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단일 모드 광을 생성하는 광원;상기 단일 모드 광을 변조하여 인접 광들과 동일한 주파수 차이를 갖는 복수의 광들을 포함하는 기본 광 빗살을 생성하는 광 빗살 생성부;상기 복수의 광들을 변조하여 각각 상기 복수의 광들과 같은 수의 광들을 포함하되, 상기 같은 수의 광들은 인접 광들과 동일한 주파수 차이를 갖고, 각각 상기 기본 광 빗살과 중첩되지 않고 서로 다른 주파수 대역을 갖고, 상기 기본 광 빗살보다 넓은 주파수 대역에 분포하는 복수의 광 빗살들을 생성하는 주파수 대역 확장부; 및상기 복수의 광들 및 상기 복수의 광 빗살들에 포함되는 광들 각각이 갖는 주파수에 따라 상기 복수의 광들 및 상기 복수의 광 빗살들에 포함되는 광들을 시간에 따라 순차적으로 출사시키는 광 출사부를 포함하는 파장 훑음 광원 장치
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제 1 항에 있어서,상기 복수의 광들 각각은 상기 단일 모드 광의 조화파인 파장 훑음 광원 장치
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제 2 항에 있어서,상기 광 빗살 생성부는 이중 전극 마흐-젠더 변조기, 그리고 강도 변조기와 위상 변조기의 직렬 연결 중 어느 하나를 포함하는 파장 훑음 광원 장치
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제 3 항에 있어서,상기 이중 전극 마흐-젠더 변조기, 그리고 상기 강도 변조기와 위상 변조기의 직렬 연결은 광 도파로 구조, 그리고 상기 광원과 같은 기판 위에 집적된 구조 중 어느 하나로 형성되는 파장 훑음 광원 장치
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제 1 항에 있어서,상기 주파수 대역 확장부는 자기 위상 변조 특성을 갖는 매질로 형성되는 파장 훑음 광원 장치
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제 5 항에 있어서,상기 주파수 대역 확장부는 고 비선형 광섬유와 포토닉 크리스탈 광섬유 중 어느 하나로 형성되는 파장 훑음 광원 장치
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제 1 항에 있어서,상기 광 출사부는 매질의 군 속도 분산 특성에 따라 상기 복수의 광들 및 상기 복수의 광 빗살들에 포함되는 광들을 시간에 따라 순차적으로 출사시키는 파장 훑음 광원 장치
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제 7 항에 있어서,상기 광 출사부는 분산 광섬유와 분산 천이 광섬유 중 어느 하나로 형성되는 파장 훑음 광원 장치
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제 1 항에 있어서,상기 광 출사부는 상기 복수의 광들 및 상기 복수의 광 빗살들에 포함되는 광들 각각이 출사되는 시각 사이의 간격을 조절하는 분산 조절기를 포함하는 파장 훑음 광원 장치
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제 1 항에 있어서,상기 광 빗살 생성부의 입출력 광의 편광 특성을 조절하는 편광 조절기를 더 포함하는 파장 훑음 광원 장치
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제 1 항에 있어서,상기 광 빗살 생성부의 출력 광의 강도를 조절하는 광 증폭기 또는 광 감쇄기를 더 포함하는 파장 훑음 광원 장치
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제 1 항에 있어서,상기 광 출사부의 출력단에 연결되어 반사 광을 차단하는 아이솔레이터를 더 포함하는 파장 훑음 광원 장치
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단일 모드 광을 생성하는 단계;상기 단일 모드 광을 변조하여 인접 광들과 동일한 주파수 차이를 갖는 복수의 광들을 포함하는 기본 광 빗살을 생성하는 단계;상기 복수의 광들을 변조하여 각각 상기 복수의 광들과 같은 수의 광들을 포함하되, 상기 같은 수의 광들은 인접 광들과 동일한 주파수 차이를 갖고, 각각 상기 기본 광 빗살과 중첩되지 않고 서로 다른 주파수 대역을 갖고, 상기 기본 광 빗살보다 넓은 주파수 대역에 분포하는 복수의 광 빗살들을 생성하는 단계; 및상기 복수의 광들 및 상기 복수의 광 빗살들에 포함되는 광들 각각이 갖는 주파수에 따라 상기 복수의 광들 및 상기 복수의 광 빗살들에 포함되는 광들을 시간에 따라 순차적으로 출사시키는 단계를 포함하는 파장 훑음 광원 장치의 작동 방법
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제 13 항에 있어서,상기 복수의 광들 각각은 상기 단일 모드 광의 조화파인 파장 훑음 광원 장치의 작동 방법
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제 13 항에 있어서,상기 복수의 광 빗살들을 생성하는 단계에서, 매질의 자기 위상 변조 특성에 따라 복수의 광 빗살들을 생성하는 파장 훑음 광원 장치의 작동 방법
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제 13 항에 있어서,상기 출사시키는 단계에서, 매질의 군 속도 분산 특성에 따라 상기 복수의 광들 및 상기 복수의 광 빗살들에 포함되는 광들을 시간에 따라 순차적으로 출사시키는 파장 훑음 광원 장치의 작동 방법
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