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매엽식 저압화학기상증착장치의 서셉터

  • 기술번호 : KST2015106901
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 반도체 박막재료인 실리콘웨이퍼의 박막증착에 쓰이는 매엽식 저압화학기상증착장치에서 히터에 의하여 가열되는 서셉터(SUSCEPTOR)에 관한 것으로, 보다 상세히는 신속한 열전달을 이루어 전체 균일한 박막두께와 증착 공정시간을 감소시키고, 안정한 연속공정을 이루며, 오염방지를 위해 다결정실리콘으로 증착박막을 입혀 청정한 실리콘 웨이퍼 표면을 유지할 수 있는 매엽식 저압화학기상증착장치의 서셉터(Susceptor)에 관한 것이다.본 발명은, 반도체 박막재료인 실리콘웨이퍼의 박막증착에 쓰이는 매엽식 저압화학기상증착장치에서 히터에 의하여 가열되는 서셉터에 있어서, 상부와 하부가 일체형으로 이루어지고, 상부표면에는 실리콘 웨이퍼 기판의 미끄럼 방지턱이 돌출형성되고, 상기 실리콘웨이퍼기판과 상부표면 사이에는 빈 공간이 형성되며, 상기 SIC 발열체 히터로부터 제공되는 열은 상기 상부표면으로 전도되며, 빈 공간을 통하여 복사열로 교환되어 실리콘 웨이퍼 기판의 표면 온도를 균일하고, 신속하게 상승시킴을 특징으로 하는 매엽식 저압화학기상증착장치의 서셉터(Susceptor)를 제공한다.
Int. CL C23C 16/02 (2006.01)
CPC C23C 16/481(2013.01) C23C 16/481(2013.01) C23C 16/481(2013.01)
출원번호/일자 1019960065184 (1996.12.13)
출원인 주식회사 포스코, 재단법인 포항산업과학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-1998-0046780 (1998.09.15) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 취하
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 0

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 포스코 대한민국 경상북도 포항시 남구
2 재단법인 포항산업과학연구원 대한민국 경북 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 고재석 대한민국 경상북도 포항시 남구
2 권영규 대한민국 경상북도 포항시 남구
3 김광일 대한민국 경상북도 포항시 남구
4 이선용 대한민국 경상북도 포항시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 손원 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)(특허법인씨엔에스)
2 이성동 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)(특허법인씨엔에스)
3 전준항 대한민국 서울특별시 강남구 언주로**길 **, 대림아크로텔 ****호 (도곡동)

최종권리자

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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1996.12.13 수리 (Accepted) 1-1-1996-0217123-81
2 특허출원서
Patent Application		 1996.12.13 수리 (Accepted) 1-1-1996-0217122-35
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2000.01.21 수리 (Accepted) 4-1-2000-0007991-58
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.03.21 수리 (Accepted) 4-1-2002-0027128-10
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2002-0043593-03
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2002-0043602-26
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.08.13 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065864-86
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.06.15 수리 (Accepted) 4-1-2004-0025494-38
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2005.03.04 수리 (Accepted) 4-1-2005-5020373-24
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-0019112-38
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.09.28 수리 (Accepted) 4-1-2016-5138263-79
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.04.30 수리 (Accepted) 4-1-2018-5077322-80
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2019-5200802-82
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.09.30 수리 (Accepted) 4-1-2019-5204006-48
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5211042-46
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

반도체 박막재료인 실리콘웨이퍼의 박막증착에 쓰이는 매엽식 저압화학기상증착장치에서 히터에 의하여 가열되는 서셉터에 있어서,

상부와 하부가 일체형으로 이루어지고, 상부표면에는 실리콘 웨이퍼 기판(14)의 미끄럼 방지턱(10)이 돌출형성되고, 상기 실리콘웨이퍼기판(14)과 상부표면 사이에는 빈공간(13)이 형성되며, 상기 SIC 발열체 히터(6)로부터 제공되는 열은 상기 상부표면으로 전도되며, 빈 공간(13)을 통하여 복사열로 교환되어 실리콘 웨이퍼 기판(14)의 표면 온도를 균일하고, 신속하게 상승시킴을 특징으로 하는 매엽식 저압화학기상증착장치의 서셉터(Susceptor)

2 2

상기 상부표면에는 모서리가 90°로 4군데 절단된 실리콘 기판 지지부(12)가 형성되어 실리콘 웨이퍼 기판(14)의 인입추출시 핑거암(Finger Arm)(9)에 의해 안정하게 고정가능하도록 구성됨을 특징으로 하는 매엽식 저압화학기상증착장치의 서셉터(Susceptor)

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.