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비선형 광학 폴리이미드, 그의 제조방법 및 전기한비선형광학폴리이미드를사용한광도파로형광소자

  • 기술번호 : KST2015098055
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 하기 일반식 (1)및 (2)로 표시되는 비선형 광학 폴리이미드, 그의제조방법 및 하기 일반식 (1)및 (2)로 표시되는 비선형 광학 폴리이미드를 코어층으로서 사용한 광도파로형 광소자에 관한 것이다.상기 식에서,n은 유변기의 길이로서, 2내지 10의 자연수이고;X는 C(CF3)2, C(CH3)2, Si(CH3)2, CO, SO2, O및 S이고;D는 전자주게기로, O, NH및 알킬아민(N-R1, 이때 R1은 C1내지 Ca의 알킬기)이고;B는 연결기로 아무것도 없거나, CH=CH, N=N, C=C이고;A는 전자받게기로, N02, 트리시아노에틸렌, CN, SO2R2(이때,R2는 C1내지 C6의 알킬기)이고; 및, Y는 C(CF3)2, C(CH3)2, Si(CH3)2, CO, SO2, O및 S이다.
Int. CL C08G 73/10 (2006.01) G02F 1/00 (2006.01)
CPC C08G 73/1075(2013.01) C08G 73/1075(2013.01) C08G 73/1075(2013.01)
출원번호/일자 1019960020080 (1996.06.05)
출원인 한국전자통신연구원, 주식회사 케이티
등록번호/일자 10-0169910-0000 (1998.10.13)
공개번호/일자 10-1998-0002108 (1998.03.30) 문서열기
공고번호/일자 (19990320) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1996.06.05)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 주식회사 케이티 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이형종 대한민국 대전광역시 유성구
2 이명현 대한민국 대전광역시 유성구
3 한선규 대한민국 대전광역시 서구
4 원용협 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 대흥빌딩 ***호 (역삼동)
2 원혜중 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, 서울빌딩 *층 (역삼동)
3 이화익 대한민국 서울시 강남구 테헤란로*길** (역삼동,청원빌딩) *층,***,***호(영인국제특허법률사무소)
4 김명섭 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 테헤란오피스빌딩 ***호 시몬국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 주식회사 케이티 대한민국 경기도 성남시 분당구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
1996.06.05 수리 (Accepted) 1-1-1996-0076548-52
2 출원심사청구서
Request for Examination
1996.06.05 수리 (Accepted) 1-1-1996-0076550-44
3 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1996.06.05 수리 (Accepted) 1-1-1996-0076549-08
4 출원인정보변경 (경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1997.03.05 수리 (Accepted) 1-1-1996-0076551-90
5 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1997.08.26 수리 (Accepted) 1-1-1996-0076552-35
6 등록사정서
Decision to grant
1998.08.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1996-0030808-55
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.20 수리 (Accepted) 4-1-1999-0010652-29
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2000-0005008-66
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.04.09 수리 (Accepted) 4-1-2002-0032774-13
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.03.13 수리 (Accepted) 4-1-2009-5047686-24
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2010-5068437-23
15 출원인정보변경(경정)신고서
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2012.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2012-5005621-98
16 출원인정보변경(경정)신고서
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2012.03.21 수리 (Accepted) 4-1-2012-5058926-38
17 출원인정보변경(경정)신고서
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2012.06.08 수리 (Accepted) 4-1-2012-5122434-12
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.07.31 수리 (Accepted) 4-1-2013-5106568-91
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018159-78
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
1 1

하기 일반식(1)로 표시되는 비선형 광학 폴리이미드 :

2

하기 일반식(2)로 표시되는 비선형 광학 폴리이미드:

3

방향족 디언하이드라이드 유도체와 디아미노 페놀 디하이드로클로라이드 화합물을 열축증합반응시켜 페놀릭 하이드록시기를 지닌 폴리이미드를 제조하는 단계와, 상기한 페놀릭 하이드록시기를 지닌 폴리이미드의 주쇄에 크로모포 화합물을 공유결합시켜 비선형 광학 폴리이미드를 제조하는 단계를 포함하는 하기 일반식(1)로 표시되는 비선형 광학 폴리이미드의 제조방법:

4

방향족 디언하이드라이드 유도체와 디아미노 디페놀 디하이드로클로라이드 유도체를 열축증합반응시켜 디페놀릭 디하이드록시기를 지닌 폴리이미드를 제조하는 단계와, 상기한 디페놀릭 디하이드록시기를 지닌 폴리이미드의 주쇄에 크로모포화합물을 공유결합시켜 비선형 광학 폴리이미드를 제조하는 단계를 포함하는 하기 일반식(2)로 표시되는 비선형 광학 폴리이미드의 제조방법 :

5

실리콘기판 상에 형성된 하부전극과, 상기한 하부전극 상에 형성된 하부 클래딩층과, 상기한 하부 클래딩층 상에 형성된 코어층과, 상기한 코어층상에 형성된 상부 클래딩층과, 상기한 상부 클래딩층 상에 형성된 상부 전극을 포함하는 광도파로형 광소자에 있어서, 상기한 코어층으로는 하기 일반식(1)로 표시되는 비선형 광학 폴리이미드를 사용한 것을 특징으로 하는 광도파로형 광소자 :

6

실리콘기판 상에 형성된 하부전극과, 상기한 하부전극 상에 형성된 하부 클래딩층과, 상기한 하부 클래딩층 상에 형성된 코어층과, 상기한 코어층상에 형성된 상부 클래딩층과, 상기한 상부 클래딩층 상에 형성된 상부 전극을 포함하는 광도파로형 광소자에 있어서, 상기한 코어층으로는 하기 일반식(2)로 표시되는 비선형 광학 폴리이미드를 사용한 것을 특징으로 하는 광도파로형 광소자 :

지정국 정보가 없습니다

패밀리정보가 없습니다
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