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하기 화학식 (1)로 나타내어지는 상온에서 강자성 및 강유전성을 동시에 가지고 층상 페롭스카이트 구조를 가지는 물질:
Bi4-xRxTi3O12 (1)
상기 식에서 R은 Nd, Gd, Pr, Sm, Eu, Tb, Dy, Ho, Er 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 희토류 금속이고, x = 0
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하기 화학식 (2)로 나타내어지는 상온에서 강자성 및 강유전성을 동시에 가지고 층상 페롭스카이트 구조를 가지는 물질:
Bi4-xRxTi3-yTyO12 (2)
상기 식에서 R은 Nd, Gd, Pr, Sm, Eu, Tb, Dy, Ho, Er, La 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 희토류 금속이고, T는 Co, Ni, Fe, Mn, W, V, Nb, Mo, Ta, Zr 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 전이금속이고, x = 0
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하기 화학식 (1)로 나타내어지는 상온에서 강자성 및 강유전성을 동시에 가지고 층상 페롭스카이트 구조를 가지는 물질로 이루어진 박막 축전기를 포함하는 전자장치:
Bi4-xRxTi3O12 (1)
상기 식에서 R은 Nd, Gd, Pr, Sm, Eu, Tb, Dy, Ho, Er 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 희토류 금속이고, x = 0
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4
하기 화학식 (2)로 나타내어지는 상온에서 강자성 및 강유전성을 동시에 가지고 층상 페롭스카이트 구조를 가지는 물질로 이루어진 박막 축전기를 포함하는 전자장치:
Bi4-xRxTi3-yTyO12 (2)
상기 식에서 R은 Nd, Gd, Pr, Sm, Eu, Tb, Dy, Ho, Er, La 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 희토류 금속이고, T는 Co, Ni, Fe, Mn, W, V, Nb, Mo, Ta, Zr 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 전이금속이고, x = 0
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제3항에 있어서, 상기 전자장치는 스핀트로닉 장치, 초고속 정보 저장 장치, 마그네틱-일렉트릭 센서, 마그네틱 센서, 일렉트릭 센서, 광전자 장치, 마이크로웨이브 전자 장치, 및 트랜스듀서로 이루어진 군에서 선택되는 것인 전자장치
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6
제4항에 있어서, 상기 전자장치는 스핀트로닉 장치, 초고속 정보 저장 장치, 마그네틱-일렉트릭 센서, 마그네틱 센서, 일렉트릭 센서, 광전자 장치, 마이크로웨이브 전자 장치, 및 트랜스듀서로 이루어진 군에서 선택되는 것인 전자장치
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