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피측정물이 안착되는 것으로서, 회전을 통하여 상기 피측정물을 함께 회전시키는 회전판;기 설정된 측정주기마다 측정광을 상기 피측정물의 표면에 조사하여 상기 피측정물까지의 거리를 측정하고, 상기 측정된 거리를 변위값으로 출력하는 비접촉식 변위센서; 및상기 회전판의 회전속도 및 상기 측정주기를 이용하여 상기 회전판의 회전각을 산출하고, 상기 회전각 및 상기 변위값을 이용하여 상기 피측정물의 외경 프로파일을 생성한 후, 상기 외경 프로파일로부터 상기 피측정물의 외경을 구하는 신호처리부를 포함하고, 상기 회전판은 외경 측정이 가능한 측정범위가 표시된 외경측정장치
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제1항에 있어서, 상기 신호처리부는여기서, di는 i번째 측정한 변위값, θ는 상기 회전각, D는 상기 비접촉식 변위센서와 상기 회전판의 회전축 사이의 거리로서, 상기 Pi를 직교좌표계에 표시하여 상기 외경 프로파일을 생성하는 외경측정장치
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제2항에 있어서, 상기 신호처리부는상기 외경 프로파일에 대하여 최소자승법을 적용하여 상기 피측정물의 외경을 계산하는 외경측정장치
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제3항에 있어서, 상기 신호처리부는여기서, n은 상기 측정한 변위값의 개수, r은 상기 외경 프로파일의 반지름, a, b는 임의의 변수로서, 상기 수식을 만족하는 a, b, r을 구하여 상기 피측정물의 외경을 계산하는 외경측정장치
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제1항에 있어서,기 설정된 위치에 구비되는 것으로서, 상기 비접촉식 변위센서를 상하로 이송시키는 1축 스테이지를 더 포함하는 외경측정장치
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센서를 이용하여, 회전판에 표시된 측정범위 내에 피측정물이 안착되는지 여부를 확인하는 측정범위확인단계;상기 회전판을 회전시켜 상기 피측정물을 회전시키는 회전단계;비접촉식 변위센서를 이용하여 기 설정된 측정주기마다 상기 피측정물에 측정광을 조사하고, 상기 피측정물까지의 거리를 측정하는 변위값 측정단계;상기 회전판의 회전속도 및 상기 측정주기를 이용하여 상기 피측정물의 회전각을 산출하는 회전각 산출단계;상기 회전각 및 상기 변위값을 이용하여, 상기 피측정물에 대한 외경 프로파일을 생성하는 외경 프로파일 생성단계; 및상기 외경 프로파일에 최소자승법을 적용하여, 상기 피측정물의 외경을 구하는 외경계산단계를 포함하는 외경측정방법
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제7항에 있어서, 상기 외경 프로파일 생성단계는,여기서, di는 i번째 측정한 변위값, θ는 상기 회전각, D는 상기 비접촉식 변위센서와 상기 회전판의 회전축 사이의 거리로서, 상기 Pi를 직교좌표계에 표시하여 상기 외경 프로파일을 생성하는 외경측정방법
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제8항에 있어서, 상기 외경계산단계는, 여기서, n은 상기 측정한 변위값의 개수, r은 상기 외경 프로파일의 반지름, a, b는 임의의 변수로서, 상기 수식을 만족하는 a, b, r을 구하여 상기 피측정물의 외경을 계산하는 외경측정방법
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제7항에 있어서,상기 비접촉식 변위센서의 위치를 상하로 조절하는 측정위치조절단계를 더 포함하는 외경측정방법
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