요약 | 본 발명은 분철광석의 유동층식 환원장치, 용융선철제조장치 및 분철광석의 환원방법에 관한 것으로서, 환원철의 생산속도가 우수하고 가스이용율의 극대화 및 미분으로 인한 분산판 막힘 등의 트라블 방지를 도모할 수 있고, 비산으로 인한 광석의 손실을 줄일 수 있고, 설비의 효율이 높아질 뿐만 아니라, 설비의 구성이 단순한 분철광석의 유동층식 환원장치,및 이를 이용한 분철광석의 환원방법및 용융선철제조장치를 제공하고자 하는데, 그 목적이 있다. 본 발명은 분철광석을 환원하는 유동층식 환원장치에 있어서, 저유속 환원실과고유속 환원실로 이루어지며, 분철광석을 환원성 분위기에서 예열 및 예비환원시키도록 구성되는 제 1유동층로; 제 1유동층로의 배가스에 함유된 미립철광석이 가스와 분리되어 제 1유동층로의 저유속 환원실로 재순환되도록 구성된 제 1사이클론; 제 1유동층로의 고유속 환원실로부터 배출되어 장입된 예열 및 예비환원된 조립의 분철광석을 환원가스에 의하여 기포유동층을 형성하면서 최종환원하도록 구성된 상광하협형(Taper)제 2유동층로;및 제 2유동층로의 배가스에 함유된 미립철광석이 가스와 분리되어 제 2유동층로하부로 재순환되도록 구성된 제 2사이클론를 포함하여 구성되는 분철광석의 유동층식 환원장치, 분철광석의 환원방법,및 용융선철제조장치를 그 요지로한다. |
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Int. CL | C21B 13/02 (2006.01) |
CPC | C21B 13/0033(2013.01) |
출원번호/일자 | 1019970073583 (1997.12.24) |
출원인 | 주식회사 포스코, 재단법인 포항산업과학연구원, 뵈스트-알핀 인두스트리안라겐바우 게엠바하 |
등록번호/일자 | 10-0262486-0000 (2000.05.02) |
공개번호/일자 | 10-1999-0053880 (1999.07.15) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20020417) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | 심판사항 |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (1997.12.24) |
심사청구항수 | 14 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
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1 | 주식회사 포스코 | 대한민국 | 경상북도 포항시 남구 |
2 | 뵈스트-알핀 인두스트리안라겐바우 게엠바하 | 오스트리아 | 오스트리아 아-**** 린쯔 투름슈트라쎄 |
3 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 대한민국 | 경북 포항시 남구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 강흥원 | 대한민국 | 경상북도 포항시 남구 |
2 | 최낙준 | 대한민국 | 경상북도 포항시 남구 |
3 | 정선광 | 대한민국 | 경상북도 포항시 남구 |
4 | 김행구 | 대한민국 | 경상북도 포항시 남구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
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1 | 손원 | 대한민국 | 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)(특허법인씨엔에스) |
2 | 이성동 | 대한민국 | 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)(특허법인씨엔에스) |
3 | 전준항 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 언주로**길 **, 대림아크로텔 ****호 (도곡동) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
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1 | 포항종합제철 주식회사 | 대한민국 | 경상북도 포항시 남구 |
2 | 재단법인 포항산업과학연구원 | 대한민국 | 경상북도 포항시 남구 |
3 | 뵈스트-알핀 인두스트리안라겐바우 게엠바하 | 오스트레일리아 | 오스트리아 아-**** 린쯔 투름슈트라쎄 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | 출원심사청구서 Request for Examination |
1997.12.24 | 수리 (Accepted) | 1-1-1997-0229129-14 |
2 | 특허출원서 Patent Application |
1997.12.24 | 수리 (Accepted) | 1-1-1997-0229127-23 |
3 | 대리인선임신고서 Notification of assignment of agent |
1997.12.24 | 수리 (Accepted) | 1-1-1997-0229128-79 |
4 | 명세서등보정서 Amendment to Description, etc. |
1998.02.26 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-1997-0229130-61 |
5 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
