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번호
이름
국적
주소
1
한국전자통신연구원
대한민국
대전광역시 유성구
2
주식회사 케이티
대한민국
경기도 성남시 분당구
발명자
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번호
이름
국적
주소
1
이형종
대한민국
대전광역시 유성구
2
이명현
대한민국
대전광역시 유성구
3
한선규
대한민국
대전광역시 서구
4
원용협
대한민국
대전광역시 유성구
대리인
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번호
이름
국적
주소
1
김영길
대한민국
서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 대흥빌딩 ***호 (역삼동)
2
원혜중
대한민국
서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, 서울빌딩 *층 (역삼동)
3
이화익
대한민국
서울시 강남구 테헤란로*길** (역삼동,청원빌딩) *층,***,***호(영인국제특허법률사무소)
4
김명섭
대한민국
서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 테헤란오피스빌딩 ***호 시몬국제특허법률사무소 (역삼동)
최종권리자
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번호
이름
국적
주소
1
한국전자통신연구원
대한민국
대전광역시 유성구
2
주식회사 케이티
대한민국
경기도 성남시 분당구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호
서류명
접수/발송일자
처리상태
접수/발송번호
1
특허출원서 Patent Application
1996.06.05
수리 (Accepted)
1-1-1996-0076548-52
2
출원심사청구서 Request for Examination
1996.06.05
수리 (Accepted)
1-1-1996-0076550-44
3
대리인선임신고서 Notification of assignment of agent
1996.06.05
수리 (Accepted)
1-1-1996-0076549-08
4
출원인정보변경 (경정)신고서 Notification of change of applicant's information
1997.03.05
수리 (Accepted)
1-1-1996-0076551-90
5
대리인선임신고서 Notification of assignment of agent
1997.08.26
수리 (Accepted)
1-1-1996-0076552-35
6
등록사정서 Decision to grant
1998.08.26
발송처리완료 (Completion of Transmission)
1-5-1996-0030808-55
7
출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information
1999.01.20
수리 (Accepted)
4-1-1999-0010652-29
8
출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information
2000.01.14
수리 (Accepted)
4-1-2000-0005008-66
9
출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information
2001.04.19
수리 (Accepted)
4-1-2001-0046046-20
10
출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information
2002.04.09
수리 (Accepted)
4-1-2002-0032774-13
11
출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information
2002.08.08
수리 (Accepted)
4-1-2002-0065009-76
12
출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information
2009.03.13
수리 (Accepted)
4-1-2009-5047686-24
13
출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information
2009.08.04
수리 (Accepted)
4-1-2009-5150899-36
14
출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information
2010.04.19
수리 (Accepted)
4-1-2010-5068437-23
15
출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information
2012.01.10
수리 (Accepted)
4-1-2012-5005621-98
16
출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information
2012.03.21
수리 (Accepted)
4-1-2012-5058926-38
17
출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information
2012.06.08
수리 (Accepted)
4-1-2012-5122434-12
18
출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information
2013.07.31
수리 (Accepted)
4-1-2013-5106568-91
19
출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information
2014.02.11
수리 (Accepted)
4-1-2014-5018159-78
20
출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information
2015.02.02
수리 (Accepted)
4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호
청구항
1
1
하기 일반식(1)로 표시되는 비선형 광학 폴리이미드 :
2
하기 일반식(2)로 표시되는 비선형 광학 폴리이미드:
3
방향족 디언하이드라이드 유도체와 디아미노 페놀 디하이드로클로라이드 화합물을 열축증합반응시켜 페놀릭 하이드록시기를 지닌 폴리이미드를 제조하는 단계와, 상기한 페놀릭 하이드록시기를 지닌 폴리이미드의 주쇄에 크로모포 화합물을 공유결합시켜 비선형 광학 폴리이미드를 제조하는 단계를 포함하는 하기 일반식(1)로 표시되는 비선형 광학 폴리이미드의 제조방법:
4
방향족 디언하이드라이드 유도체와 디아미노 디페놀 디하이드로클로라이드 유도체를 열축증합반응시켜 디페놀릭 디하이드록시기를 지닌 폴리이미드를 제조하는 단계와, 상기한 디페놀릭 디하이드록시기를 지닌 폴리이미드의 주쇄에 크로모포화합물을 공유결합시켜 비선형 광학 폴리이미드를 제조하는 단계를 포함하는 하기 일반식(2)로 표시되는 비선형 광학 폴리이미드의 제조방법 :
5
실리콘기판 상에 형성된 하부전극과, 상기한 하부전극 상에 형성된 하부 클래딩층과, 상기한 하부 클래딩층 상에 형성된 코어층과, 상기한 코어층상에 형성된 상부 클래딩층과, 상기한 상부 클래딩층 상에 형성된 상부 전극을 포함하는 광도파로형 광소자에 있어서, 상기한 코어층으로는 하기 일반식(1)로 표시되는 비선형 광학 폴리이미드를 사용한 것을 특징으로 하는 광도파로형 광소자 :
6
실리콘기판 상에 형성된 하부전극과, 상기한 하부전극 상에 형성된 하부 클래딩층과, 상기한 하부 클래딩층 상에 형성된 코어층과, 상기한 코어층상에 형성된 상부 클래딩층과, 상기한 상부 클래딩층 상에 형성된 상부 전극을 포함하는 광도파로형 광소자에 있어서, 상기한 코어층으로는 하기 일반식(2)로 표시되는 비선형 광학 폴리이미드를 사용한 것을 특징으로 하는 광도파로형 광소자 :
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.
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특허 등록번호
10-0169910-0000
권리란
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표시번호
사항
1
출원 연월일 : 19960605
출원 번호 : 1019960020080
공고 연월일 : 19990320
공고 번호 :
특허결정(심결)연월일 : 19980826
청구범위의 항수 : 6
유별 : C08G 73/10
발명의 명칭 : 비선형 광학 폴리이미드, 그의 제조방법 및 전기한비선형광학폴리이미드를사용한광도파로형광소자
존속기간(예정)만료일 : 20041014
특허권자란
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