맞춤기술찾기

이전대상기술

질화 코팅층의 형성방법 및 그 방법에 의하여 형성된 질화코팅층

  • 기술번호 : KST2015108566
  • 담당센터 : 대구기술혁신센터
  • 전화번호 : 053-550-1450
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 질화 코팅층의 형성방법이 개시된다. 본 발명에 의한 질화 코팅층은 기판상에 증착된 복수의 TiAlSiN 코팅층으로, 상기 기판에서 두께 방향으로 가까운 TiAlSiN 코팅층에서의 Si 함유량이, 상기 기판에서 두께방향으로 상대적으로 먼 TiAlSiN 코팅층에서의 Si 함유량 보다 작아, 상기 복수의 TiAlSiN 코팅층에서 Si 함유량에 대한 농도 구배가 형성된 질화 코팅층을 제공한다.
Int. CL C23C 14/34 (2006.01) C23C 14/06 (2006.01)
CPC C23C 14/3492(2013.01) C23C 14/3492(2013.01) C23C 14/3492(2013.01)
출원번호/일자 1020130164689 (2013.12.26)
출원인 재단법인 포항산업과학연구원
등록번호/일자 10-1637945-0000 (2016.07.04)
공개번호/일자 10-2015-0076468 (2015.07.07) 문서열기
공고번호/일자 (20160711) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.12.26)
심사청구항수 2

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 재단법인 포항산업과학연구원 대한민국 경북 포항시 남구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 양지훈 대한민국 경북 포항시 남구
2 정재인 대한민국 경북 포항시 남구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 재단법인 포항산업과학연구원 경북 포항시 남구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.12.26 수리 (Accepted) 1-1-2013-1192999-42
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.11.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.12.11 수리 (Accepted) 9-1-2014-0095053-43
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.06.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0367994-66
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.07.28 수리 (Accepted) 1-1-2015-0735291-18
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.07.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0735290-73
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2015.12.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0845959-57
8 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2016.01.04 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2016-0003798-75
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.01.04 수리 (Accepted) 1-1-2016-0003788-18
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.02.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0095655-81
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2016.03.24 수리 (Accepted) 1-1-2016-0283176-86
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.03.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0283183-06
13 등록결정서
Decision to Grant Registration
2016.07.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0477622-34
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2016.09.28 수리 (Accepted) 4-1-2016-5138263-79
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5211042-46
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
삭제
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
진공 증착 장비의 진공용기내에 기판을 장착하는 단계;상기 진공용기내에 질소가스를 주입한 상태에서, TiAl 타겟을 음극 아크소스를 이용하여 TiAl 증기를 증발시켜 상기 기판의 표면에 TiAlN 코팅층을 형성하는 단계; 및상기 진공용기내에 질소가스와 TiAl 타겟을 음극 아크소스를 이용하여 TiAl 증기를 증발시킨 상태에서, 전압 제어가 가능한 Si 타겟을 스퍼터링 소스를 이용하여 전압을 점증적으로 증가시키면서 Si 증기를 증발시켜, 상기 기판상부 또는 상기 TiAlN 코팅층 상부에 Si 함유량에 대한 농도 구배가 형성되는 복수의 TiAlSiN 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 복수의 TiAlSiN 코팅층은 제 1 TiAlSiN 코팅층, 제 2 TiAlSiN 코팅층 및 제 3 TiAlSiN 코팅층이 연속적으로 이루어지고,제 1 TiAlSiN 코팅층에서의 Si 함유량은 2 at % 이하(단, 0at% 제외)이고, 제 2 TiAlSiN 코팅층에서의 Si 함유량은 2 ~ 5 at%이며, 제 3 TiAlSiN 코팅층에서의 Si 함유량은 5 ~ 10 at %이고,상기 복수의 TiAlSiN 코팅층의 총 두께는 1 ~ 10 ㎛이고,제 1 TiAlSiN 코팅층, 제 2 TiAlSiN 코팅층 및 제 3 TiAlSiN 코팅층의 두께 비율이 1 : 1 : 1인 질화 코팅층의 형성방법
10 10
삭제
11 11
삭제
12 12
삭제
13 13
삭제
14 14
삭제
15 15
제 9 항에 있어서,상기 복수의 TiAlSiN 코팅층에서 Ti와 Al의 함유량은 각각 10 ~ 90 at %, 90 ~ 10at % 인 질화 코팅층 형성방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.