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감소된 위상 오차를 갖는 도파로 및 이를 구비하는 포토닉스 소자

  • 기술번호 : KST2015101610
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 감소된 위상 오차를 갖는 도파로 및 이를 구비하는 포토닉스 소자가 제공된다. 도파로 구조체는 하부 클래드, 적어도 하나의 굴곡 구간을 가지면서 하부 클래드 상에 제공된 코어 패턴, 코어 패턴 상에 배치된 빔 편향 패턴, 및 빔 편향 패턴이 제공된 코어 패턴을 덮는 상부 클래드를 포함할 수 있다. 빔 편향 패턴은 상부 클래드보다 크고 코어 패턴보다 작거나 같은 굴절률을 갖는 물질로 형성될 수 있으며, 굴곡 구간을 따라 증감 또는 진동하는 폭을 갖는 부분을 포함할 수 있다.
Int. CL G02B 6/036 (2006.01.01) G02B 6/02 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020120147254 (2012.12.17)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-2019062-0000 (2019.09.02)
공개번호/일자 10-2014-0078188 (2014.06.25) 문서열기
공고번호/일자 (20190910) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.06.19)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박재규 대한민국 대전 유성구
2 박상기 대한민국 대전 서구
3 김경옥 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.12.17 수리 (Accepted) 1-1-2012-1046761-13
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.01.16 수리 (Accepted) 1-1-2015-0045356-47
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2017.06.19 수리 (Accepted) 1-1-2017-0581639-60
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2018.06.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2018.08.08 수리 (Accepted) 9-1-2018-0041075-97
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.12.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0838318-51
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.01.31 수리 (Accepted) 1-1-2019-0118227-05
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.01.31 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0118228-40
10 등록결정서
Decision to grant
2019.06.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0406610-58
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하부 클래드;적어도 하나의 굴곡 구간을 가지면서 상기 하부 클래드 상에 제공된 코어 패턴;상기 코어 패턴 상에 배치된 빔 편향 패턴; 및상기 빔 편향 패턴이 제공된 상기 코어 패턴을 덮는 상부 클래드를 포함하되, 상기 빔 편향 패턴은 상기 상부 클래드보다 크고 상기 코어 패턴보다 작거나 같은 굴절률을 갖는 물질로 형성되고, 상기 빔 편향 패턴은 상기 굴곡 구간을 따라 증감 또는 진동하는(oscillating) 폭을 갖는 부분을 포함하며,상기 빔 편향 패턴은 상기 굴곡 구간 상에 배치되는 적어도 하나의 삼각형 패턴을 포함하되,상기 삼각형 패턴은 그것의 꼭지점들 중의 하나가 상기 굴곡 구간의 바깥 측벽에 인접하고 다른 꼭지점들은 상기 굴곡 구간의 안쪽 측벽에 인접하도록 형성되는 도파로 구조체
2 2