1999.08.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-1999-0268403-05 |
6 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
1999.09.08 | 수리 (Accepted) | 4-1-1999-0115722-12 |
7 | 의견서 Written Opinion |
1999.09.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-1999-5345860-78 |
8 | 명세서등보정서 Amendment to Description, etc. |
1999.09.29 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-1999-5345861-13 |
9 | 거절사정서 Decision to Refuse a Patent |
1999.11.04 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-1999-0340252-75 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
1999.11.29 | 수리 (Accepted) | 4-1-1999-0145373-17 |
11 | 명세서등보정서 Amendment to Description, etc. |
2000.01.12 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 7-1-1999-0030969-03 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2000.01.21 | 수리 (Accepted) | 4-1-2000-0007991-58 |
13 | 등록사정서 Decision to grant |
2000.02.10 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2000-0023431-87 |
14 | FD제출서 FD Submission |
2000.05.03 | 수리 (Accepted) | 2-1-2000-5072624-01 |
15 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2000.10.09 | 수리 (Accepted) | 4-1-2000-0129574-50 |
16 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2002.03.21 | 수리 (Accepted) | 4-1-2002-0027128-10 |
17 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2002.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2002-0043602-26 |
18 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2002.05.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2002-0043593-03 |
19 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2002.08.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2002-0065864-86 |
20 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2003.08.08 | 수리 (Accepted) | 4-1-2003-0044872-49 |
21 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2004.06.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2004-0025494-38 |
22 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2005.01.05 | 수리 (Accepted) | 4-1-2005-0000391-49 |
23 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2005.03.04 | 수리 (Accepted) | 4-1-2005-5020373-24 |
24 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.05.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-0019112-38 |
25 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2016.09.28 | 수리 (Accepted) | 4-1-2016-5138263-79 |
26 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2018.04.30 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5077322-80 |
27 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.09.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5200802-82 |
28 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.09.30 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5204006-48 |
