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평판형 분리판;상기 분리판 상에 형성된, 60~70%의 기공율을 갖는 애노드기능층과 개질 촉매가 충진된 애노드유로층을 포함하는 니켈폼(Ni-form) 재질의 애노드;상기 애노드 상에 형성된 매트릭스;상기 매트릭스 상에 형성된, 70~80%의 기공율을 갖도록 Ni가 침투되고, 전해질이 함침된 캐소드기능층과 90%이상의 기공율을 갖는 캐소드유로층을 포함하는 스테인레스스틸폼(STS-form) 재질의 캐소드; 및 상기 캐소드 상에 형성된 평판형 분리판을 포함하며,상기 애노드는 상기 애노드유로층이 분리판과 접하도록 위치하고,상기 캐소드는 상기 캐소드유로층이 분리판과 접하도록 위치하는 용융탄산염 연료전지용 단위셀
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청구항 1에 있어서,상기 분리판은 스테인레스스틸인 용융탄산염 연료전지용 단위셀
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청구항 1에 있어서,상기 애노드유로층의 두께는 상기 애노드의 두께 대비 50~90%인 용융탄산염 연료전지용 단위셀
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청구항 1에 있어서,상기 매트릭스는 세라믹 재질인 용융탄산염 연료전지용 단위셀
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청구항 1에 있어서,상기 캐소드유로층의 두께는 상기 캐소드의 두께 대비 50~90%인 용융탄산염 연료전지용 단위셀
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니켈폼, 스테인레스스틸폼, 매트릭스 및 평판형 분리판을 준비하는 단계;상기 니켈폼을 전체 두께의 10~50%가 60~70%의 기공율을 갖도록 Ni를 침투시켜 애노드기능층을 형성하고, 상기 애노드기능층 외의 영역에는 개질 촉매를 충진시켜 애노드유로층을 형성하여, 애노드기능층 및 애노드유로층을 포함하는 애노드를 얻는 단계;상기 스테인레스스틸폼을 전체 두께의 50~90%가 70~80%의 기공율을 갖도록 Ni를 침투시킨 후, 전해질을 함침시켜 캐소드기능층을 형성하여, 캐소드기능층과 캐소드유로층을 포함하는 캐소드를 얻는 단계;상기 분리판, 애노드, 매트릭스, 캐소드 및 분리판을 순차적으로 적층하는 단계를 포함하고,상기 애노드는 상기 애노드유로층이 상기 분리판에 접하도록 위치하고, 상기 캐소드는 캐소드유로층이 상기 분리판에 접하도록 위치하는 용융탄산염 연료전지용 단위셀의 제조방법
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청구항 6에 있어서,상기 애노드기능층의 형성은 상기 니켈폼을 전체 두께의 50~90%를 고분자 페이스트에 담근 후, 상기 고분자 페이스트를 건조시킨 뒤, 상기 고분자 페이스트가 건조되지 않은 영역에 Ni를 침투시키는 것으로 이루어지는 용융탄산염 연료전지용 단위셀의 제조방법
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청구항 7에 있어서,상기 애노드유로층의 형성은 상기 건조된 고분자 페이스트를 제거한 뒤, 이 영역의 니켈폼에 개질 촉매를 충진하는 것으로 이루어지는 용융탄산염 연료전지용 단위셀의 제조방법
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청구항 6에 있어서,상기 캐소드기능층의 형성은 상기 스테인레스스틸폼을 전체 두께의 10~50%를 고분자 페이스트에 담근 후, 상기 고분자 페이스트를 건조시킨 뒤, 상기 고분자 페이스트가 건조되지 않은 영역에 Ni를 침투시키고, 이후, 전해질을 함침시키는 것으로 이루어지는 용융탄산염 연료전지용 단위셀의 제조방법
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청구항 9에 있어서,상기 캐소드유로층는 상기 건조된 고분자 페이스트를 제거하여 형성되는 용융탄산염 연료전지용 단위셀의 제조방법
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청구항 7 내지 10 중 어느 한 항에 있어서,상기 고분자 페이스트는 테플론계인 용융탄산염 연료전지용 단위셀의 제조방법
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청구항 6에 있어서,상기 Ni의 침투는 전기도금을 이용하여 이루어지는 용융탄산염 연료전지용 단위셀의 제조방법
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청구항 8 또는 10에 있어서,상기 고분자 페이스트의 제거는 400℃이상에서 열처리하는 것으로 이루어지는 용융탄산염 연료전지용 단위셀의 제조방법
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청구항 6에 있어서,상기 전해질의 함침은 전해질 분말을 상기 스테인레스스틸폼 상에 적층한 뒤, 가열처리하는 것으로 이루어지는 용융탄산염 연료전지용 단위셀의 제조방법
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청구항 14에 있어서,상기 가열처리는 520~550℃에서 이루어지는 용융탄산염 연료전지용 단위셀의 제조방법
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청구항 6에 있어서,상기 전해질의 함침 후, 전해질 페이스트를 상기 스테인레스스틸폼에 충진시키는 단계를 추가로 포함하는 용융탄산염 연료전지용 단위셀의 제조방법
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