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(A) 분자체 물질에 탄수화물의 수용액과 산의 혼합물을 흡착시키거나 고분자의 전구체를 포함하는 유기물을 흡착시키는 단계; (B) 상기 (A)단계에서 분자체 기공 내에 흡착된 흡착물들을 건조 및 중합시키는 단계; (C) 상기 (B)단계에서 형성된 분자체 물질과 중합된 흡착물의 혼합물에 다시 추가의 탄수화물의 수용액과 산의 혼합물 또는 고분자의 전구체를 포함하는 유기물을 재흡착시켜 건조 및 중합시키는 단계; (D) 상기 (C)단계에서의 혼합물을 열분해시켜 탄소화시키는 단계; 및 (E) 상기 (D)단계에서의 탄소화된 혼합물에서 분자체의 무기물 골격을 불산또는 수산화나트륨 수용액으로 제거시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소 분자체 물질의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 탄수화물이 슈크로스, 크실로스, 또는 글루코스이고, 상기 유기물이 퓨퓨릴 알콜, 아닐린, 아세틸렌, 또는 프로필렌인 것을 특징으로 하는 탄소 분자체 물질의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 분자체 물질이 삼차원 기공 배열 구조를 가지는 분자체 물질또는 일차원 기공들이 미세세공으로 서로 연결된 구조를 가지는 물질을 포함하는 분자체 물질임을 특징으로 하는 탄소 분자체 물질의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 삼차원 기공 배열 구조를 가지는 분자체 물질이 MCM-48, SBA-1, KIT-1, 또는 MSU-1임을 특징으로 하는 탄소 분자체 물질의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 산이 황산, 염산, 질산, 분자체 물질에 알루미늄을 치환시킨 고체산, 또는 탄수화물 또는 고분자 전구체를 축합 또는 중합시킬 수 있는 산인 것을 특징으로 하는 탄소 분자체 물질의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 건조 및 중합이 50∼400℃의 온도범위에서 수행되고, 상기 온도까지 올리는데 필요한 시간은 5분∼24시간인 것을 특징으로 하는 탄소 분자체 물질의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 열분해는 진공 또는 산소가 들어있지 않은 기체의 분위기하에서 500∼1200℃의 온도범위에서 수행되며, 상기 온도까지 올리는데 필요한 시간은 1∼24시간이고, 상기 온도에서 1∼12시간동안 유지시키는 것을 특징으로 하는 탄소 분자체 물질의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 탄수화물 또는 유기물의 흡착량이 분자체 물질 1g당 0
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제1항에 있어서, 상기 방법이 분자체 물질에 탄수화물의 수용액과 산의 혼합물 또는 고분자의 전구체를 포함하는 유기물의 흡착시, 백금, 금, 팔라듐, 루세늄, 몰리브덴 및 전이금속으로 이루어진 군으로부터 선택된 금속원소를 더욱 흡착시키는 것을 특징으로 하는 탄소 분자체 물질의 제조방법
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제1항 내지 제9항중 어느 한 항의 방법에 의해 제조되어 회절각 5。 이하에서 X-선 회절형태가 나타나며, 균일한 기공 직경과 구조 규칙성을 가지는 탄소 분자체 물질
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제10항에 따른 구조 규칙성을 가지는 탄소 분자체 물질의 기공내부에 백금, 금, 팔라듐, 루세늄, 몰리브덴 및 전이금속으로 이루어진 군으로부터 선택된 금속원소가 담지된 것을 특징으로 하는 탄소 분자체 물질
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제10항에 따른 구조 규칙성을 가지는 탄소 분자체 물질을 촉매, 흡착제, 담지체, 센서, 또는 전극재료 물질로 사용하는 방법
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