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스퍼터링 공정을 통해 알루미늄 타겟과 시편 사이에 알루미늄 플라즈마를 형성하여 시편인 철강 소재 표면에 알루미늄 박막을 코팅하는 단계를 포함하는 알루미늄 박막 코팅 방법
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제 1 항에 있어서,상기 스퍼터링 공정이 진공 용기와 스퍼터링 소스, 알루미늄 타겟, 시편 홀더, 스퍼터링 소스에 자기장을 인가할 수 있도록 스퍼터링 소스 외부에 장착된 전자석, 전원 공급장치를 포함하는 스퍼터링 장비를 이용하여 이루어지고,상기 스퍼터링 공정시 상기 전자석에 의한 자기장이 스퍼터링 소스에 의한 자기장에 영향을 미치도록 전자석에 인가되는 전류의 방향과 세기를 조절하는 단계를 포함하여 철강 소재 표면에 코팅되는 알루미늄의 조직의 치밀도를 제어하는 알루미늄 박막 코팅 방법
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제 2 항에 있어서,상기 전자석에 가해지는 전류의 방향은 전자석의 극성을 알루미늄 이온을 알루미늄 타겟 근처에서 높게 유지하도록 작용하는 방향으로 설정되는 알루미늄 박막 코팅 방법
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제 3 항에 있어서,상기 전자석에 인가되는 전류의 세기는 0
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제 4 항에 있어서,상기 스퍼터링 공정 전에 시편을 세척하는 단계를 더 포함하는 알루미늄 박막 코팅 방법
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제 5 항에 있어서,상기 시편 세척 후 시편을 진공 용기에 장착하고, 글로 방전을 발생하여 시편을 세정하는 단계를 더 포함하는 알루미늄 박막 코팅 방법
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제 6 항에 있어서,상기 글로 방전은 진공 용기 진공 배기 후 2×10-2 토르(torr)의 압력까지 아르곤 가스를 주입하고, 직류전원을 30분간 인가하여 실시하는 알루미늄 박막 코팅 방법
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제 7 항에 있어서,상기 시편 세정 후 배기를 실시하고, 진공 용기 내에 아르곤 가스를 주입하여 2×10-3 토르(torr)로 유지하고, 스퍼터링 소스에 1
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