요약 | 본 발명은 직접접합 SOI(silicon on insulator)기판 제조기술과 실리콘을 선택적으로 식각하는 기술을 이용하여, 실리콘 단결정 선의 폭이 기판의 길이방향으로 점차 좁아지는 구조의 SOI기판 구조를 갖는 단결정 선구조의 SOI 웨이퍼 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 단결정 선구조의 SOI 웨이퍼는 보조웨이퍼로 사용된 실리콘 기판과, 상기 기판을 산화할 때 생성된 산화막과, 상기 산화막 위에서, 실리콘 웨이퍼 직접접합 계면에서 표면으로 갈수록 좁은 폭에서 넓은 폭의 모양을 하는 실리콘 단결정 선과, 상기 실리콘 단결정 선 사이가 서로 분리되도록 하는 절연막을 구비하고, 본 발명에 의한 SOI 웨이퍼 제조방법은 주웨이퍼로 사용된 실리콘 기판표면에 산화막을 형성한 후 사진식각방법에 의해 선택적으로 제거하고 건식식각방법 또는 습식식각방법으로 비등방성식각 또는 등방성식각 공정을 실시하는 단계와, 상기 공정후 표준세척공정을 실시하고, 열산화공정을 실시하는 단계와, 상기 공정후 저압기상증착 또는 TEOS공정을 실시하는 단계와, 상기 공정후 평탄화공정을 실시하는 제조공정법에 의해 제작된 주 웨이퍼와 보조 웨이퍼의 거울면을 서로 마주보게 직접접합하고 열처리공정을 실시하는 단계와, 상기 공정후 직접접합된 주웨이퍼의 뒷면에서 부터 일정한 두께로 박막화하는 공정을 실시하는 단계로 이루어져, 단결정 선구조의 SOI 웨이퍼를 제조할 수 있다. |
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Int. CL | H01L 21/20 (2006.01) |
CPC | H01L 21/7624(2013.01) H01L 21/7624(2013.01) H01L 21/7624(2013.01) H01L 21/7624(2013.01) H01L 21/7624(2013.01) H01L 21/7624(2013.01) |
출원번호/일자 | 1019970049656 (1997.09.29) |
출원인 | 재단법인 포항산업과학연구원 |
등록번호/일자 | 10-0305686-0000 (2001.08.01) |
공개번호/일자 | 10-1999-0027225 (1999.04.15) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20011019) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (1999.10.12) |
심사청구항수 | 10 |