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분철광석의 장입 및 배출이 이루어지는 광석장입, 배출관(14)(15)을 갖추고, 가스의 도입 및 배출이 이루어지는 가스도입, 배출관(11)(13)을 갖추고, 상기 광석장입관(14)을 통해 하향공급되는 광석과 상기 가스도입관(11)을 통해 상향공급되는 가스와의 상호반응에 의한 유동층을 형성하도록 상기 가스가 통과되는 가스분산판(12)을 갖추어 분철광석을 환원시키는 유동층로(10)에 있어서, 상기 가스분산판(12)의 설치높이보다 낮은 상기 유동층로(10)의 노벽에 일단이 연결되는 상승관(42)의 타단과 외부면이 연통연결되고, 상기 가스배출관(13)에 일단이 연결되는 배가스관(44)의 타단과 분체이송이 가능하도록 연통연결되는 낙광빈(41)과, 상기 가스분산판(12)하부의 압력보다 상기 낙광빈(41)내의 압력을 낮게 유지하여 상기 낙광빈(41)내로 낙광이 기송되도록 상기 상승관의 낙광배출배브와 상기 배가스관의 배가스밸브를 상호 단속적으로 혹은 반복적으로 교차개폐제어하고, 이를 제어하기 위하여 상기 가스분산판(12) 하부의 압력을 측정하는 제 1압력계(47)와 상기 낙광빈(41)의 압력을 측정하는 제 2압력계(48)로부터 압력측정값이 수신되고, 압력값을 비교하는 제어기(46)를 갖추어 상기 가스분산판(12)의 노즐에 낙광이 부착되지 않도록 하부의 낙광을 외부로 배출처리함을 특징으로 하는 유동층로에서의 낙광처리장치
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제 1항에 있어서, 상기 가스배출관(13)에는 이를 통하여 배출되는 가스유량을 검출하는 유량계(49)를 갖추고, 상기 유량계(49)에서 검출된 가스유량이 상기 제어기()46)에서 가스분산판(12) 직상부의 가스유속으로 환산하여 1m/s 이하로 떨어지면, 상기 제어기(46)로서 낙광빈(41)의 압력을 가스분산판(12)하부보다 낮게 지속적으로 유지시키며, 상기 배가스관(44)의 배가스밸브(45) 및 상기 낙광배출밸브(43)를 닫은 상태에서 상기 낙광배출밸브(43)만을 순간적으로 열고 닫아 압력차에 의해 낙광이 상승관(42)을 통하여 분산판하부에서 낙광빈(41)으로 기송되게 하고, 상기 낙광배출밸브(4)의 개폐에 의해 낙광빈(41)의 압력은 증가하므로 배가스밸브(45)를 개방하여 상기 낙광빈(41)의 압력을 낙광배출밸브의 개페이전의 수준으로 저하되면 상기 배가스밸브(45)를 닫은후, 재차 낙광배출밸브의 개폐를 시행하는 것을 단속적으로 혹은 반복적으로 수행하여 가스분산판의 하부와 낙광빈의 압력차에 의하여 상기 상승관을 통하여 상기 가스분산판하부의 낙광을 낙광빈(41)으로 기송배출시킴을 특징으로 하는 유동층로에서의 낙광처리장치
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제 1 또는 2항에 있어서, 상기 낙광빈(41)의 배가스관(44)을 스크러버(30)전단의 가스배출관(13)과 연결시키거나 혹은 가스분산판(12) 하부와 낙광빈(41)의 압력차를 크게하여 낙광을 더욱 효과적이고, 신속하게 배출하도록 또다른 스크러버를 설치하고, 이와 배가스관(44)이 연결되게 하여 상기 낙광빈(41)의 배가스에 포함된 미분을 집진처리하여 스택으로 연결시켜 배기시킴을 특징으로 하는 유동층로에서의 낙광처리장치
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