29 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.10.10 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5211042-46 |
번호 | 청구항 |
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1 |
1 분철광석을 환원하는 유동층식 환원장치에 있어서, 저유속 환원실(110)과 고유속 환원실(120)로 이루어지며, 분철광석을 환원성 분위기에서 예열 및 예비환원시키도록 구성되는 제 1유동층로(100); 제 1유동층로(100)의 배가스에 함유된 미립철광석이 가스와 분리되어 제1유동층로(100)의 저유속 환원실(110)로 재순환되도록 구성된 제 1사이클론(130); 제 1유동층로(100)의 고유속 환원실(110)로부터 배출되어 장입된 예열 및 예비환원된 조립의 분철광석을 환원가스에 의하여 기포유동층을 형성하면서 최종환원하도록 구성된 제 2유동층로(200);및 제 2유동층로(200)의 배가스에 함유된 미립철광석이 가스와 분리되어 제 2유동층로(200)하부로 재순환되도록 구성된 제 2사이클론(210)를 포함하고; 상기 제 1유동층로(100)는 그 상단이 제1유동층로(100)의 상부 내벽과 일정한 거리를 두고 위치되는 내벽(105)에 의해 상광하협형의 고유속 환원실(110) 및 상협하광형의 저유속 환원실(120)로 나누어지고; 상기 제 1유동층로(100)의 하단부에는 환원가스를 공급받기 위한 제 1가스공급구(102)가 형성되고, 그 하부에는 노즐경 및 개공율을 고유속 환원실(110) 및 저유속 환원실(120)에서 각각 다르게 한 제 1가스분산판(101)이 장착되고; 상기 고유속 환원실(110)에는 제 1-1광석배출구(112)가 형성되어 있고,이 제 1-1광석배출구(112)에는 제 2유동층로(200)하부에 연통되어 있는 제 2도관(113)이 연결되고, 또한, 철광석 공급구(111)가 형성되며, 이 철광석 공급구(111)에는 호퍼(400)와 연통되어 있는 제 1도관(401)이 연결되고; 상기 저유속환원실(120)의 하부에는 통상의 스크류 콘베이어식의 제 1-2 광석배출구(121)가 설치되고; 상기 제1유동층로(100)의 상부에는 제1 가스배출구(103)가 형성되어 있으며,이 제 1가스배출구(103)에는 제 1사이클론(130)상부와 연결된 제 3도관(104)이 연결되어 있고; 상기 제 1사이클론(130)은 그 하단부에 제 1유동층로(100)의 저유속 환원실(120)내의 하부까지 확장되어 있는 제 4도관(132)이 연결되어 있고 그 상단부에는 청정된 배가스를 최종적으로 배출시키기 위한 제 6도관(131)이 연결되고; 상기 제 2유동층로(200)는 상부 원통형 하부 원추형으로 구성되며,그 하단부에는 환원가스를 공급받기 위한 제 2가스공급구(202)가 형성되고, 상기 제 2가스공급구(202)위의 하부내에는 제 2가스 분산판(201)이 장착되고, 그리고, 그 측벽에는 제 2광석배출구(203) 및 철광석 공급구(204)가 형성되어 있고, 상기 제 2광석배출구(203)에는 제 7도관(207)이 연결되고, 철광석 공급구(204)에는 제 2도관(113)이 연결되며; 그 상부에는 제 2가스배출구(205)가 형성되어 있으며,이 제 2가스배출구(205)에는 제 2사이클론(210)상부와 연통되어 있는 제 10도관(206)이 연결되며; 상기 제 2사이클론(210)의 저부에는 제 2유동층로(200)내의 하부까지 확장되어 있는 제 9도관(212)이 연결되고, 그리고 그 상단부에는 청정된 배가스를 제 1유동층로(100)로 공급하기 위한 제 8도관(211)이 연결되어 구성됨을 특징으로 하는 분철광석의 유동층식 환원장치 |
2 |
2 제1항에 있어서, 상기 제 1유동층로(100) 와 제 2유동층로(200)의 제 2사이클론(210)사이에는 환원가스의 일부를 연소시키기 위한 산소 또는 공기 취입기(220)가 설치되는 것을 특징으로 하는 분철광석의 유동층식 환원장치 |
3 |
3 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제 2유동층로의 원추형 하부 경사각은 수직선에서 5-15°이고, 원추형 하부(200a)의 분산판에서부터의 높이는 그 하부 분산판 내경의 5-10배이고, 원통형 상부(200b)높이는 그 내경의 3∼4배이고, 제 1유동층로(100)의 고유속 환원실(110)의 하/상단면적비는 0 |
4 |
4 제1항의 분철광석의 유동층식 환원장치를 이용하여 분철광석을 환원하는 방법에 있어서, 제 1유동층로(100)의 고유속 환원실(110)로 공급된 분철광석을 제 2유동층로(200)에서 나오는 배가스(환원가스)에 의하여 기포유동층을 형성하면서 예열 및 예비환원시키고, 환원된 철광석은 제 2도관(113)을 경유하여 제 2유동층로(200)하부로 이동시켜 제 2가스공급구(202)를 통해 공급된 환원가스를 이용하여 기포유동층을 형성하면서 최종환원시킨 다음, 제 2광석배출구(203)를 통해 최종 배출하고; 제 1유동층로(100)의 고유속 환원실(110)에 장입된 광석은 예열 및 예비환원되면서 분화되어 미분함량이 상대적으로 높아져 제 1유동층로(100)외부로 배출되고, 이 배가스에 함유된 미립철광석은 제 1사이클론(130)에서 가스와 분리되어 제 1유동층로(100)의 저유속 환원실(120)의 하부에 재순환되고; 그리고 제 2유동층로(200)의 배가스에 함유된 미립철광석은 제 2사이클론(210)에서 가스와 분리되어 제 2유동층로(200)하부에 재순환되도록 구성됨을 특징으로 하는 분철광석의 환원방법 |
