요약 | 본 발명은 SOI(Silicon On Insulator) 구조를 이용한 소오스-표류영역-드레인이 수평으로 배치된 100V급 이상의 전계효과(field effect) 고압소자(high voltage device)를 제조하는데 있어서, 소자의 전류 누설을 방지하기 위한 것으로, SOI(Silicon On Insulator)의 구조를 가지는 기판상에 활성영역을 정의하는 수직격리 트랜치와, 상기 수직 격리 트랜치의 내측에 형성되는 수직격리 트랜치 산화막과, 상기 활성영역에 수평으로 형성된 소오스, 표류영역 및 드레인과, 상기 소오스와 표류영역의 경계부의 상측에 형성되는 수평 게이트를 포함하며, 상기 수평 게이트의 하측 기판내에 소정간격으로 이격되어 형성되며, 수직격리 트랜치의 게이트 산화막에 의해 기판과 절연되어 소정의 면적으로 형성되는 복수의 수직 트랜치 게이트를 구비하는 것을 특징으로 한다. |
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Int. CL | H01L 27/085 (2006.01) |
CPC | H01L 29/7824(2013.01) H01L 29/7824(2013.01) H01L 29/7824(2013.01) |
출원번호/일자 | 1019960067576 (1996.12.18) |
출원인 | 한국전자통신연구원 |
등록번호/일자 | 10-0211964-0000 (1999.05.06) |
공개번호/일자 | 10-1998-0048922 (1998.09.15) 문서열기 |
공고번호/일자 | (19990802) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (1996.12.18) |
심사청구항수 | 5 |