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티타늄 또는 티타늄 합금으로 제조된 임플란트형 기지금속;과상기 기지금속의 표면에 대기와 접촉되지 않은 상태에서 입자가 분급된 수산화 아파타이트(hydroxyapatite)분말을 이용하여 저온고속충격코팅법으로 코팅된 코팅층; 을 포함하며,상기 코팅층은 기공도가 1% 이하인생체친화성 임플란트
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제1항에 있어서,상기 분급된 수산화 아파타이트 분말은 그 입도가 100nm ~ 30㎛범위인 생체친화성 임플란트
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제1항에 있어서,상기 분급된 수산화 아파타이트 분말은 그 입도가 100nm ~ 10㎛범위인 생체친화성 임플란트
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제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅층의 두께는 100nm ~ 5㎛ 인 생체친화성 임플란트
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질소, 아르곤, 헬륨, 수소 가스 중 어느 하나 또는 이들을 혼합한 케리어 가스를 공급하는 단계;상기 공급된 케리어 가스가 이동하는 폐쇄회로 상에서 상기 케리어 가스와 함께 이동하면서 대기와 접촉되지 않은 상태에서 입자가 분급된 수산화 아파타이트 분말을 진공챔버에 공급하는 단계;상기 진공챔버는 10-1 torr이하로 감압되어 공급되는 상기 수산화 아파타이트 분말이 티타늄 또는 티타늄 합금으로 제조된 임플란트형 기지금속에 고속으로 충돌하여 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하며,상기 코팅층은 기공도가 1% 이하인생체친화성 임플란트의 제조방법
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제6항에 있어서, 상기 분급되는 수산화 아파타이트 분말은 그 입도가 100nm ~ 30㎛범위인 생체친화성 임플란트의 제조방법
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제6항에 있어서, 상기 분급되는 수산화 아파타이트 분말은 그 입도가 100nm ~ 10㎛범위인 생체친화성 임플란트의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 수산화 아파타이트 분말은 사이클론 장치가 내장된 입도분급기에 의하여 분급되는 생체친화성 임플란트의 제조방법
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질소, 아르곤, 헬륨, 수소 가스 중 어느 하나 또는 이들을 혼합한 케리어 가스를 저장하는 가스탱크;상기 가스탱크에서 배출된 상기 케리어 가스가 통과하고 수산화 아파타이트 분말을 저장하는 호퍼;상기 호퍼에 저장되어 상기 케리어 가스에 의하여 운반된 수산화 아파타이트 분말을 티타늄 또는 티타늄 합금으로 제조된 임플란트형 기지금속에 고속으로 분사하기 위한 스프레이 노즐;상기 스프레이 노즐을 내장하며, 펌프에 의하여 10-1 torr이하로 감압된 상태를 유지하는 진공챔버; 및상기 가스탱크와 상기 진공챔버는 폐쇄회로를 형성하며, 상기 호퍼와 상기 진공챔버 사이에 설치되어 상기 수산화 아파타이트 분말을 대기와 접촉되지 않은 상태에서 입자를 분급하는 입도분급기;를 포함하는 생체친화성 임플란트의 제조장치
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제11항에 있어서,상기 입도분급기는 사이클론 장치가 내장된 것인 생체친화성 임플란트의 제조장치
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제12항에 있어서, 상기 입도분급기는 HA분말을 포함한 케리어가스 공급관;상기 공급관에서 공급된 HA 분말을 상기 입도분급기 내부에서 외곽으로 흐르게 하는 원추형 판;상기 입도분급기의 외벽과 원추형 판 사이에 형성된 틈새;상기 틈새 방향으로 보조 케리어가스를 공급하는 보조 케리어가스 공급관;상기 보조 케리어 가스에 의해 이송되며 입도가 작은 HA분말이 이송되는 사이클론 틈새;상기 입도가 작은 HA분말을 상기 진공챔버로 배출하는 배출관을 포함하는 생체친화성 임플란트의 제조장치
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제13항에 있어서,상기 입도분급기는 상기 수산화 아파타이트 분말을 상기 사이클론 틈새의 간격 또는 직경을 조절하여 입도를 분급하는 생체친화성 임플란트의 제조장치
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제14항에 있어서,상기 입도분급기는 상기 수산화 아파타이트 분말을 100nm ~ 30㎛범위의 입도로 분급하는 생체친화성 임플란트의 제조장치
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제11항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,상기 입도분급기는 상기 수산화 아파타이트 분말을 100nm ~ 10㎛범위의 입도로 분급하는 생체친화성 임플란트의 제조장치
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