요약 | 본 발명은 반도체 소자의 제조 공정에서 열산화, 열확산, 각종 어닐과 같은 웨이퍼 프로세스에 사용되는 횡형 확산로에 관한 것이다. 원통 형태의 석영 튜브에는 비스듬히 절재된 모양의 경사진 개구부가 형성되어 보트가 내부에 위치된 상태에서 개구부를 통해 웨이퍼를 보트에 용이하게 적재할 수 있으며, 개구부를 밀폐하기 위한 튜브 덮개에는 다수의 가스 유출공을 갖는 가스 주입구가 형성되어 반응가스가 석영 튜브 내부로 균일하게 공급됨으로써 두께가 균일한 박막을 성장시킬 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면 튜브 덮개가 개구부에 덮힌 상태에서 석영 튜브가 반응실로 이동하기 때문에 외부로부터 대기가스의 유입이 차단되어 자연산화막의 성장이 최소화된다. 확산로, 석영 튜브, 개구부, 가스 주입구, 가스 유출공 |
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Int. CL | H01L 21/22 (2006.01) |
CPC | H01L 21/67109(2013.01) H01L 21/67109(2013.01) H01L 21/67109(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020030050042 (2003.07.22) |
출원인 | 한국전자통신연구원 |
등록번호/일자 | 10-0531012-0000 (2005.11.18) |
공개번호/일자 | 10-2005-0010661 (2005.01.28) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20051128) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2003.07.22) |
심사청구항수 | 4 |