5 |
5 제4항에 있어서, 상기 제 1유동층로(100)와 제 2유동층로(200)의 제 2사이클론(210)사이에 환원가스의 일부를 연소시키기 위한 산소 또는 공기 취입기(220)를 설치하여 배가스(환원가스)에 산소 또는 공기를 취입하여 배가스의 일부를 연소시킬 때 발생하는 연소가스(flue gas)를 혼합하여 소정의 온도에 달한 혼합가스를 제 1유동층로(100)의 환원가스로 이용하는 것을 특징으로 하는 분철광석의 환원방법 |
6 |
6 제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 제 2유동층로의 원추형 하부 경사각은 수직선에서 5∼15°이고, 원추형 하부(200a)의 분산판에서부터의 높이는 그 하부 분산판 내경의 5∼10배이고, 원통형 상부(200b)높이는 그 내경의 3∼4배이고, 제 1유동층로(100)의 고유속 환원실(110)의 하/상단면적비는 0 |
7 |
7 제4항 또는 제5항에 있어서, 제 1유동층로(100)에서의 예열 및 예비환원온도는 700∼800℃이고, 제 2유동층로(200)에서의 최종환원온도는 800∼900℃이고,그리고 제 1유동층로(100)와 제 2유동층로(200)내의 바로 위에서의 가스유속은 로내에 체류하는 분철광석의 최소유동화 속도의 1 |
8 |
8 제6항에 있어서,제 1유동층로(100)에서의 예열 및 예비환원온도는 700-800℃이고, 제 2유동층로(200)에서의 최종환원온도는 800-900℃이고, 제1유동층로(100)의 고유속 환원실(110)의 분산판 직상부에서의 유속은 1 |
9 |
9 (2회정정)제4항, 제5항 또는 제8항 중의 어느 한 항에 있어서, 조립은 0 |
10 |
10 제6항에 있어서, 조립은 0 |
11 |
11 제7항에 있어서, 조립은 0 |
12 |
12 분철광석을 이용하여 용융선철을 제조하는 장치에 있어서, 제1항의 유동층식 환원장치와 용융가스화로(300)로 이루어지고; 상기 용융가스화로(300)에는 상기 제 2유동층로(200)의 제 2광석배출구(203)에 연결되어 있는 제 7도관(207)이 연결되고,그 상부는 제11도관(302)를 통해 제3사이클론(310)과 연통되어 있고, 그 저부에는 제12도관(312)이 연결되어 있고, 이 제12도관(312)은 용융가스화로(300)의측벽에 구비되어 있는 버너(301)와 연결되고; 상기 제3사이클론(310)의 상부에는 제 2유동층로(200)의 제2가스공급구(202)와 연통되어 청정된 용융가스화로(300)의 배가스를 제 2유동층로(200)로 공급하기 위한 제 13도관(311)이 연결되고; 그리고 제1유동층로(100)의 저유속환원실(120)의 하부에 설치된 제 1-2 광석배출구(121)와 연결되어 있는 제 5도관(122)이 상기 제11도관(302)과 연통되도록 구성됨을 특징으로 하는 용융선철제조장치 |
13 |
13 제12항에 있어서, 상기 제 1유동층로(100) 와 제 2유동층로(200)의 제 2사이클론(210)사이에는 환원가스의 일부를 연소시키기 위한 산소 또는 공기 취입기(220)가 설치되는 것을 특징으로 하는 용융선철제조장치 |
14 |
14 제12항 또는 제13항에 있어서, 상기 제 2유동층로의 원추형 하부 경사각은 수직선에서 5∼15°이고, 원추형 하부(200a)의 분산판에서부터의 높이는 그 하부 분산판 내경의 5∼10배이고, 원통형 상부(200b)높이는 그 내경의 3∼4배이고, 제 1유동층로(100)의 고유속 환원실(110)의 하/상단면적비는 0 |
지정국 정보가 없습니다 |
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패밀리정보가 없습니다 |
---|
국가 R&D 정보가 없습니다. |
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특허 등록번호 | 10-0262486-0000 |
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표시번호 | 사항 |
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1 |
출원 연월일 : 19971224 출원 번호 : 1019970073583 공고 연월일 : 20020417 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20000210 청구범위의 항수 : 14 유별 : C21B 13/02 발명의 명칭 : 분철광석의유동층식환원장치,용융선철제조장치및분철광석의환원방법 존속기간(예정)만료일 : 20170503 |
순위번호 | 사항 |
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1 |
(권리자) 뵈스트-알핀 인두스트리안라겐바우 게엠바하 오스트리아 아-**** 린쯔 투름슈트라쎄 ** |
1 |
(권리자) 포항종합제철 주식회사 경상북도 포항시 남구... |
1 |
(권리자) 재단법인 포항산업과학연구원 경상북도 포항시 남구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 918,000 원 | 2000년 05월 03일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 482,000 원 | 2003년 05월 06일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 410,000 원 | 2004년 05월 03일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 410,000 원 | 2005년 05월 02일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 680,000 원 | 2006년 05월 03일 | 납입 |
