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제1기판;상기 제1기판에 이격되어 방전될 가스가 도입되는 공간을 제공하는 투명한 제2기판;상기 제1기판 및 상기 제2기판 사이를 단위 표시 셀 별로 구획짓는 격벽들;상기 제1기판에 대향하는 상기 제2기판 면 상에 도입되는 형광층;상기 단위 표시 셀 별로 상기 형광층에 대향되는 상기 제1기판 면 상에 도입되어 상기 가스의 방전을 위한 전자들을 방출할 전자총이되,상기 제1기판의 표면 보다 낮게 도입되어 캐소드로 이용되는 제1내측 전극,상기 제1내측 전극 상에 도입된 탄소 나노튜브 에미터, 상기 제1기판을 관통하여 상기 제1내측 전극에 연결되는 제1외측 전극,상기 제1기판 상에 상기 제1내측 전극과 이격되고 상기 제1내측 전극 보다 높은 위치로 도입되어 애노드로 이용되는 제2내측 전극, 및상기 제1기판을 관통하여 상기 제2내측 전극에 연결되는 제2외측 전극을 포함하는 전자총; 및상기 제1기판의 후면에 도입되어 상기 방전을 위한 교류 전압이 인가되는 방전 전극들을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널 장치
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제1항에 있어서, 상기 방전 전극들은 일정 전압으로 스캔(scan)하는 스캔 전극(scan electrode)과 상기 방전을 유지할 전압이 인가되는 유지 전극(sustain electrode)으로 구분되고, 상기 전자총은 상기 셀들 중 어느 특정 셀을 선택하는 데이터 전극으로 역할 하거나 또는 상기 스캔 전극 또는 상기 유지 전극이 상기 데이터 전극으로 역할 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널 장치
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제1항에 있어서, 상기 전자총은상기 탄소 나노튜브 에미터를 포함하는 전계 방출형 전자총인 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널 장치
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제1항에 있어서, 상기 방전 전극은 이웃하는 상기 단위 표시 셀들에 공통으로 공유되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널 장치
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7
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제1기판을 도입하는 단계; 상기 제1기판 상에 트렌치(trench)를 형성하는 단계; 상기 트렌치가 형성된 상기 제1기판 상에 제1금속층을 형성하는 단계; 상기 제1금속층을 패터닝하여 상기 트렌치 바닥에 캐소드로 이용될 제1내측 전극을 형성하고 상기 트렌치 주위에 애노드로 이용될 제2내측 전극을 형성하는 단계; 상기 제2내측 전극을 적어도 덮는 절연층을 상기 제1기판 상에 형성하는 단계; 상기 절연층을 식각하여 상기 제1내측 전극의 상측 표면을 선택적으로 노출하는 단계; 상기 제1내측 전극의 상측 표면에 탄소 나토튜브들을 형성하여 전자들을 방출할 탄소 나노튜브 에미터를 형성하는 단계; 상기 제1기판의 후면으로부터 관통하여 상기 제1내측 전극 및 상기 제2내측 전극의 후면을 각각 노출하는 제1비아홀 및 제2비아홀을 형성하는 단계; 상기 제1비아홀 및 상기 제2비아홀을 채우는 제2금속층을 상기 제1기판 후면 상에 형성하는 단계; 상기 제2금속층을 패터닝하여, 상기 제1비아홀을 통해서 상기 제1내측 전극에 연결되는 제1외측 전극, 상기 제2비아홀을 통해서 상기 제2내측 전극에 연결되는 제2외측 전극, 및 교류 전압을 제공하는 방전 전극들을 상기 제1기판 후면에 각각 형성하는 단계; 및 상기 절연층 상에 도입되어 단위 표시 셀들을 구획짓는 격벽들에 의해서 상기 제1기판과 이격되어 방전될 가스가 도입되는 공간을 제공하고 상기 제1기판에 대향하게 형광층을 구비하는 제2기판을 상기 제1기판 상에 도입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널 장치를 제조하는 방법
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제8항에 있어서, 상기 제1금속층을 형성하는 단계 이전에 상기 트렌치 주위를 노출하는 포토레지스트 패턴을 상기 제1기판 상에 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 제1금속층을 패터닝하는 단계는 상기 포토레지스트 패턴을 리프트 오프(lift off)하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널 장치를 제조하는 방법
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제8항에 있어서, 상기 제1금속층은 최상층이 금층인 다중층으로 형성되고, 상기 제1내측 전극의 상측 표면에 탄소 나토튜브들을 형성하는 단계는 탄소 나노튜브들을 준비하는 단계; 상기 탄소 나노튜브들의 말단기로 황화 수소기를 치환하는 단계; 상기 탄소 나노튜브들이 분산된 에탄올 용액을 준비하는 단계; 및 상기 에탄올 용액에 상기 제1기판을 담가 상기 금층 상에 황화 결합을 통해 상기 탄소 나노튜브들을 선택적으로 부착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널 장치를 제조하는 방법
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제8항에 있어서, 상기 제1금속층은 최상층이 니켈층 또는 철층인 다중층으로 형성되고, 상기 제1내측 전극의 상측 표면에 탄소 나토튜브들을 형성하는 단계는 상기 니켈층 또는 철층으로부터 탄소 나노튜브를 화학 기상 증착으로 성장시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널 장치를 제조하는 방법
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제8항에 있어서, 상기 제1금속층은 최상층이 니켈층 또는 철층인 다중층으로 형성되고, 상기 제1내측 전극의 상측 표면에 탄소 나토튜브들을 형성하는 단계는 상기 니켈층 또는 철층으로부터 탄소 나노튜브를 화학 기상 증착으로 성장시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널 장치를 제조하는 방법
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