맞춤기술찾기

이전대상기술

화학 센서용 염화은/은 박막형 기준전극의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015108463
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 화학센서용 박막형 기준전극 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 안정성있는 기준전극 확보하고, 실리콘 산화층에 대한 밀착력 및 기준전극의 표면 거칠기를 향상시키기 위해, 중간 금속층 형성 및 열처리를 하여 화학센서용 박막형 기준전극 제조하는 방법에 관한 것이다.본 발명에서는 기판인 실리콘 산화층 상부면에 니켈을 소스로 제1중간금속층을 증착하는 단계; 상기 증착된 니켈층 상부면에 티타늄을 소스로 제2중간금속층을 증착하는 단계; 상기 제2중간금속층의 상부면에 은을 증착하는 단계;및 상기 은층의 표면에 염화기(Cl)가 포함된 용액으로 염화은층을 형성시키는 단계를 포함하고, 상기 은 증착이 완료된 후 또는 상기 염화은층을 형성시킨 후, 상기 기준전극용 박막을 열처리를 하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 화학센서용 박막형 기준전극 제조방법을 제공한다.화학센서, 염화은, 기준전극, 중간 금속층, 실리콘 산화층
Int. CL G01N 27/30 (2006.01)
CPC G01N 27/301(2013.01) G01N 27/301(2013.01)
출원번호/일자 1020020082799 (2002.12.23)
출원인 재단법인 포항산업과학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2004-0056226 (2004.06.30) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 취하
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 4

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 재단법인 포항산업과학연구원 대한민국 경북 포항시 남구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김흥락 대한민국 경상북도경주시
2 김광일 대한민국 경상북도포항시남구
3 김영덕 대한민국 경상북도포항시북구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인맥 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로 ***, *층 (양재동, 화승빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2002.12.23 수리 (Accepted) 1-1-2002-0425707-23
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.06.15 수리 (Accepted) 4-1-2004-0025494-38
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2005.03.04 수리 (Accepted) 4-1-2005-5020373-24
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-0019112-38
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.09.28 수리 (Accepted) 4-1-2016-5138263-79
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5211042-46
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

화학센서용 박막형 기준전극을 제조함에 있어서,

실리콘 산화층(3)의 상부면에, 상기 실리콘 산화층(3)에 대한 밀착력을 높이기 위하여, 니켈을 소스로 제1중간금속층(300)을 증착하는 단계;

상기 증착된 니켈(300)의 상부면에, 상기 기준전극의 표면 거칠기를 향상시키기 위하여, 티타늄을 소스로 제2중간금속층(200)을 증착하는 단계;

상기 제2중간금속층(200)의 상부면에 은을 증착(2)하는 단계;

및 염화기(Cl)가 포함된 용액으로 상기 은층(2)의 상부면에 염화은층(1)을 형성시키는 단계;

를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학센서용 박막형 기준전극 제조방법

2 2

제1항에 있어서, 상기 은 증착(2)이 완료된 후, 상기 기준전극용 박막을 200∼400℃에서 열처리하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 화학센서용 박막형 기준전극 제조방법

3 3

제1항에 있어서, 상기 염화은층(1)을 형성시킨 후, 상기 기준전극용 박막을 200∼400℃에서 열처리하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 화학센서용 박막형 기준전극 제조방법

4 4

제1항에 있어서, 상기 니켈(100,300) 및 티타늄층(100,200)은 각각 두께가 0

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.