청구항 1에 있어서, 상기 코어 패턴은 실리콘으로 형성되고, 상기 상부 클래드는 실리콘 산화물으로 형성되고, 상기 빔 편향 패턴은 실리콘 질화물로 형성되는 도파로 구조체
3 3
청구항 2에 있어서, 상기 빔 편향 패턴은 100 nm 내지 400 nm 범위의 두께를 갖도록 형성되는 도파로 구조체
4 4
청구항 1에 있어서, 상기 빔 편향 패턴은 상기 굴곡 구간 상에서 상기 코어 패턴의 상부면의 일부분을 노출시키도록 형성되는 도파로 구조체
5 5
청구항 1에 있어서, 상기 빔 편향 패턴은 상기 굴곡 구간 상에서 상기 코어 패턴의 바깥 측벽을 향해 테이퍼진 구조를 갖는 적어도 하나의 부분을 포함하는 도파로 구조체
6 6
청구항 5에 있어서, 상기 굴곡 구간 상에서, 상기 빔 편향 패턴은 비대칭적 구조를 갖도록 형성되는 도파로 구조체
7 7
청구항 5에 있어서, 상기 굴곡 구간 상에서, 상기 빔 편향 패턴은 상기 코어 패턴을 가로지르면서 상기 코어 패턴의 바깥 측벽에 인접하는 위치에서 서로 만나는 두 변들을 갖되, 상기 두 변들은, 상기 빔 편향 패턴의 바깥쪽을 향해 돌출되어, 볼록한 프로파일을 갖는 도파로 구조체
8 8
청구항 5에 있어서, 상기 굴곡 구간 상에서, 상기 빔 편향 패턴은 상기 코어 패턴을 가로지르면서 상기 코어 패턴의 바깥 측벽에 인접하는 위치에서 서로 만나는 두 변들을 갖되, 상기 두 변들은, 상기 빔 편향 패턴의 안쪽을 향해 리세스되어, 오목한 프로파일을 갖는 도파로 구조체
9 9
삭제
10 10
청구항 1에 있어서, 상기 굴곡 구간 상에서, 상기 빔 편향 패턴은 상기 코어 패턴의 바깥 측벽을 향해 테이퍼진 구조를 갖는 적어도 하나의 수평부; 및상기 코어 패턴의 안쪽 측벽의 일부를 덮는 수직부를 포함하는 도파로 구조체
11 11
청구항 1에 있어서, 상기 굴곡 구간은 1 마이크로 미터보다 큰 폭을 갖도록 형성되는 도파로 구조체
12 12
적어도 하나의 내부 도파로를 포함하는 적어도 하나의 광학 요소(optical component) 및 상기 광학 요소로의 광학적 접근 경로를 제공하는 전송 도파로를 포함하고, 상기 내부 도파로 및 상기 전송 도파로는 하부 클래드, 적어도 하나의 굴곡 구간을 가지면서 상기 하부 클래드 상에 제공된 코어 패턴, 상기 코어 패턴 상에 배치된 빔 편향 패턴, 및 상기 빔 편향 패턴이 제공된 상기 코어 패턴을 덮는 상부 클래드를 포함하되,상기 빔 편향 패턴은 상기 상부 클래드보다 크고 상기 코어 패턴보다 작거나 같은 굴절률을 갖는 물질로 형성되고 상기 굴곡 구간을 따라 증감 또는 진동하는(oscillating) 폭을 갖는 부분을 포함하고,상기 빔 편향 패턴은 상기 굴곡 구간 상에 배치되는 적어도 하나의 삼각형 패턴을 포함하되, 상기 삼각형 패턴은 그것의 꼭지점들 중의 하나가 상기 굴곡 구간의 바깥 측벽에 인접하고 다른 꼭지점들은 상기 굴곡 구간의 안쪽 측벽에 인접하도록 형성되는 포토닉스 소자
13 13
청구항 12에 있어서, 상기 코어 패턴은 실리콘으로 형성되고, 상기 상부 클래드는 실리콘 산화물으로 형성되고, 상기 빔 편향 패턴은 실리콘 질화물로 형성되는 포토닉스 소자
14 14
청구항 12에 있어서, 상기 빔 편향 패턴은 상기 굴곡 구간 상에서 상기 코어 패턴의 바깥 측벽을 향해 테이퍼진 구조를 갖는 적어도 하나의 부분을 포함하는 포토닉스 소자
15 15
삭제
16 16
청구항 12에 있어서, 상기 굴곡 구간은 1 마이크로 미터보다 큰 폭을 갖도록 형성되는 포토닉스 소자
17 17
청구항 12에 있어서, 상기 광학 요소는 배열 도파로 격자(arrayed waveguide grating), 마흐-젠더 간섭계(Mach-Zehnder interferometer), 인터리버(interleaver), 및 링 필터(ring filter) 중의 하나를 구성하는 포토닉스 소자
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1 US08903208 US 미국 FAMILY
2 US20140169729 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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1 US2014169729 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US8903208 US 미국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국전자통신연구원 산업원천기술개발사업(ETRI지원사업) 실리콘 나노포토닉스 기반 차세대 컴퓨터 칩기술