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투명 도전막 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015106327
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일 실시예에 따른 투명 도전막 제조 방법은 균일하고 결정성을 갖는 투명 도전막을 형성할 수 있도록, 기판을 초음파로 세척하는 기판 전처리 단계와 기판을 진공 챔버 내부로 이송시키는 기판 장입 단계와 진공 챔버 내부의 가스를 방출하는 진공 배기 단계와 기판에 펄스 전원을 인가하여 기판을 플라즈마로 처리하는 플라즈마 전처리 단계, 및 기판의 배면에 설치된 전자석에 전류를 인가하여 기판 상에 투명 도전막을 비평형 마그네트론 스퍼터링 방법으로 형성하는 스퍼터링 단계를 포함한다.투명 도전막, 전자석, 진공 챔버, 플라즈마
Int. CL H01L 33/40 (2010.01) H01L 21/203 (2006.01)
CPC H01L 33/42(2013.01) H01L 33/42(2013.01) H01L 33/42(2013.01) H01L 33/42(2013.01)
출원번호/일자 1020090132726 (2009.12.29)
출원인 재단법인 포항산업과학연구원
등록번호/일자 10-1537069-0000 (2015.07.09)
공개번호/일자 10-2011-0076110 (2011.07.06) 문서열기
공고번호/일자 (20150716) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.03.26)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인 포항산업과학연구원 대한민국 경북 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정재인 대한민국 경기 용인시 기흥구
2 양지훈 대한민국 경상북도 포항시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인 포항산업과학연구원 경북 포항시 남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.12.29 수리 (Accepted) 1-1-2009-0811638-22
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-0019112-38
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2014.03.26 수리 (Accepted) 1-1-2014-0292565-75
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.11.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0818060-60
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.01.27 수리 (Accepted) 1-1-2015-0087204-90
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.01.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0087205-35
7 등록결정서
Decision to grant
2015.05.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0350245-01
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.09.28 수리 (Accepted) 4-1-2016-5138263-79
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5211042-46
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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기판을 초음파로 세척하는 기판 전처리 단계;기판을 진공 챔버 내부로 이송시키는 기판 장입 단계;진공 챔버 내부의 가스를 방출하는 진공 배기 단계;기판에 200V 내지 600V의 펄스 전원을 인가하여 기판을 플라즈마로 처리하는 플라즈마 전처리 단계;기판의 배면에 설치된 전자석에 1A 내지 2A의 전류를 인가하여 기판 상에 투명 도전막을 비평형 마그네트론 스퍼터링 방법으로 형성하는 스퍼터링 단계; 및진공 챔버 내부에 아르곤 가스를 주입하여 진공 챔버 내부의 압력이 5 x10-2torr가 되도록 조절하고 투명 도전막이 형성된 상기 기판에 200V 내지 600V의 펄스 전압을 인가하여 기판을 플라즈마 처리하는 플라즈마 후처리 단계;를 포함하는 투명 도전막 제조 방법
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지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.