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혼합폐산으로부터 고순도 인산을 회수하는 방법

  • 기술번호 : KST2015105807
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 혼합폐산으로부터 고순도 인산을 회수하는 방법이 제공된다. 상기 혼합폐산으로부터 고순도 인산을 회수하는 방법은 액정 표시 장치 및 반도체 제조공정에서 발생하는 혼합폐산을 진공증발법으로 처리하여 상기 혼합폐산 중의 질산과 초산을 제거하는 단계, 및 상기 진공증발법에서 잔류한 금속 및 인산용액을 전기화학적 이온 교환수지법으로 금속성분을 제거하여 고순도의 인산을 정제하는 단계를 포함한다.혼합폐산, 전기화학적 이온교환수지법, 고순도 인산
Int. CL C01B 25/18 (2006.01) C01B 25/234 (2006.01)
CPC C01B 25/2343(2013.01) C01B 25/2343(2013.01) C01B 25/2343(2013.01) C01B 25/2343(2013.01) C01B 25/2343(2013.01)
출원번호/일자 1020070126298 (2007.12.06)
출원인 재단법인 포항산업과학연구원, 주식회사엔아이티
등록번호/일자 10-1307389-0000 (2013.09.05)
공개번호/일자 10-2009-0059435 (2009.06.11) 문서열기
공고번호/일자 (20130911) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.03.23)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인 포항산업과학연구원 대한민국 경북 포항시 남구
2 주식회사엔아이티 대한민국 전라북도 군산시 서해로 *** (

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박성국 대한민국 경상북도 포항시 남구
2 김주엽 대한민국 서울특별시 서초구
3 이상길 대한민국 포항시 남구
4 신창훈 대한민국 경기도 성남시 분당구
5 김주한 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 홍성철 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***, 에이스하이-엔드타워*제*층 ***호 홍익국제특허법률사무소 (가산동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인 포항산업과학연구원 경북 포항시 남구
2 주식회사엔아이티 전라북도 군산시 서해로 *** (
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2007.12.06 수리 (Accepted) 1-1-2007-0879527-65
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2011.03.23 수리 (Accepted) 1-1-2011-0211133-29
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.03.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.03.16 수리 (Accepted) 9-1-2012-0017577-79
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.09.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0527969-29
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2012.11.06 수리 (Accepted) 1-1-2012-0910214-15
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.12.04 수리 (Accepted) 1-1-2012-1004842-40
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.12.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-1004843-96
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2013.04.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0285563-21
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-0019112-38
11 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2013.05.23 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2013-0020517-98
12 등록결정서
Decision to grant
2013.07.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0504850-57
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2013-0056075-48
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.09.28 수리 (Accepted) 4-1-2016-5138263-79
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5211042-46
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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액정 표시 장치 및 반도체 제조공정에서 발생하는 혼합폐산을 진공증발법으로 처리하여 상기 혼합폐산 중의 질산과 초산을 제거하는 단계; 및상기 진공증발법에서 잔류한 금속 및 인산용액을 전기화학적 이온교환수지법으로 금속성분을 제거하여 고순도의 인산으로 정제하는 단계를 포함하되,상기 전기화학적 이온교환수지법을 적어도 3회 반복하며,상기 전기화학적 이온교환수지법은 티타늄판에 산화이리듐(IrO2)을 코팅한 전극을 사용하고,상기 전기화학적 이온교환수지법은 스티렌계 강산성 양이온 교환수지를 사용하며,상기 스티렌계 강산성 양이온 교환수지는 10% 이상의 가교도를 가지는 것을 특징으로 하는 혼합폐산으로부터 고순도 인산을 회수하는 방법
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청구항 1에 있어서,상기 진공증발법은 110~140℃의 온도 범위에서 수행되며, -650 내지 -730mmHg 의 진공도에서 수행되는 혼합폐산으로부터 고순도 인산을 회수하는 방법
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청구항 1에 있어서,상기 고순도의 인산으로 정제하는 단계 후, 진공증발법으로 상기 고순도 인산을 농축하는 단계를 더 포함하는 혼합폐산으로부터 고순도 인산을 회수하는 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.