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초고속 폴리머 마하-젠더 광변조기를 위한 진행파형코플라나 전극의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015097530
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 코플라나 진행파형 전극구조를 사용하여 저손실, 넓은 대역폭을 구현하고 광변조기의 광삽입 손실, 동작전압 및 직류드리프트를 줄이는데 적합한 초고속 폴리머 광변조기 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 이를 위한 본 발명의 초고속폴리머 광변조기의 제조 방법은 마하-젠더 간섭계 구조의 채널광도파로와 진행파형 코플라나전극을 포함하고, 폴리머다층박막을 식각하여 채널광도파로를 형성하는 제 1 단계, 상기 채널광도파로와 진행파형 코플라나전극이 교차하는 경계면에 상기 코플라나전극이 광도파로 상부를 지나도록 경사면을 형성하는 제 2 단계, 상기 채널광도파로 좌우를 반응성이온식각법으로 식각하고 내부에 전기도금으로 상기 진행파형 코플라나전극을 형성하는 제 3 단계를 포함하여 이루어진다.광변조기, 코플라나전극, 광도파로
Int. CL G02F 1/1343 (2006.01)
CPC G02F 1/0316(2013.01) G02F 1/0316(2013.01) G02F 1/0316(2013.01)
출원번호/일자 1019990061211 (1999.12.23)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0315419-0000 (2001.11.09)
공개번호/일자 10-2001-0057801 (2001.07.05) 문서열기
공고번호/일자 (20011126) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1999.12.23)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 민유홍 대한민국 대전광역시중구
2 이명현 대한민국 대전광역시유성구
3 편광의 대한민국 대전광역시서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정지원 대한민국 서울특별시 서초구 반포대로**길**, ***호(서초동,서초빌리지프라자)(특허법인이노(제*분사무소))
2 최종식 대한민국 서울특별시 송파구 중대로 ***, ID타워 ***호 (가락동)(신성특허법인(유한))
3 신성특허법인(유한) 대한민국 서울특별시 송파구 중대로 ***, ID타워 ***호 (가락동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 1999.12.23 수리 (Accepted) 1-1-1999-0179683-59
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2001.08.16 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2001.09.10 수리 (Accepted) 9-1-2001-0017071-09
5 등록결정서
Decision to grant		 2001.10.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2001-0300479-77
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
1 1

진행파형 코플라나전극을 포함하고 있는 초고속 폴리머 광변조기에 있어서,

채널광도파로;

전기장과 도파모드의 중첩상수를 증가시키기 위해 상기 채널광도파로 좌우를 식각하여 형성된 진행파형 코플라나 전극;

상기 코플라나전극과 채널광도파로가 교차하는 영역에서 상기 코플라나전극이 상기 채널광도파로 상부로 지나가도록 하기 위해 형성된 경사면; 및

코플라나 구조의 커플러를 통해 마이크로파를 입출력하기 위한 입출력단

을 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 초고속 폴리머 광변조기

2 2

제 1 항에 있어서,

상기 진행파형 코플라나 전극은 접지용전극과 마이크로파가 진행하는 동작영역의 코플라나전극으로 이루어지며, 상기 접지용전극과 동작영역의 코플라나전극이 한 평면에 형성됨을 특징으로 하는 초고속 폴리머 광변조기

3 3

제 1 항에 있어서,

상기 광도파로는 마하-젠더 간섭계 구조로 형성되며, 상기 광도파로의 모드가 광입출력단에서 광파이버의 모드와 일치하며, 상기 동작영역에서는 그 폭이 최소가 되는 것을 특징으로 하는 초고속 폴리머 광변조기

4 4

마하-젠더 간섭계 구조의 채널광도파로와 진행파형 코플라나전극을 포함하는 초고속 폴리머 광변조기의 제조 방법에 있어서,

폴리머다층박막을 식각하여 채널광도파로를 형성하는 제 1 단계;

상기 채널광도파로와 진행파형 코플라나전극이 교차하는 경계면에 상기 코플라나전극이 광도파로 상부를 지나도록 경사면을 형성하는 제 2 단계; 및

상기 채널광도파로 좌우를 반응성이온식각법으로 식각하고 내부에 전기도금으로 상기 진행파형 코플라나전극을 형성하는 제 3 단계;

를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 초고속 폴리머 광변조기의 제조 방법

5 5

제 4 항에 있어서,

상기 제 1 단계는,

광이 입력되는 광입출력단에서의 광파이버모드와 일치하는 제1광도파로를 형성하는 단계; 및

상기 코플라나전극의 사이의 간격을 줄이도록 상기 제1광도파로의 폭을 서서히 줄여 동작영역에서 폭이 최소가 되는 제2광도파로를 형성하는 단계

를 더 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 초고속 폴리머 광변조기의 제조 방법

6 6

제 4 항에 있어서,

상기 제 2 단계에서,

상기 진행파형 코플라나전극은 마이크로파 입력단의 코플라나 전극, 마이크로파 출력단의 코플라나전극 및 접지용전극을 포함함을 특징으로 하는 초고속 폴리머 광변조기의 제조 방법

7 7

제 4 항에 있어서,

상기 제 3 단계에서,

상기 경사면은 그레이포토마스크와 반응성이온식각법을 사용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 초고속 폴리머 광변조기의 제조 방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.