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블록 공중합체 및 제1 용매를 포함하는 블록 공중합체 조성물을 준비하는 단계;기판 상에 상기 블록 공중합체 조성물을 코팅하여 마이셀(micelle) 박막을 형성하는 단계;상기 마이셀 박막에 제2 용매를 투입하고 20℃ 내지 30℃의 온도에서 1 내지 6 시간 동안 유지하는 단계; 1 내지 6 시간에 걸쳐 온도를 15℃ 내지 19℃로 조절하는 단계; 및수직 배향된 나노 구조체를 수득하는 단계;를 포함하고,상기 마이셀 박막에 제2 용매를 투입하고 20℃ 내지 30℃의 온도에서 1 내지 6시간 동안 유지하는 단계; 및 상기 1 내지 6시간에 걸쳐 온도를 15℃ 내지 19℃로 조절하는 단계;는, 1회 이상 수행되는 것인,블록 공중합체의 나노 구조체 제조 방법
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제1항에서,상기 블록 공중합체의 나노 구조체는 실린더(cylinder) 형 또는 라멜라(lamellar) 형인 블록 공중합체의 나노 구조체 제조 방법
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제1항에서,상기 블록 공중합체의 나노 구조체의 두께는 10nm 내지 1000nm인 블록 공중합체의 나노 구조체 제조 방법
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제1항에서,상기 블록 공중합체는 폴리스티렌 및 질소 함유 고분자를 포함하는 블록 공중합체의 나노 구조체 제조 방법
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제4항에서,상기 블록 공중합체는 폴리스티렌 및 피리딘 함유 고분자를 포함하는 블록 공중합체의 나노 구조체 제조 방법
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제4항에서,상기 블록 공중합체는 폴리스티렌 및 폴리(비닐피리딘)을 포함하는 블록 공중합체의 나노 구조체 제조 방법
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제4항에서,상기 블록 공중합체에서 상기 폴리스티렌 및 상기 질소 함유 고분자의 조성비는 75~50 : 25~50인 블록 공중합체의 나노 구조체 제조 방법
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8
제4항에서,상기 제1 용매는 상기 폴리스티렌에 대해서만 친화성을 가지는 용매인 블록 공중합체의 나노 구조체 제조 방법
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9
제4항에서,상기 제2 용매는 상기 질소 함유 고분자에 대해서만 친화성을 가지는 용매인 블록 공중합체의 나노 구조체 제조 방법
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제9항에서,상기 제2 용매는 클로로포름(chloroform), 1,4-다이옥산(1,4-Dioxane), 또는 이들의 조합인 블록 공중합체의 나노 구조체 제조 방법
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11
제1항에서,상기 마이셀 박막의 두께는 10nm 내지 1000nm인 블록 공중합체의 나노 구조체 제조 방법
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제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 따라 제조된 블록 공중합체의 나노 구조체
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