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인접하는 제1 이득영역과 제2 이득영역을 구비하는 추출격자 분포궤환 파장가변 레이저 다이오드에 있어서, 상기 제1 이득영역에 제1 주기를 가지는 제1 추출격자가 형성되고, 상기 제1 추출격자 사이에 제1 위상제어 영역이 형성된 제1 SG-DFB 구조부; 및 상기 제2 이득영역에 제2 주기를 가지는 제2 추출격자가 형성되고 상기 제2 추출격자 사이에 제2 위상제어 영역이 형성된 제2 SG-DFB 구조부를 구비하며, 상기 제1 및 제2 위상제어 영역의 굴절률 변화에 따라 발진하는 레이저의 파장이 가변되는 추출격자 분포궤환 레이저 다이오드
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제 1 항에 있어서, 상기 제1 추출격자와 상기 제2 추출격자를 형성하는 각각의 회절격자의 주기는 서로 동일한 것을 특징으로 하는 추출격자 분포궤환 레이저 다이오드
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제 1 항에 있어서, 상기 제1 위상제어영역과 상기 제2 위상제어영역의 굴절률 변화는 상기 제1 위상제어영역과 상기 제2 위상제어영역에 각각 인가되는 전류량을 변화시킴으로서 이루어지는 것을 특징으로 하는 추출격자 분포궤환 레이저 다이오드
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제 1 항에 있어서, 상기 제1 위상제어영역 또는 상기 제2 위상제어영역의 굴절률을 변화시킴으로서, 상기 발진하는 레이저의 파장이 불연속적으로 가변되도록 하는 것을 특징으로 하는 추출격자 분포궤환 레이저 다이오드
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제 1 항에 있어서, 상기 제1 위상제어영역 및 상기 제2 위상제어영역의 굴절률을 동일한 크기로 변화시켜, 상기 발진하는 레이저의 파장이 연속적으로 가변되도록 하는 것을 특징으로 하는 추출격자 분포궤환 레이저 다이오드
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제 1 항의 추출격자 분포궤환 레이저 다이오드에 광 변조기 또는 광 증폭기가 함께 집적되는 광통신소자
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서로 인접한 제1 영역과 제2 영역을 가지는 기판; 상기 기판상의 상기 제1 영역과 상기 제2 영역에 형성된 도파로층; 상기 도파로층 내부에 형성되며, 복수의 위상제어영역을 두기 위해 소정 간격마다 구비된 다중 양자 우물 활성층; 제1 주기를 가지며 상기 위상제어영역이 추출격자 사이에 형성된 제1 추출격자 영역; 제2 주기를 가지며 상기 위상제어영역이 추출격자 사이에 형성된 제2 추출격자 영역; 상기 도파로층상에 구비된 클래드층; 상기 제1 영역의 상기 클래드층 상에 형성되며, 상기 제1 영역의 위상제어영역에 전류를 제공하기 위한 제1 위상제어용 전극; 상기 제2 영역의 상기 클래드층 상에 형성되며, 상기 제2 영역의 위상제어영역에 전류를 제공하기 위한 제2 위상제어용 전극; 상기 제1 영역의 상기 클래드층 상에 형성되며, 상기 제1 영역의 위상제어영역 이외의 도파로층에 전류를 제공하기 위한 제1 이득영역용 전극; 및 상기 제2 영역의 상기 클래드층 상에 형성되며, 상기 제2 영역의 위상제어영역 이외의 도파로층에 전류를 제공하기 위한 제2 이득영역용 전극을 구비하여, 발진하는 레이저의 파장을 가변할 수 있는 추출격자 분포궤환 레이저 다이오드
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제 7 항에 있어서, 상기 제1 추출격자의 주기와 상기 제2 추출격자의 주기는 서로 다르게 구성되고, 상기 제1 및 제2 추출격자에 의한 회절격자 주기는 동일하게 구성된 것을 특징으로 하는 추출격자 분포궤환 반도체 레이저
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제 7 항에 있어서, 상기 기판은 n형 InP 기판이고, 상기 도파로층 등은 InGaAsP계열로 이루어지며, 상기 클래드층은 p형 InP인 것을 특징으로 하는 추출격자 분포궤환 레이저 다이오드
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10
제 7 항에 있어서, 상기 제1 영역의 위상제어영역 또는 상기 제2 영역의 위상제어영역의 굴절률을 변화시킴으로서, 상기 발진하는 레이저의 파장이 불연속적으로 가변되도록 하는 것을 특징으로 하는 추출격자 분포궤환 레이저 다이오드
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제 7 항에 있어서, 상기 제1 영역의 위상제어영역 및 상기 제2 영역의 위상제어영역의 굴절률을 동일한 크기로 동시에 변화시킴으로서, 상기 발진하는 레이저의 파장이 연속적으로 가변되도록 하는 것을 특징으로 하는 추출격자 분포궤환 레이저 다이오드
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제 7 항의 추출격자 분포궤환 레이저 다이오드에 광 변조기 또는 광 증폭기가 함께 집적되는 광통신소자
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