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일방향으로 트렌치가 형성된 기판, 상기 기판 상의 상기 일방향으로 형성된 도전성의 접지라인, 및 상기 기판 상의 상기 일방향으로 형성되고 소정 부분의 개방부를 갖는 신호라인을 구비한 기판부;상기 기판과 일정 간격 이격되어 있으며 상기 트렌치에 삽입될 수 있는 깊은 주름이 형성된 전극판, 및 상기 전극판 내부에 형성되되 상기 전극판과 전기적으로 절연되고 상기 개방부를 연결할 수 있는 접촉수단을 구비한 이동판부; 및상기 이동판부를 지지하는 지지부;를 포함하는 미세전자기계적 구조(Micro-electro Mechanical Systems; MEMS) 스위치
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제1 항에 있어서,상기 트렌치, 접지라인 및 신호라인은 소정 간격으로 서로 이격되어 형성되고,상기 지지부는 상기 일방향과 수직방향의 상기 기판의 양 끝단의 적어도 한 부분에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치
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제2 항에 있어서,상기 신호라인은 상기 기판의 중앙부에 형성되고, 상기 지지부는 상기 기판 양 끝단 각각에 형성되며,상기 접지라인은 상기 신호라인과 지지부 사이로 각각 형성되고,상기 트렌치는 상기 지지부와 접지라인 사이에 각각 및 상기 신호라인과 접지라인 사이에 각각 형성되는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치
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제1 항에 있어서,상기 지지부는, 상기 기판 상에 형성되고 상기 전극판과 전기적으로 연결된 지지대 메탈인 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치
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제1 항에 있어서,상기 이동판부는,상기 접지라인 상에 형성되고 상기 이동판부를 지지하며 상기 기판으로부터 일정 간격 이격시키는 지지돌출부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치
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제5 항에 있어서,상기 지지돌출부는 내부로 쇄기 형상의 홈이 형성된 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치
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제1 항에 있어서,상기 이동판부는 상기 접지라인과의 단락을 방지하기 위하여 상기 전극판 하부에 절연막을 포함하는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치
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제7 항에 있어서,상기 개방부 상부로 상기 절연막 상에 상기 전극판과 전기적으로 고립된 도전성 스위칭 라인이 형성되고,상기 접촉수단은 상기 도전성 스위칭 라인에 연결되고 상기 개방부 방향의 상기 신호라인 양 끝단과 접촉할 수 있는 위치에 절연막을 관통하여 돌출되어 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치
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삭제
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제1 항에 있어서,상기 이동판부는 탄성복원력을 갖는 물질들로 형성되어 상하 이동할 수 있는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치
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제10 항에 있어서,상기 접지라인은 제1 전극이 되고 상기 전극판이 제2 전극이 되며,상기 제1 및 제2 전극에 전압이 인가되는 경우에 상기 접지라인과 상기 전극판의 정전기적 인력에 의해 상기 개방부가 상기 접촉수단을 통해 연결되는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치
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기판 상의 일방향으로 도전성 접지라인 및 일정 부분의 개방부를 갖는 도전성 신호라인을 형성하는 단계;상기 기판의 상기 일방향으로 소정 부분을 식각하여 트렌치를 형성하는 단계;상기 일방향과 수직방향의 상기 기판의 양 끝단의 적어도 한 부분에 지지대 메탈을 형성하는 단계;상기 지지대 메탈이 형성 후 기판 전면으로 일정의 두께를 가진 희생막을 형성하는 단계;상기 희생막 상부로 상기 지지대 메탈에 연결된 전극막, 및 상기 전극막 내부로 형성되되 상기 전극막과 전기적으로 절연되고 상기 개방부를 연결할 수 있는 접촉수단을 구비한 이동판부를 형성하는 단계; 및상기 희생막을 제거하는 단계;를 포함하는 미세전자기계적 구조(Micro-electro Mechanical Systems; MEMS) 스위치 제조방법
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제12 항에 있어서,상기 신호라인은 상기 기판의 중앙부에 형성하고, 상기 지지대 메탈은 상기 기판 양 끝단 각각에 형성하며,상기 접지라인은 상기 신호라인과 지지대 메탈 사이로 각각 형성하고,상기 트렌치는 상기 지지대 메탈과 접지라인 사이에 각각 및 상기 신호라인과 접지라인 사이에 각각 형성하는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치의 제조방법
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제12 항에 있어서,상기 희생막의 형성단계는,상기 희생막을 식각하여 상기 지지대 메탈 및 상기 접지라인의 일정 부분을 노출시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치 제조방법
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제14 항에 있어서,상기 이동판부를 형성하는 단계는,상기 노출 단계 이후 기판 전면에 절연막을 형성하는 단계;상기 개방부의 상기 신호라인 양 끝단 상부의 상기 절연막 및 희생막을 식각하고 내부를 도전성 물질로 매립하여 접촉수단을 형성하는 단계;및상기 절연막 및 접촉수단 상에 전극막을 형성하고 상기 접촉수단 상의 전극막 주변을 식각하여 스위칭 전극라인을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치 제조방법
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제15 항에 있어서,상기 절연막 및 희생막의 식각 과정에서,상기 지지대 메탈 상부의 절연막을 식각하여 노출시키는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치 제조방법
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제15 항에 있어서,상기 스위칭 전극라인을 형성하는 단계에서,상기 접지라인 일정부분의 절연막 상에 형성된 전극막을 식각하여 지지돌출부를 형성하는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치 제조방법
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제12 항에 있어서,상기 이동판부는 탄성복원력을 갖는 물질들로 형성하는 것을 특징으로 하는 MEMS 스위치 제조방법
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