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빛을 차단하거나 통과시키는 광개폐소자에 있어서, 반도체 기판과, 상기 반도체 기판 위에 형성된 하부전극과, 상기 하부전극과 소정간격 이격되어 수평의 병진운동이 가능한 도전성 박막으로 이루어진 수평이동자와, 상기 수평이동자의 상부에 프린지 전기장이 발생되는 일전공간을 사이에 두고 형성된 상부 전극 및 마스크와, 상기 수평이동자를 지지하기 위한 하부지지빔과, 상기 상부 전극 및 마스크를 지지하기 위한 상부지지빔으로 구성된 것을 특징으로 하는 수평이동형 광개폐소자
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제1항에 있어서, 상기 하부지지빔은 상기 수평이동자를 충분히 지지할 수 있고 수평운동을 원활히 할수 있도록 상기 하부전극과 수평이동자 사이의 공간을 관통하여 기판 위에 지지되는 것을 특징으로 하는 수평이동형 광개폐소자
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제1항에 있어서, 상기 상부지지빔은 상기 상부전극 및 마스크를 충분히 지지할 수 있도록 상기 상부전극 및 마스크의 양측을 지지하여 기판 위에 소정의 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 수평이동형 광개폐소자
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제1항에 있어서, 상기 수평이동자, 하부전극, 및 마스크는 빛의 통과를 위한 창(window)을 각각 구비하는 것을 특징으로 하는 수평이동형 광개폐소자
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제4항에 있어서, 상기 하부전극과 상부전극의 각 창들은 초기상태시, 광의 차단을 위해 수평이동자의 창들과 서로 수직적으로 엇갈리도록 형성된 것을 특징으로 하는 수평이동형 광개폐소자
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제1항에 있어서, 상기 하부전극과 기판 사이에 이들의 전기적절연을 위한 절연막이 부가된 것을 특징으로 하는 수평이동형 광개폐소자
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수평이동형 광개폐소자를 제조하는 방법에 있어서, 반도체 기판 위에 전압을 인가하기 위해 제공되는 하부전극을 형성하고, 상기 하부전극 상에 절연막을 형성하는 단계와, 운동하는 부재를 분리독립시키기 위해 제거될 제1회생층을 절연막 위에 형성하고 수평이동자 및 하부지지빔을 형성한 후, 순차적으로 절연막과 제2회생층을 형성하는 단계와, 상기 기판 위에 고정되어 고정전극으로서도 작동하여 빛의 개폐를 수행하기 위한 상부전극 및 마스크, 창, 그리고 상부지지빔을 형성하는 단계 및, 상기 제1회생층 및 제2회생층을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 수평이동형 광개폐소자의 제조방법
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