| 1 |
1
CIG계 타겟을 제조하는 방법에 있어서,연료가스 및 산소에 의해 발생된 화염에 불활성 가스를 공급하되, 불활성 가스의 주입량을 조절하여 화염 온도를 조절하는 고속화염용사에 의해 CIG계 합금 분말을 모재에 스프레이 적층하고 표면을 연마하여 제조되는 박막 태양전지용 CIG계 타겟 제조방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 불활성 가스는 질소, 아르곤, 헬륨 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 박막 태양전지용 CIG계 타겟 제조방법
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 CIG계 합금 분말은 Cu-In-Ga, Cu-Ga, Cu-In 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 박막 태양전지용 CIG계 타겟 제조방법
|
| 4 |
4
제3항에 있어서,상기 CIG계 합금 분말의 크기는 5~100㎛인 것을 특징으로 하는 박막 태양전지용 CIG계 타겟 제조방법
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 스프레이 적층시 모재와 분사 노즐과의 거리는 20~150mm인 것을 특징으로 하는 박막 태양전지용 CIG계 타겟 제조방법
|
| 6 |
6
제1항 내지 제5항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 모재 소재는 Al, Al 합금, Cu, Cu 합금, 스틸 중 하나 이상인 것을 특징으로 하는 박막 태양전지용 CIG계 타겟 제조방법
|
| 7 |
7
제1항 내지 제5항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 타겟의 형태는 실린더, 원형 또는 사각형의 평판인 것을 특징으로 하는 박막 태양전지용 CIG계 타겟 제조방법
|
| 8 |
8
제1항 내지 제5항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 스프레이 적층 후 후열처리, 고온 성형의 후처리 후 연마하는 것을 특징으로 하는 박막 태양전지용 CIG계 타겟 제조방법
|
