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액정 표시 장치에서 발생한 혼합 폐산을 1차 진공 증발 처리하여 혼합 폐산중의 질산 및 초산을 제거하는 단계;
상기 1차 진공 증발 처리 후 남은 잔류액을 확산 투석 처리하여 금속 성분을 1차 제거하는 단계;
상기 확산 투석후 얻어진 투석액을 이온 교환 수지 처리하여 잔류하는 금속 성분을 2차 제거하는 단계; 및
상기 이온 교환 수지 처리 단계 후 2차 진공 증발 처리하는 단계를 포함하는
액정 표시 장치 제조공정에서 발생하는 혼합 폐산으로부터 고순도 인산을 회수하는 방법
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제1항에 있어서,
상기 1차 진공 증발 처리는 -650 내지 -760 mmHg 의 진공도에서 실시되는 것인 혼합 폐산으로부터 고순도 인산을 회수하는 방법
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제1항에 있어서,
상기 1차 진공 증발 처리는 100 내지 160℃에서 실시되는 것인 혼합 폐산으로부터 고순도 인산을 회수하는 방법
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제1항에 있어서,
상기 이온 교환 수지 처리는 양이온 교환 수지 처리 및 음이온 교환 수지를 처리하여 실시되는 것인 혼합 폐산으로부터 고순도 인산을 회수하는 방법
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제4항에 있어서,
상기 양이온 교환 수지는 스티렌계 강산성 양이온 교환 수지이고, 음이온 교환 수지는 스티렌계 강산성 음이온 교환 수지인 것인 혼합 폐산으로부터 고순도 인산을 회수하는 방법
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제5항에 있어서,
상기 스티렌계 강산성 양이온 교환 수지는 10% 이상의 가교도를 갖는 것인 혼합 폐산으로부터 고순도 인산을 회수하는 방법
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제5항에 있어서,
상기 스티렌계 강산성 음이온 교환 수지는 10% 이상의 가교도를 갖는 것인 혼합 폐산으로부터 고순도 인산을 회수하는 방법
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제1항에 있어서,
상기 2차 진공 증발 처리는 -650 내지 -760 mmHg 의 진공도에서 실시되는 것인 혼합 폐산으로부터 고순도 인산을 회수하는 방법
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제1항에 있어서,
상기 2차 진공 증발 처리는 100 내지 160℃에서 실시되는 것인 혼합 폐산으로부터 고순도 인산을 회수하는 방법
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