	등록결정서	2006.03.22	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2006-0158771-34
3	출원인정보변경(경정)신고서	2009.08.04	수리 (Accepted)	4-1-2009-5150899-36
4	출원인정보변경(경정)신고서	2015.02.02	수리 (Accepted)	4-1-2015-0006137-44


과제고유번호	1095004210
세부과제번호	1200040003000002000003
연구과제명	반도체Foundry운영사업
성과구분	등록
부처명	국무총리실
연구관리전문기관명	국무조정실
연구주관기관명
성과제출연도	2000
연구기간	200001~200912
기여율	1
연구개발단계명	개발연구
6T분류명

특허성과

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