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흑색 피막 제조방법 및 흑색 피막을 갖는 코팅층 및 이를 위한 흑색 피막 제조장치

  • 기술번호 : KST2015106041
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 스퍼터링에 의해 금속을 코팅함에 있어서 증발율을 제어함과 동시에 기판 앞에 이온저지 그리드를 설치하여 전기적인 에너지가 낮거나 또는 에너지를 가지지 않은 원자 또는 분자 만이 기판에 증착되도록 피막을 제조하여 코팅층의 표면에 미세 구멍을 형성함에 의해 빛의 산란에 의해 흑색의 색상을 띄도록 한 것을 특징으로 하는 금속 코팅을 이용한 흑색 피막 제조방법에 관한 것이다. 스퍼터링(Sputtering), 금속 타겟(Metal Target), 기판, 흑색 피막
Int. CL C23C 14/34 (2006.01)
CPC C23C 14/0068(2013.01) C23C 14/0068(2013.01) C23C 14/0068(2013.01) C23C 14/0068(2013.01)
출원번호/일자 1020080133546 (2008.12.24)
출원인 재단법인 포항산업과학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2010-0074975 (2010.07.02) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.12.20)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인 포항산업과학연구원 대한민국 경북 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정재인 대한민국 경상북도 포항시 남구
2 양지훈 대한민국 경상북도 포항시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 홍성철 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***, 에이스하이-엔드타워*제*층 ***호 홍익국제특허법률사무소 (가산동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2008.12.24 수리 (Accepted) 1-1-2008-0888947-73
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-0019112-38
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2013.12.20 수리 (Accepted) 1-1-2013-1171580-90
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.10.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.11.12 수리 (Accepted) 9-1-2014-0090324-50
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.05.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0318055-82
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.07.14 수리 (Accepted) 1-1-2015-0681415-94
8 보정요구서
Request for Amendment
2015.07.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0119648-25
9 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)
2015.08.17 수리 (Accepted) 1-1-2015-0723990-99
10 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.08.17 수리 (Accepted) 1-1-2015-0794413-19
11 보정요구서
Request for Amendment
2015.08.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2015-0135760-17
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.09.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0887558-89
13 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)
2015.09.11 수리 (Accepted) 1-1-2015-0841401-64
14 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.09.11 수리 (Accepted) 1-1-2015-0887557-33
15 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.01.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0018155-25
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.09.28 수리 (Accepted) 4-1-2016-5138263-79
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5211042-46
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
금속 박막을 형성하기 위한 기판과, 상기 기판상에 금속 박막이 형성되도록 이온화하기 위한 스퍼터링 소스와, 상기 스퍼터링 소스에 의해 이온화되어 기판상에 증착되는 금속 타겟을 포함하여 구성되는 피막 제조장치에 있어서, 상기 기판과 금속타겟의 사이에는 스퍼터링 소스에 의해 이온화된 이온의 에너지를 감소시키기 위한 이온저지 그리드가 설치된 것을 특징으로 하는 흑색 피막 제조장치
2 2
청구항 1에 있어서, 상기 이온저지 그리드는 그물망인 메쉬(Mesh) 형태로 이루어진 것을 특징으로 하는 흑색 피막 제조장치
3 3
청구항 1에 있어서, 상기 피막 제조장치는 상기 이온저지 그리드의 일측에 연결되어 양전압을 인가하도록 된 양전압인가용 전원장치를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 흑색 피막 제조장치
4 4
청구항 1에 있어서, 이온저지 그리드는 금속 타겟과 동일한 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 흑색 피막 제조장치
5 5
이온저지 그리드에 의해 전기적인 에너지가 낮거나 에너지를 가지지 않은 원자 또는 분자만이 기판상에 증착되도록 피막을 형성하여 코팅층의 표면에 미세 구멍을 형성함에 의해 빛의 산란에 의해 흑색의 색상을 띄도록 하는 것을 특징으로 하는 흑색 피막 제조방법
6 6
스퍼터링 소스에 의해 금속 타겟을 기판상에 증착되도록 하여 금속 피막을 형성하는 단계와, 이온저지 그리드에 의해 전기적인 에너지가 낮거나 에너지를 가지지 않은 원자 또는 분자만이 상기 금속 피막상에 증착되도록 하여 흑색 피막을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 흑색 피막 제조방법
7 7
청구항 6에 있어서, 상기 흑색 피막을 형성하는 단계의 스퍼터링 소스에 의한 증발율은 상기 금속 피막을 형성하는 단계의 스퍼터링 소스에 의한 증발율의 70% 이하인 것을 특징으로 하는 흑색 피막 제조방법
8 8
청구항 6에 있어서, 상기 이온저지 그리드에 걸리는 전압은 50 ~ 200V 인 것을 특징으로 하는 흑색 피막 제조방법
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기판과, 상기 기판상에 증착되어 형성된 금속 피막과, 상기 금속 피막상에 형성된 흑색 피막으로 이루어진 것을 특징으로 하는 흑색 피막을 갖는 코팅층
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.