맞춤기술찾기

이전대상기술

기판에의 경질 피막 제조방법

  • 기술번호 : KST2015107288
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기판에의 경질 박막을 제조하는 방법에 관한 것으로, 진공실 내에서 불활성 가스와 반응성 가스가 혼합된 가스 분위기에서 스퍼터링 소스와, 상기 스퍼터링 소스에 설치된 타겟과, 상기 타겟과 대향하여 설치되는 기판을 이용하는 스퍼터링을 이용한 경질 박막의 제조방법에 있어서, 상기 진공실을 배기시키는 단계; 상기 기판을 청정시키는 단계; 상기 타겟을 스퍼터링하는 단계; 상기 스퍼터링에 의하여 상기 기판에 금속 성분만으로 이루어진 피막을 제조하는 단계; 반응성 가스 주입하는 단계; 상기 반응성 가스에 의해 상기 기판에 하나 이상의 피막을 형성하는 단계; 상기 하나 이상의 피막을 형성하면서 반응성 가스의 유량을 단계적으로 조절하여 화합물의 성분이 다른 경사막을 코팅하는 단계; 를 포함하는 기판에의 경질 박막 제조방법을 제공하여,각 단계별 코팅 층의 성장이 연결되지 않고 층의 형태로 구성되어 있어 박막의 스트레스를 저하시켜 밀착력을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 내마모성이 우수한 경질 피막을 제조할 수 있는 효과가 있다.
Int. CL C23C 14/54 (2006.01) C23C 14/34 (2006.01) C23C 14/06 (2006.01)
CPC C23C 14/0042(2013.01) C23C 14/0042(2013.01) C23C 14/0042(2013.01) C23C 14/0042(2013.01)
출원번호/일자 1020100135995 (2010.12.27)
출원인 재단법인 포항산업과학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2012-0074050 (2012.07.05) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.02.27)
심사청구항수 6

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 재단법인 포항산업과학연구원 대한민국 경북 포항시 남구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 정재인 대한민국 경상북도 포항시 남구
2 양지훈 대한민국 경상북도 포항시 남구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.12.27 수리 (Accepted) 1-1-2010-0864578-25
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-0019112-38
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2014.02.27 수리 (Accepted) 1-1-2014-0196610-13
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.12.30 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.02.10 수리 (Accepted) 9-1-2015-0010928-08
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.07.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0469723-70
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.09.08 수리 (Accepted) 1-1-2015-0873584-94
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.09.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0873586-85
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.01.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0018174-93
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.02.03 수리 (Accepted) 1-1-2016-0118616-48
11 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2016.02.03 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-0118624-14
12 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.03.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0160050-83
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.09.28 수리 (Accepted) 4-1-2016-5138263-79
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5211042-46
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
진공실 내에서 불활성 가스와 반응성 가스가 혼합된 가스 분위기에서 스퍼터링 소스와, 상기 스퍼터링 소스에 설치된 타겟과, 상기 타겟과 대향하여 설치되는 기판을 이용하는 스퍼터링을 이용한 경질 박막의 제조방법에 있어서,상기 진공실을 배기시키는 단계;상기 기판을 청정시키는 단계;상기 타겟을 스퍼터링하는 단계;상기 스퍼터링에 의하여 상기 기판에 금속 성분만으로 이루어진 피막을 제조하는 단계;반응성 가스 주입하는 단계; 상기 반응성 가스에 의해 상기 기판에 하나 이상의 피막을 형성하는 단계;상기 하나 이상의 피막을 형성하면서 반응성 가스의 유량을 단계적으로 조절하여 화합물의 성분이 다른 경사막을 코팅하는 단계;를 포함하는 기판에의 경질 박막 제조방법
2 2
제1항에 있어서,상기 진공실을 배기시키는 단계는 10-5 토르 이하로 배기시키는 것을 특징으로 하는 기판에의 경질 박막 제조방법
3 3
제1항에 있어서,상기 기판을 청정시키는 단계는 6ⅹ10-2 토르 이하의 아르곤 분위기에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판에의 경질 박막 제조방법
4 4
제1항에 있어서,상기 스퍼터링하는 단계는 아르곤 가스를 주입하여 스퍼터링을 위한 진공을 만드는 단계, 타겟에 전압을 인가하여 스퍼터링을 유도하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판에의 경질 피막 제조방법
5 5
제4항에 있어서,상기 스퍼터링을 위한 진공도는 10-3 토르 이하이고, 스퍼터링을 유도하는 단계에서의 진공도는 3ⅹ10-3 토르 이하인 것을 특징으로 하는 기판에의 경질 피막 제조방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 반응성 가스는 질소, 아세틸렌, 산소 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 기판에의 경질 피막 제조방법
7 7
제1항에 있어서,상기 코팅하는 단계는 코팅 층이 외곽으로 갈수록 탄소 성분이 증가하고, 최외곽 층은 경도가 가장 높은 층이 되도록 가스 유량을 제어하는 것을 특징으로 하는 기판에의 경질 피막 제조방법
8 8
제7항에 있어서,상기 코팅 층의 최외곽 층은 금속과 탄소의 원자비가 1: 0
9 9
제1항에 있어서,상기 기판을 청정하는 단계 이후에는 상기 진공실의 진공도를 원상태로 복귀시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판에의 경질 피막 제조방법
10 10
제1항 내지 제9항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 코팅 층은 3개 이상인 것을 특징으로 하는 기판에의 경질 피막 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.