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1∼40 ㎛ 범위의 평균 입자크기를 가지는 용융 실리카 분말과 7∼100 nm 범위의 평균 입자크기를 가지는 초미립 퓸드 실리카 분말의 수계 실리카 슬러리; 분산제로서 염기성 수용액; 폴리에틸렌이민(PEI); pH 저감제; 및 건조 보조제로 포름아미드를 포함하고, 상기 포름아미드는 상기 염기성 수용액에 대하여 5 내지 150 중량%의 양으로 첨가되는 실리카질 슬리브 성형용 조성물
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제1항에 있어서, 상기 용융 실리카 분말이 99
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제1항에 있어서, 상기 초미립 퓸드 실리카 분말의 비표면적이 20∼300 m2/g인 실리카질 슬리브 성형용 조성물
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제1항에 있어서, 상기 초미립 퓸드 실리카 분말의 비표면적이 40∼60 m2/g인 이고 평균 입자크기가 30∼50 nm 사이에 있는 실리카질 슬리브 성형용 조성물
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제1항에 있어서, 상기 용융 실리카 분말:초미립 퓸드 실리카 분말의 질량비가 40:60 내지 95:5인 실리카질 슬리브 성형용 조성물
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제1항에 있어서, 상기 염기성 수용액이 테트라메틸암모늄 하이드록사이드(TMAH), 또는 테트라에틸암모늄 하이드록사이드(TEAH)이고, 슬러리의 pH가 10 이상이 되도록 첨가되는 실리카질 슬리브 성형용 조성물
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7
제1항에 있어서, 상기 폴리에틸렌이민의 평균 분자량은 1,000,000 이하인 실리카질 슬리브 성형용 조성물
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8
제1항에 있어서, 상기 pH 저감제가 메틸 포메이트 또는 에틸 락테이트인 실카질 슬리브 성형용 조성물
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삭제
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1∼40 ㎛ 범위의 평균 입자크기를 가지는 용융 실리카 분말에 7∼100 nm 범위의 평균 입자크기를 가지는 초미립 퓸드 실리카 분말을 물에 분산시켜 수계(water-based) 실리카 슬러리를 제조하는 단계; 상기 슬러리에 염기성 수용액을 첨가하여 재분산시키는 단계; 상기 재분산된 슬러리에 폴리에틸렌이민(PEI), pH 저감제 및 건조보조제로 포름아미드를 첨가하여 균일하게 혼합하는 단계(상기 포름아미드의 첨가량은 상기 염기성 수용액에 대하여 5 내지 150 중량%임); 상기 슬러리를 원하는 형상의 몰드에 부어 겔화시키는 단계; 및 상기 겔화된 성형체를 건조한 다음, 하소 및 소성하는 단계 를 포함하는 실리카질 슬리브의 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 소성 단계가 1000∼1400℃의 온도에서 수행되는 실리카질 슬리브의 제조방법
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