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저전압 구동 플라즈마 표시 패널 장치 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015099737
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 저전압 구동 플라즈마 표시 패널(plasma display panel) 장치 및 그 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 일 관점에 따른 장치는 고효율 저전압 구동 전자총을 포함하여 구성된다. 예를 들어, 제1기판과, 제1기판에 이격되어 방전될 가스가 도입되는 공간을 제공하는 투명한 제2기판과, 제1기판 및 상기 제2기판 사이를 단위 표시 셀 별로 구획짓는 격벽들과, 제1기판에 대향하는 상기 제2기판 면 상에 도입되는 형광층과, 단위 표시 셀 별로 형광층에 대향되는 제1기판 면 상에 도입되어 가스의 방전을 위한 전자들을 방출할 전자총이되, 제1기판의 표면 보다 낮게 도입되어 캐소드로 이용되는 제1내측 전극, 제1내측 전극 상에 도입된 탄소 나노튜브 에미터, 제1기판을 관통하여 제1내측 전극에 연결되는 제1외측 전극, 제1기판 상에 도입된 애노드로 이용되는 제2내측 전극, 및 이에 연결되는 제2외측 전극을 포함하는 전자총, 및 제1기판의 후면에 도입되어 방전을 위한 교류 전압이 인가되는 방전 전극들을 포함하여 구성될 수 있다.
Int. CL H01J 11/42 (2006.01) H01J 9/02 (2006.01) H01J 11/36 (2006.01) H01J 11/22 (2006.01)
CPC H01J 11/32(2013.01) H01J 11/32(2013.01) H01J 11/32(2013.01)
출원번호/일자 1020020073314 (2002.11.23)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0528965-0000 (2005.11.09)
공개번호/일자 10-2004-0045513 (2004.06.02) 문서열기
공고번호/일자 (20051115) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.11.23)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 권성구 대한민국 대전광역시유성구
2 박일용 대한민국 경기도평택시
3 유병곤 대한민국 대전광역시유성구
4 김귀동 대한민국 대전광역시대덕구
5 김상기 대한민국 대전광역시유성구
6 이대우 대한민국 대전광역시유성구
7 양일석 대한민국 대전광역시유성구
8 노태문 대한민국 대전광역시유성구
9 김종대 대한민국 대전광역시서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 리앤목특허법인 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)
2 이해영 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)(리앤목특허법인)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2002.11.23 수리 (Accepted) 1-1-2002-0387672-32
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2004.07.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2004.08.18 수리 (Accepted) 9-1-2004-0050051-18
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2005.04.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0179829-96
5 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2005.06.01 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2005-0291639-76
6 의견서
Written Opinion
2005.06.01 수리 (Accepted) 1-1-2005-0291637-85
7 등록결정서
Decision to grant
2005.10.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0520592-71
