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티타늄화합물피막의제조방법

  • 기술번호 : KST2015108350
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 시계와 같은 대인 장식용 제품의 장식성 향상 및 공구나 기계류 그리고 금형제품과 같은 제품의 수명향상을 위하여 이에 이용되는 부속판 등에 스퍼터링 증발원을 이용하여 반응성 스퍼터링에 의한 티타늄 화합물 피막을 형성시키는 방법에 관한 것으로, 불활성가스와 반응성 가스가 혼합된 가스 분위기에서 증발원으로 티타늄 타겟이 장착된 스퍼터링 증발원을 이용하고 글로우 방전을 이용하여 이루어지는 티타늄 화합물 피막의 제조방법에 있어서, 증발원으로 비평형 마그네트론 스퍼터링 증발원을 이용하되, 전자석의 전류를 2~5A로 하고, 기판전류를 1.5mA/cm2 이상으로 조절하여 제조하는 것을 특징으로 하여, 밀착력과 색상의 밝기 등과, 피막의 특성이 대폭 향상될 뿐만 아니라, 150℃ 이하의 저온에서도 피막제조가 가능하여 기존 방식으로 불가능하였던 플라스틱과 같은 온도에 민감한 소재에도 코팅이 가능하기 때문에 소재의 선택 폭을 넓힐 수 있는 효과가 있다.
Int. CL C23C 14/35 (2006.01)
CPC C23C 14/354(2013.01) C23C 14/354(2013.01) C23C 14/354(2013.01) C23C 14/354(2013.01)
출원번호/일자 1019980053862 (1998.12.09)
출원인 재단법인 포항산업과학연구원
등록번호/일자 10-0298599-0000 (2001.06.01)
공개번호/일자 10-2000-0038761 (2000.07.05) 문서열기
공고번호/일자 (20011122) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1999.03.22)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인 포항산업과학연구원 대한민국 경북 포항시 남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정재인 대한민국 경상북도 포항시 남구
2 박형국 대한민국 경상북도 경주시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 홍재일 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *** (삼성동) 삼영빌딩 *층(홍앤홍국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인 포항산업과학연구원 대한민국 경북 포항시 남구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
1998.12.09 수리 (Accepted) 1-1-1998-0454272-92
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1998.12.09 수리 (Accepted) 1-1-1998-0421481-65
3 출원심사청구서
Request for Examination
1999.03.22 수리 (Accepted) 1-1-1999-5121464-14
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.01.21 수리 (Accepted) 4-1-2000-0007991-58
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2000.10.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2000-0268350-11
6 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2000.12.18 수리 (Accepted) 1-1-2000-5388679-99
7 의견서
Written Opinion
2001.01.08 수리 (Accepted) 1-1-2001-5005669-40
8 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2001.01.08 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2001-5005670-97
9 등록사정서
Decision to grant
2001.05.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2001-0122987-28
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.08.13 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065864-86
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.06.15 수리 (Accepted) 4-1-2004-0025494-38
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2005.03.04 수리 (Accepted) 4-1-2005-5020373-24
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-0019112-38
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.09.28 수리 (Accepted) 4-1-2016-5138263-79
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5211042-46
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번호 청구항
1 1

불활성가스와 반응성 가스가 혼합된 가스 분위기에서 증발원으로 티타늄 타겟이 장착된 스퍼터링 증발원을 이용하고 글로우 방전을 이용하여 이루어지는 티타늄 화합물 피막의 제조방법에 있어서, 증발원으로 비평형 마그네트론 스퍼터링 증발원(2)을 이용하되, 전자석(3)에 인가하는 전류를 2 ~ 5A로 조절하고, 기판(4)에 인가하는 전류를 1

2 2

제1항에 있어서, 티타늄 화합물은 TiN, TiC 또는 TiCN 중의 어느 하나인 것을 특징으로 하는 티타늄 화합물 피막의 제조 방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.