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포토레지스트를 함유하는 티엠에이에이치 현상폐액을재활용하는 방법

  • 기술번호 : KST2015106999
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 포토레지스트를 함유하는 TMAH 현상폐액을 재활용하는 방법을 제공하기 위한 것으로,TMAH 현상폐액을 양이온 교환수지에 의해 TMA+ 이온과 페놀을 분리하는 제 1 단계와; 상기 제 1 단계 후 양이온 수지를 물로 세정하는 제 2 단계와; 상기 제 2 단계 후 양이온 교환수지에 포착된 TMA+ 이온을 상기 양이온 교환수지로부터 용리하기 위하여 용리액을 투여하는 제 3 단계와; 상기 제 3 단계에서 용리된 TMAC를 음이온 교환수지에 의해 TMAH로 변환하여 재생하는 제 4단계로 구성된다. TMAH, tetra methyl ammonium hydroxide, photoresist, 현상폐액, 재활용
Int. CL G03F 7/32 (2006.01)
CPC G03F 7/063(2013.01) G03F 7/063(2013.01) G03F 7/063(2013.01) G03F 7/063(2013.01) G03F 7/063(2013.01) G03F 7/063(2013.01)
출원번호/일자 1020040111234 (2004.12.23)
출원인 재단법인 포항산업과학연구원, 대일개발 주식회사
등록번호/일자 10-0629934-0000 (2006.09.22)
공개번호/일자 10-2006-0072560 (2006.06.28) 문서열기
공고번호/일자 (20060928) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.12.23)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인 포항산업과학연구원 대한민국 경북 포항시 남구
2 대일개발 주식회사 대한민국 경기도 안산시 단원구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박성국 대한민국 경북 포항시 남구
2 이상길 대한민국 경북 포항시 남구
3 김주엽 대한민국 서울 서초구
4 김호석 대한민국 서울 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 홍성철 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***, 에이스하이-엔드타워*제*층 ***호 홍익국제특허법률사무소 (가산동)
2 박봉훈 대한민국 서울특별시 중구 정동길 **-**, (정동, 정동빌딩) **층(김.장 법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인 포항산업과학연구원 대한민국 경북 포항시 남구
2 대일개발 주식회사 대한민국 경기도 안산시 단원구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2004.12.23 수리 (Accepted) 1-1-2004-0609587-70
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2005.03.04 수리 (Accepted) 4-1-2005-5020373-24
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2006.03.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0171713-57
4 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2006.05.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0373148-06
5 의견서
Written Opinion
2006.05.26 수리 (Accepted) 1-1-2006-0373150-98
6 등록결정서
Decision to grant
2006.09.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0521847-21
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-0019112-38
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.09.28 수리 (Accepted) 4-1-2016-5138263-79
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.10.17 수리 (Accepted) 4-1-2016-0072767-14
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5211042-46
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번호 청구항
1 1
삭제
2 2
TMAH 현상폐액을 H+ 형의 양이온 교환수지에 의해 TMA+ 이온과 페놀을 분리하는 제 1 단계와;상기 제 1 단계 후 양이온 교환수지를 물로 세정하는 제 2 단계와;상기 제 2 단계 후 양이온 교환수지에 포착된 TMA+ 이온을 상기 양이온 교환수지로부터 용리하기 위하여 용리액을 투여하는 제 3 단계와;상기 제 3 단계에서 용리된 TMAC를 음이온 교환수지에 의해 TMAH로 변환하여 재생하는 제 4단계로 구성된 것을 특징으로 하는 포토레지스트를 함유하는 TMAH 현상폐액을 재활용하는 방법
3 3
제 2 항에 있어서, 상기 용리액은,염산을 사용하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트를 함유하는 TMAH 현상폐액을 재활용하는 방법
4 4
제 2 항에 있어서, 상기 음이온 교환수지는,OH- 형의 음이온 교환수지를 사용하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트를 함유하는 TMAH 현상폐액을 재활용하는 방법
5 4
제 2 항에 있어서, 상기 음이온 교환수지는,OH- 형의 음이온 교환수지를 사용하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트를 함유하는 TMAH 현상폐액을 재활용하는 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.