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제1기판;상기 제1기판에 이격되어 방전될 가스가 도입되는 공간을 제공하는 투명한 제2기판;상기 제1기판 및 상기 제2기판 사이를 단위 표시 셀 별로 구획짓는 격벽들;상기 제1기판에 대향하는 상기 제2기판 면 상에 도입되는 형광층;상기 단위 표시 셀 별로 상기 형광층에 대향되는 상기 제1기판 면 상에 도입되어 상기 가스의 방전을 위한 전자들을 방출할 전자총이되,상기 제1기판의 표면 보다 낮게 도입되어 캐소드로 이용되는 제1내측 전극,상기 제1내측 전극 상에 도입된 탄소 나노튜브 에미터, 상기 제1기판을 관통하여 상기 제1내측 전극에 연결되는 제1외측 전극,상기 제1기판 상에 상기 제1내측 전극과 이격되고 상기 제1내측 전극 보다 높은 위치로 도입되어 애노드로 이용되는 제2내측 전극, 및상기 제1기판을 관통하여 상기 제2내측 전극에 연결되는 제2외측 전극을 포함하는 전자총; 및상기 제1기판의 후면에 도입되어 상기 방전을 위한 교류 전압이 인가되는 방전 전극들을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널 장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 방전 전극들은 일정 전압으로 스캔(scan)하는 스캔 전극(scan electrode)과 상기 방전을 유지할 전압이 인가되는 유지 전극(sustain electrode)으로 구분되고, 상기 전자총은 상기 셀들 중 어느 특정 셀을 선택하는 데이터 전극으로 역할 하거나 또는 상기 스캔 전극 또는 상기 유지 전극이 상기 데이터 전극으로 역할 하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널 장치
3 3
제1항에 있어서, 상기 전자총은상기 탄소 나노튜브 에미터를 포함하는 전계 방출형 전자총인 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널 장치
4 4
삭제
5 5
제1항에 있어서, 상기 방전 전극은 이웃하는 상기 단위 표시 셀들에 공통으로 공유되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널 장치
6 6
삭제
7 7
삭제
8 8
제1기판을 도입하는 단계; 상기 제1기판 상에 트렌치(trench)를 형성하는 단계; 상기 트렌치가 형성된 상기 제1기판 상에 제1금속층을 형성하는 단계; 상기 제1금속층을 패터닝하여 상기 트렌치 바닥에 캐소드로 이용될 제1내측 전극을 형성하고 상기 트렌치 주위에 애노드로 이용될 제2내측 전극을 형성하는 단계; 상기 제2내측 전극을 적어도 덮는 절연층을 상기 제1기판 상에 형성하는 단계; 상기 절연층을 식각하여 상기 제1내측 전극의 상측 표면을 선택적으로 노출하는 단계; 상기 제1내측 전극의 상측 표면에 탄소 나토튜브들을 형성하여 전자들을 방출할 탄소 나노튜브 에미터를 형성하는 단계; 상기 제1기판의 후면으로부터 관통하여 상기 제1내측 전극 및 상기 제2내측 전극의 후면을 각각 노출하는 제1비아홀 및 제2비아홀을 형성하는 단계; 상기 제1비아홀 및 상기 제2비아홀을 채우는 제2금속층을 상기 제1기판 후면 상에 형성하는 단계; 상기 제2금속층을 패터닝하여, 상기 제1비아홀을 통해서 상기 제1내측 전극에 연결되는 제1외측 전극, 상기 제2비아홀을 통해서 상기 제2내측 전극에 연결되는 제2외측 전극, 및 교류 전압을 제공하는 방전 전극들을 상기 제1기판 후면에 각각 형성하는 단계; 및 상기 절연층 상에 도입되어 단위 표시 셀들을 구획짓는 격벽들에 의해서 상기 제1기판과 이격되어 방전될 가스가 도입되는 공간을 제공하고 상기 제1기판에 대향하게 형광층을 구비하는 제2기판을 상기 제1기판 상에 도입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널 장치를 제조하는 방법
9 9
제8항에 있어서, 상기 제1금속층을 형성하는 단계 이전에 상기 트렌치 주위를 노출하는 포토레지스트 패턴을 상기 제1기판 상에 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 제1금속층을 패터닝하는 단계는 상기 포토레지스트 패턴을 리프트 오프(lift off)하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널 장치를 제조하는 방법
10 10
제8항에 있어서, 상기 제1금속층은 최상층이 금층인 다중층으로 형성되고, 상기 제1내측 전극의 상측 표면에 탄소 나토튜브들을 형성하는 단계는 탄소 나노튜브들을 준비하는 단계; 상기 탄소 나노튜브들의 말단기로 황화 수소기를 치환하는 단계; 상기 탄소 나노튜브들이 분산된 에탄올 용액을 준비하는 단계; 및 상기 에탄올 용액에 상기 제1기판을 담가 상기 금층 상에 황화 결합을 통해 상기 탄소 나노튜브들을 선택적으로 부착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널 장치를 제조하는 방법
11 11
제8항에 있어서, 상기 제1금속층은 최상층이 니켈층 또는 철층인 다중층으로 형성되고, 상기 제1내측 전극의 상측 표면에 탄소 나토튜브들을 형성하는 단계는 상기 니켈층 또는 철층으로부터 탄소 나노튜브를 화학 기상 증착으로 성장시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널 장치를 제조하는 방법
12 11
제8항에 있어서, 상기 제1금속층은 최상층이 니켈층 또는 철층인 다중층으로 형성되고, 상기 제1내측 전극의 상측 표면에 탄소 나토튜브들을 형성하는 단계는 상기 니켈층 또는 철층으로부터 탄소 나노튜브를 화학 기상 증착으로 성장시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 표시 패널 장치를 제조하는 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.