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베이스 기판 위에 전원층(제 1 메탈층), 제 2 메탈층, 제 3메탈층이 비아 홀을 갖는 저유전 절연막(110)을 사이에 두고 순차적으로 형성되는 멀티 칩 모듈 기판에 있어서, 상기 전원층과 제 2 메탈층(114) 사이에 커패시터(109-a) 및 저항(109-b)이 동일한 공정에서 함께 형성된 것을 특징으로 하는 멀티 칩 모듈 기판
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제 1 항에 있어서, 상기 저유전 절연막은 이미 제작된 기판에 손상을 주지 않는 온도 범위에서 증착됨으로써, 공정 안정성을 갖는 질화막인 것을 특징으로 하는 멀티 칩 모듈 기판
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베이스 기판 상에 제 1 절연막(102), 전원층(105), 제 2 절연막(106), 저유전 절연막, 제 2 메탈층이 순차적으로 적층되어 있고, 상기 제 2 절연막(106) 위에 저항과 커패시터가 형성되고, 상기 제 2메탈층(114)과 제 3 메탈층에 인덕터가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 멀티 칩 모듈 기판
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제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 저항(109-b)은 니켈크롬(NiCr)으로 형성되는 것을 특징으로 하는 멀티 칩 모듈 기판
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제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 전원층, 제 2 메탈층 및 제 3 메탈층은 씨드 메탈층과 메인 메탈층의 적층 구조인 것을 특징으로 하는 멀티 칩 모듈 기판
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제 5 항에 있어서, 상기 씨드 메탈층은 타이타늄(Ti)과 구리(Cu)가 적층되어 있는 것을 특징으로 하는 멀티 칩 모듈 기판
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제 5 항에 있어서, 상기 메인 메탈층은 구리(Cu)로 형성되는 것을 특징으로 하는 멀티 칩 모듈 기판
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제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 저유전 절연막은 감광성 폴리이미드인 벤조 사이클로 부텐(BCB : Benzocyclobutene)인 것을 특징으로 하는 멀티 칩 모듈 기판
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제 3 항에 있어서, 상기 제 1 절연막 및 제 2 절연막은 이미 제작된 기판에 손상을 주지 않는 온도 범위에서 증착됨으로써, 공정 안정성을 갖는 질화막인 것을 특징으로 하는 멀티 칩 모듈 기판
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베이스 기판(실리콘 웨이퍼) 위에 씨드 메탈로서 타이타늄(Ti) 및 구리(Cu)를 스퍼터 방식으로 증착한 후, 포토 공정으로 도금하려는 전원층을 패터닝하는 제 1 단계; 상기 제 1 단계에서 증착된 구리층을 전기 도금 방식으로 도금하여 감광막을 스트립하고, 씨드 메탈을 식각하여 전원층을 형성하는 제 2 단계; 상기 전원층 상에 비아 홀(Via Hole)을 갖는 절연막을 형성하고, 상기 절연막 위에 감광막으르 도포하고 포토 공정으로 커패시터 전극과 저항을 형성하기 위하여 저항물질 증착층을 패터닝하는 제 3 단계; 상기 감광막위에 저항물질을 증착한후 리프트 오프(Lift-off) 공정을 이용하여 커패시터 전극과 저항을 형성하는 제 4 단계; 상기 저항물질층 위에 비아 홀을 갖는 저유전 절연막, 씨드 메탈층 및 메인 메탈층이 적층된 제 2 메탈층을 형성하는 제 5 단계; 및 상기 제 5 단계와 동일한 공정 순서로 제 3 메탈층을 형성하는 제 6 단계; 를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 멀티 칩 모듈 기판 제조 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 제 3 단계에서 형성되는 커패시터 전극은 두께가 0
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제 10 항에 있어서, 상기 저유전 절연막은 감광성 폴리이미드인 벤조 사이클로 부텐(BCB : Benzocyclobutene)인 것을 특징으로 하는 멀티 칩 모듈 기판 제조 방법
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제 10 항 또는 제 12 항에 있어서, 상기 절연막은 질화막인 것을 특징으로 하는 멀티 칩 모듈 기판 제조 방법
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제 13 항에 있어서, 상기 질화막(Si3N4)을 증착하는 공정 온도는 상기 벤조 사이클로 부텐이 90% 정도 경화되는 200℃ ∼ 250℃ 범위인 것을 특징으로 하는 멀티 칩 모듈 기판 제조방법
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제 10 항에 있어서, 상기 씨드 메탈층은 스퍼터 방식으로 상온에서 타이타늄(Ti)과 구리(Cu)를 순차적으로 증착하여 형성되는 것을 특징으로 하는 멀티 칩 모듈 기판 제조 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 제 1 메탈층, 제 2 메탈층 및 제 3 메탈층은 전기 도금 방식으로 상온에서 구리를 도금하여 형성되는 것을 특징으로 하는 멀티 칩 모듈 기판 제조 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 제 3 단계는, 상기 저항이 형성될 부분이 개방된 개방부를 갖는 감광막을 상기 절연막 상에 형성한 후, 서멀 에버퍼레이터(Thermal Evaporator) 방식으로 상온에서 니켈크롬을 증착하는 단계; 및 리프트-오프 공정을 통해 상기 감광막과 그 위에 증착된 상기 니켈크롬을 동시에 제거하는 단계; 를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 멀티 칩 모듈 기판 제조방법
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