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커패시터 첨가제로 사용될 다층 카본나노튜브를 준비하는 단계;상기 다층 카본나노튜브의 표면을 화학 활성화 처리시켜 포어를 형성하는 단계 및표면에 상기 포어가 형성된 상기 다층 카본나노튜브를 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 커패시터 첨가제 제조방법
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제1항에 있어서,상기 다층 카본나노튜브의 평균직경은 150㎚인 것을 특징으로 하는 커패시터 첨가제 제조방법
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제1항에 있어서,상기 화학 활성화 처리는 부식처리인 것을 특징으로 하는 커패시터 첨가제 제조방법
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제3항에 있어서,상기 부식처리는 수산화나트륨(NaOH) 또는 수산화칼륨(KOH) 중 선택된 어느 하나의 분말 또는 수용액에 상기 다층 카본나노튜브를 반응시키는 공정으로 진행되는 것을 특징으로 하는 커패시터 첨가제 제조방법
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제1항에 있어서,상기 포어는 1~5㎚의 깊이로 형성되는 것을 특징으로 하는 커패시터 첨가제 제조방법
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제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 방법으로 제조되는 커패시터 첨가제
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