제 8 년분 | 금 액 | 680,000 원 | 2007년 05월 03일 | 납입 |
제 9 년분 | 금 액 | 646,000 원 | 2008년 05월 06일 | 납입 |
제 10 년분 | 금 액 | 1,010,000 원 | 2009년 04월 30일 | 납입 |
제 11 년분 | 금 액 | 1,010,000 원 | 2010년 05월 04일 | 납입 |
제 12 년분 | 금 액 | 1,010,000 원 | 2011년 05월 03일 | 납입 |
제 13 년분 | 금 액 | 1,130,000 원 | 2012년 04월 25일 | 납입 |
제 14 년분 | 금 액 | 1,130,000 원 | 2013년 04월 30일 | 납입 |
제 15 년분 | 금 액 | 1,130,000 원 | 2014년 05월 07일 | 납입 |
제 16 년분 | 금 액 | 1,130,000 원 | 2015년 04월 30일 | 납입 |
제 17 년분 | 금 액 | 1,130,000 원 | 2016년 05월 02일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | 출원심사청구서 | 1997.12.24 | 수리 (Accepted) | 1-1-1997-0229129-14 |
2 | 특허출원서 | 1997.12.24 | 수리 (Accepted) | 1-1-1997-0229127-23 |
3 | 대리인선임신고서 | 1997.12.24 | 수리 (Accepted) | 1-1-1997-0229128-79 |
4 | 명세서등보정서 | 1998.02.26 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-1997-0229130-61 |
5 | 의견제출통지서 | 1999.08.27 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-1999-0268403-05 |
6 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 1999.09.08 | 수리 (Accepted) | 4-1-1999-0115722-12 |
7 | 의견서 | 1999.09.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-1999-5345860-78 |
8 | 명세서등보정서 | 1999.09.29 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-1999-5345861-13 |
9 | 거절사정서 | 1999.11.04 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-1999-0340252-75 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 1999.11.29 | 수리 (Accepted) | 4-1-1999-0145373-17 |
11 | 명세서등보정서 | 2000.01.12 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 7-1-1999-0030969-03 |
12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2000.01.21 | 수리 (Accepted) | 4-1-2000-0007991-58 |
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21 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2004.06.15 | 수리 (Accepted) | 4-1-2004-0025494-38 |
22 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2005.01.05 | 수리 (Accepted) | 4-1-2005-0000391-49 |
23 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2005.03.04 | 수리 (Accepted) | 4-1-2005-5020373-24 |
24 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.05.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-0019112-38 |
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27 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.09.25 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5200802-82 |
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29 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.10.10 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5211042-46 |
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