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반도체제조장치의다중반응로압력제어방법및장치

  • 기술번호 : KST2015101391
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 내용 없음
Int. CL H01L 21/00 (2006.01)
CPC H01L 21/67017(2013.01) H01L 21/67017(2013.01)
출원번호/일자 1019880017973 (1988.12.30)
출원인 한국전자통신연구원, 주식회사 케이티
등록번호/일자 10-0054953-0000 (1992.09.28)
공개번호/일자 10-1990-0010917 (1990.07.11) 문서열기
공고번호/일자 1019920004959 (19920622) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1988.12.30)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 주식회사 케이티 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정기로 대한민국 대전직할시유성구
2 장원익 대한민국 대전시유성구
3 김보우 대한민국 대전시중구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 대흥빌딩 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인한국전자통신연구소 대한민국 대전시유성구
2 한국전기통신공사 대한민국 서울시종로구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원심사청구서
Request for Examination
1988.12.30 수리 (Accepted) 1-1-1988-0104489-82
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1988.12.30 수리 (Accepted) 1-1-1988-0104488-36
3 특허출원서
Patent Application
1988.12.30 수리 (Accepted) 1-1-1988-0104487-91
4 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
1990.01.19 수리 (Accepted) 1-1-1988-0104490-28
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
1992.01.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1988-0057909-68
6 의견서
Written Opinion
1992.02.29 수리 (Accepted) 1-1-1988-0104491-74
7 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
1992.02.29 수리 (Accepted) 1-1-1988-0104492-19
8 출원공고결정서
Written decision on publication of examined application
1992.05.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1988-0057910-15
9 등록사정서
Decision to grant
1992.09.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1988-0057912-06
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.20 수리 (Accepted) 4-1-1999-0010652-29
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2000-0005008-66
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.04.09 수리 (Accepted) 4-1-2002-0032774-13
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.03.13 수리 (Accepted) 4-1-2009-5047686-24
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2010-5068437-23
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2012-5005621-98
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.03.21 수리 (Accepted) 4-1-2012-5058926-38
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.08 수리 (Accepted) 4-1-2012-5122434-12
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.07.31 수리 (Accepted) 4-1-2013-5106568-91
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018159-78
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

가스의 서로다른 동작압력범위를 갖고 작동되는 적어도 2개 이상의 반응으로의 가스압력을 주제어기에 의해 제어하는 다중반응로 압력제어장치에 있어서, 상기 각 반응로의 가스압력을 검출하여 전압신호로 변환하는 복수의 압력센서(PS1~PS5)와, 상기 압력센에 전원을 공급하고 아울러 상기 전압신호를 검출하는 전력공급 및 독출회로와, 상기 반응로에 각각 접속된 진공밸브(V1~V5)와, 구동신호를 입력하여 상기 각 진공밸브의 배기라인을 개폐하여 상기반응로의 압력을 조절하는 드로틀밸브와, 상기 드로틀밸브에 접속되어 배기라인내를 진공상태로 발생하기 위한 진공펌프와, 소정의 정보에 의해 상기 드로틀밸브의 개폐를 제어하는 드로틀밸브제어기와, 상기 압력검출신호와, 주제어기로부터 제공된 반응로의 선택 및 제어지령인 8비트 디지탈신호(D0~D7)와 선택된 반응로의 압력조절값인 5채널 아날로그신호를 제공받아서 상기 전력공급 및 독출회로와 상기 드로틀밸브제어기와의 신호전송의 기능을 수행하는 인터페이스보드를 포함한 것을 특징으로 하는 반도체제조장치의 다중반응로 압력제어장치

2 2

제 1 항에 있어서, 상기 인터페이스보드는 상기 주제어기의 8비트 디지탈신호(D0-D7)중의 2개의 드로틀밸브 개방/페쇄 제어신호비트(D0-D1)를 스위칭하여 상기 드로틀밸브제어기로 제공되게 하는 아날로그 스위치와, 상기 주제어기의 디지탈신호의 제어반응로 선택신호비트(D2-D4)와 상기 전력공급 및 독출회로에서 제공된 반응로 압력신호를 입력하여 승산한 다음 상기 드로틀밸브제어기로 제공하는 아날로그 승산기와, 상기 주제어기의 디지탈신호의 압력표시 반응로 선택신호비트(D5-D7)을 입력하여 8비트의 신호로 해독할 다음 상기 전력공급 및 독출회로로 제공하는 3-대-8 디코더(3-to-8 decoder)로 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 제조장치의 다중반응로 압력제어장치

3 3

가스의 서로다른 동작압력범위를 갖고 작동되는 적어도 2개 이상의 반응로의 가스압력을 제어하는 주제어기와, 상기 각 반응로의 가스압력을 검출하여 전압신호로 변환하는 복수의 압력센서(PS1~PS5)와, 상기 압력센서에 전원을 공급하고 아울러 상기 전압신호를 검출하는 전력공급 및 독출회로와, 상기 반응로에 각각 접속된 진공밸브(V1~V5)와, 구동신호를 입력하여 상기 각 진공밸브의 배기라인을 개폐하여 상기 반응로의 압력을 조절하는 드로틀밸브와, 상기 드로틀밸브에 접속되어 배기라인내를 진공상태로 발생하기 위한 진공펌프와, 소정의 정보에 의해 상기 드로틀밸브의 개폐를 제어하는 드로틀밸브제어기와, 상기 입력검출신호와, 주제어기로부터 제공된 반응로의 선택 및 제어지령인 8비트 디지탈신호(D0~D7)와 선택된 반응로의 압력조절값인 5채널 아날로그신호를 제공받아서 상기 전력공급 및 독출회로와 상기 드로틀밸브제어기와의 신호전송의 기능을 수행하는 인터페이스보드를 구비한 반도체제조장치의 다중반응로 압력 제어방법에 있어서, 반응로를 선택하고 아울러 원하는 압력을 선택하는 단계와, 현재의 해당반응로의 압력을 읽어들이는 단계와, 오차가 허용치보다 큰지의 여부를 판단하여 오차가 허용치보다 큰 경우에는 제어기에 원하는 압력을 셋트시키고, 작은 경우에는 다시 반응로를 선택하고 원하는 압력을 선택하는 단계, 드로틀밸브제어기에 원하는 압력을 셋트시키는 단계와, 챔버로 들어가는 가스를 열로 아울러 진공밸브를 열어 압력제어동작을 수행하는 단계와, 현재 압력을 독출하여 아울러 오차가 허용치보다 작은지를 판단하여 작은 경우에는 가스와 진공밸브를 닫고 다음 반응로를 선택하며, 큰 경우에는 다시 상기 압력제어동작을 수행하는 단계를 포함하는 특징으로 하는 반도체 제조장치의 다중반응로 압력제어방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.