맞춤기술찾기

이전대상기술

다층조직 분무주조장치

  • 기술번호 : KST2015104257
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기존의 분무주조장치를 그대로 사용하되, 단지 용해로와 턴디쉬를 한 개 더 추가하여 이종의 합금 용탕을 연속 교대로 고압의 불활성 가스로 분무화하고 하부의 기판에 적층시켜서 두가지 합금이 교대로 균일하게 적층된 합금 성형체를 제조할 수 있도록 한 다층조직 분무주조장치에 관한 것이다.특히, 금속용탕(2)을 고압의 가스를 이용하여 분무주조챔버(12) 내에 위치한 회전기판(10)에 분무 적층시켜 합금성형체(9)를 제조하는 분무주조장치에 있어서,서로 상이한 금속용탕(2)을 용해하는 두개의 용해로(1a),(1b)와; 두개의 용해로(1a),(1b)에서 유출되는 이종의 용탕(2)들을 각각 유입시킬 수 있도록 하는 두개의 턴디쉬(3a),(3b)와; 두개의 턴디쉬(3a),(3b)의 각 오리피스관(4a),(4b)에서 교대로 유출되는 금속용탕(2)을 액적 스프레이(8) 형태로 만드는 가스분무장치(5a),(5b)와; 교대로 분무 낙하하는 액적 스프레이(8)를 적층시켜 다층조직의 합금성형체(9)로 만들어 줄 수 있도록 회전기판구동장치(11)에 의해 회전 및 상하운동을 하는 회전기판(10)을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다. 용해로, 금속용탕, 턴디쉬
Int. CL B22D 27/13 (2006.01)
CPC B22D 27/13(2013.01) B22D 27/13(2013.01)
출원번호/일자 1020000082185 (2000.12.26)
출원인 재단법인 포항산업과학연구원, 주식회사 세아창원특수강
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2002-0052746 (2002.07.04) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2000.12.26)
심사청구항수 1

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 재단법인 포항산업과학연구원 대한민국 경북 포항시 남구
2 주식회사 세아창원특수강 대한민국 경상남도 창원시 성산구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이언식 대한민국 경상북도포항시남구
2 안상호 대한민국 경상북도포항시남구
3 이택근 대한민국 경상북도포항시북구
4 박우진 대한민국 경상북도포항시북구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이재춘 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 **, ***호 (역삼동, 대우디오빌플러스)(샘터국제특허법률사무소)
2 특허법인맥 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로 ***, *층 (양재동, 화승빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2000.12.26 수리 (Accepted) 1-1-2000-0279863-21
2 보정통지서
Request for Amendment
2000.12.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2000-0047195-04
3 서지사항 보정서
Amendment to Bibliographic items
2001.01.30 수리 (Accepted) 1-1-2001-0019023-11
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.08.13 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065864-86
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2002.12.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2002.12.17 수리 (Accepted) 9-1-2002-0030080-05
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2003.01.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0037802-09
8 협의통지서
Notice of Consultation
2003.02.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0040663-19
9 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.
2003.03.27 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2003-0107437-65
10 의견서
Written Opinion
2003.03.27 수리 (Accepted) 1-1-2003-0107440-03
11 의견서
Written Opinion
2003.03.27 수리 (Accepted) 1-1-2003-0107441-48
12 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2003.11.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0441058-56
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.06.15 수리 (Accepted) 4-1-2004-0025494-38
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2005.03.04 수리 (Accepted) 4-1-2005-5020373-24
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2005.05.18 수리 (Accepted) 4-1-2005-0017667-32
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2007.03.20 수리 (Accepted) 4-1-2007-5042311-99
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.09.19 수리 (Accepted) 4-1-2012-5197624-26
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-0019112-38
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.06 수리 (Accepted) 4-1-2015-5059265-49
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.09.28 수리 (Accepted) 4-1-2016-5138263-79
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5211042-46
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

금속용탕(2)을 고압의 가스를 이용하여 분무주조챔버(17) 내에 위치한 회전기판(11)에 분무 적층시켜 합금성형체(10)를 제조하는 분무주조장치에 있어서,

서로 상이한 금속용탕(2)을 용해하는 두개의 용해로(1a),(1b)와;

두개의 용해(1a),(1b)로 하부에서 유출되는 이종의 용탕(2)들을 혼합 반응시켜 반응용탕(4)으로 형성시키는 턴디쉬(3)와;

턴디쉬(3)에서 유출되는 반응용탕(4)을 액적 스프레이(9) 형태로 만드는 가스분무장치(6)와;

낙하하는 액적 스프레이(9)를 적층시켜 합금성형체(10)로 만들어 줄 수 있도록 회전기판구동장치(12)에 의해 회전 및 상하운동을 하는 회전기판(11)을 포함하여 구성됨을 특징으로 하는 용탕반응 분무주조장치

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.