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반도체 소자 제조용 횡형 확산로

  • 기술번호 : KST2015097019
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 반도체 소자의 제조 공정에서 열산화, 열확산, 각종 어닐과 같은 웨이퍼 프로세스에 사용되는 횡형 확산로에 관한 것이다. 원통 형태의 석영 튜브에는 비스듬히 절재된 모양의 경사진 개구부가 형성되어 보트가 내부에 위치된 상태에서 개구부를 통해 웨이퍼를 보트에 용이하게 적재할 수 있으며, 개구부를 밀폐하기 위한 튜브 덮개에는 다수의 가스 유출공을 갖는 가스 주입구가 형성되어 반응가스가 석영 튜브 내부로 균일하게 공급됨으로써 두께가 균일한 박막을 성장시킬 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면 튜브 덮개가 개구부에 덮힌 상태에서 석영 튜브가 반응실로 이동하기 때문에 외부로부터 대기가스의 유입이 차단되어 자연산화막의 성장이 최소화된다. 확산로, 석영 튜브, 개구부, 가스 주입구, 가스 유출공
Int. CL H01L 21/22 (2006.01)
CPC H01L 21/67109(2013.01) H01L 21/67109(2013.01) H01L 21/67109(2013.01)
출원번호/일자 1020030050042 (2003.07.22)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0531012-0000 (2005.11.18)
공개번호/일자 10-2005-0010661 (2005.01.28) 문서열기
공고번호/일자 (20051128) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2003.07.22)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유성욱 대한민국 대구광역시수성구
2 구진근 대한민국 대전광역시유성구
3 박건식 대한민국 대전광역시서구
4 박종문 대한민국 대전광역시유성구
5 김보우 대한민국 대전광역시유성구
6 윤용선 대한민국 대전광역시유성구
7 김상기 대한민국 대전광역시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신영무 대한민국 서울특별시 강남구 영동대로 ***(대치동) KT&G타워 *층(에스앤엘파트너스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2003.07.22 수리 (Accepted) 1-1-2003-0266092-46
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2005.02.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2005.03.16 수리 (Accepted) 9-1-2005-0015961-10
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2005.05.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0222194-01
5 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2005.07.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2005-0383540-35
6 의견서
Written Opinion
2005.07.15 수리 (Accepted) 1-1-2005-0383545-63
7 등록결정서
Decision to grant
2005.11.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0579358-64
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
1 1
히팅 코일이 구비된 반응실과,웨이퍼를 적재하기 위한 보트와,상기 보트를 내부에 구비하며, 상기 보트가 노출되도록 경사지게 개구부가 형성된 튜브와,상기 튜브의 개구부를 덮어 상기 튜브를 밀폐시키며, 일측부에는 상기 튜브내로 주입되는 반응가스의 균일한 흐름을 위해 다수의 가스 유출공이 형성된 튜브 덮개와,상기 튜브를 상기 반응실로 이동시키기 위한 운반대를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조용 횡형 확산로
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 튜브 덮개에 개폐를 위한 손잡이가 구비된 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조용 횡형 확산로
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 운반대는 고리관에 의해 상기 튜브와 연결된 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조용 횡형 확산로
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 튜브에 정화가스를 공급하기 위한 가스 주입구가 더 구비된 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조용 횡형 확산로
6 5
제 1 항에 있어서, 상기 튜브에 정화가스를 공급하기 위한 가스 주입구가 더 구비된 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조용 횡형 확산로
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.