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턴디쉬;턴디쉬를 지지하며, 하나 이상의 용탕 오리피스가 형성된 회전 플레이트;오리피스와 대응하도록 회전 플레이트 하부에 설치되는 하나 이상의 가스 분무기;회전 플레이트 상에 설치되어 턴디쉬를 회전시키는 턴디쉬 회전 구동부;턴디쉬 하부에 설치되며, 턴디쉬의 중심축과 소정 간격 이격된 중심축을 갖는 기판; 기판 하부에 설치되어 기판을 수직 이송 및 회전시키는 기판 회전 및 수직 이송부; 및 기판을 수평 이송시키는 기판 수평 이송부를 포함하는 분무 주조 장치
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제 1 항에 있어서, 가스 분무기는 턴디쉬의 중심축에 대해서 10° 내지 60°의 각도를 갖고 경사지게 배치되어 있는 튜브 성형체 분무 주조 장치
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제 1 항에 있어서, 가스 분무기는 턴디쉬의 중심축을 중심으로 환형으로 배열되는 튜브 성형체 분무 주조 장치
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제 1 항에 있어서, 가스 분무기는 턴디쉬의 중심축을 중심으로 대칭적으로 배열되고, 배출되는 액적 스프레이가 기판 상에서 턴디쉬의 중심축을 중심으로 하는 원의 형태로 분사되도록 배치된 튜브 성형체 분무 주조 장치
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제 1 항에 있어서, 가스 분무기는 배출되는 액적 스프레이가 기판 상에서 턴디쉬의 중심축을 지나 분사되도록 배치되어 있는 튜브 성형체 분무 주조 장치
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제 1 항에 있어서, 기판은 챔버 내에 설치되어 챔버 내에서 액적 스프레이가 분사되는 튜브 성형체 분무 주조 장치
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제 1 항에 있어서, 턴디쉬 회전 구동부는;회전 플레이트를 회전 가능한 상태로 지지하는 지지 플레이트;지지 플레이트에 설치된 제 1 구동부; 및제 1 구동부의 회전력을 전달받으며, 회전 플레이트 원주 상에 고정된 외접 링 기어와 치합된 피니언 기어를 포함하여 제 1 구동부의 작동시 지지 플레이트에 지지되어 있는 턴디쉬는 그 중심축을 중심으로 회전하는 튜브 성형체 분무 주조 장치
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제 1 항에 있어서, 기판 회전 및 수직 이송부는,챔버 하부의 기판 지지 플레이트 상에 설치된 프레임;프레임 내에 회전 가능하게 설치된 수직 나선봉;수직 나선봉에 구동력을 전달하여 수직 나선봉을 회전시키는 제 2 구동부; 수직 나선봉이 관통하여 수직 나선봉의 회전 운동에 따라 나선봉을 따라 수직 이송되며, 상부에는 기판의 기판 지지대가 고정되어 있는 너트 플레이트;기판 지지 플레이트 상에 설치된 제 3 구동부;제 3 구동부의 구동축에 연결된 내측 스플라인 샤프트; 및기판의 하부에서 연장된 기판 지지대 내에 설치되며, 내부에 내측 스플라인 샤프트가 수용된 외측 스플라인 샤프트를 포함하여,제 2 구동부의 작동에 의한 수직 나선봉의 회전시, 너트 플레이트 및 기판 지지대가 수직 이동하며, 제 3 구동부의 작동에 의하여 기판 지지대 및 기판이 회전하는 튜브 성형체 분무 주조 장치
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제 8 항에 있어서, 기판 수직 이송부는 제 3 구동부의 구동축에 연결된 체인; 및수직 나선봉의 일단에 장착되며, 체인과 맞물리는 체인 스프라켓을 더 포함하는 튜브 성형체 분무 주조 장치
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제 1 항에 있어서, 기판 수평 이송부는,제 4 구동부; 및 제 4 구동부의 구동축에 연결되며, 기판 지지 플레이트 상에 장착된 랙 기어를 포함하여;제 4 구동부의 회전력이 랙 기어를 직선 이동시켜 기판 지지 플레이트, 기판 지지 플레이트에 고정된 기판 및 기판 지지 플레이트 상에 구성된 기판 회전 및 수직 이송부가 직선 이송되는 튜브 성형체 분무 주조 장치
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