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형광체 원소들이 함유된 분말을 혼합하는 단계;상기 혼합물을 용융 및 급랭하는 단계;상기 급랭 단계 후 기계적 분쇄 하여 마이크론 크기의 전구체를 만드는 단계; 상기 전구체를 분말 주입 가스(powder feeding gas)와 함께 분말 주입부를 통해 RF 플라즈마 토치에 주입하는 단계;상기 RF 플라즈마 토치에 중앙 가스(central gas), 차단 가스(sheath gas)를 공급하는 단계;RF 플라즈마 토치 하단 부에 급랭 가스(quenching gas)를 공급하는 단계를 포함하는 RF 플라즈마를 이용한 나노 분말 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 분말 주입 가스 및 중앙 가스는 불활성 기체이고,상기 차단 가스 및 급랭 가스는 불활성 기체 및 산소의 혼합 가스인RF 플라즈마를 이용한 나노 분말 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 혼합된 분말은 PbO, B2O3, SiO2, ZnO 및 BaO의 혼합 분말인 RF 플라즈마를 이용한 나노 분말 제조 방법
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제 2항에 있어서
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제 1항에 있어서,상기 RF 플라즈마 토치의 파워는 15~150kW로 하여 플라즈마를 발생시키는 RF 플라즈마를 이용한 나노 분말 제조 방법
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PbO, B2O3, SiO2, ZnO 및 BaO 분말을 혼합하는 단계;상기 혼합물을 용융 및 급랭하는 단계;상기 급랭 단계 후 기계적 분쇄 방법으로 마이크론 크기의 전구체를 만드는 단계;상기 전구체를 불활성 기체인 분말 주입 가스와 함께 RF 플라즈마 토치의 분말 주입부를 통해서 주입하는 단계;상기 RF 플라즈마 토치의 파워를 15~150kW로 설정하여 플라즈마를 발생시키는 단계;상기 RF 플라즈마 토치의 중앙가스로 5~50 SLPM 의 불활성 기체를 공급하고, 차단 가스로 10~120 SLPM 의 불활성 기체 및 10~120 SLPM 의 산소의 혼합 가스를 공급하는 단계; RF 플라즈마 토치 하단 부에 급랭 가스로 불활성 기체 및 산소의 혼합 가스를 공급하는 단계;을 포함하는 RF 플라즈마를 이용한 나노 분말 제조 방법
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제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 방법에 의하여 제조된 PDP(Plasma Display Panel)용 나노분말
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제 7항에 있어서,상기 분말의 모양이 구형이며, 지름이 50~200nm인 PDP(Plasma Display Panel)용 나노분말
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