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폴리비닐카바졸, 폴리실록산카바졸, 폴리파라페닐렌비닐렌, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리아세틸렌, 폴리티오펜, 폴리알킬티오펜 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 블랜드, 상기 중에서 선택된 2종 이상의 공중합체 또는 그 유도체 중에서 선택된 적어도 어느 하나로 이루어진 광전도성 물질과; 아조그룹과 스틸벤그룹 중 어느 하나를 곁가지에 갖는 폴리메틸메타크레이트, 폴리우레탄 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 블랜드, 상기 중에서 선택된 2종 이상의 공중합체 또는 그 유도체 중에서 선택된 적어도 어느 하나로 이루어진 선형 전기 광학 물질과; 플루오린(buckminsterfullerene; C60), TNF(2,4,7-trinitro-9-fluorenone) 중에서 선택된 1종으로 이루어진 전하 발생체와; 가소제를 포함하여 조성되는 것을 특징으로 하는 상안정성이 우수한 광굴절 고분자 조성물
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제 1항에 있어서, 상기 가소제는 에틸카바졸(ethylcarbazole; ECZ); 디메틸(DMP), 디에틸(DEP), 디이소부틸(DIBP), 디부틸(DBP), 디헵틸(DHP), 디2-에틸헥실(DOP), 디이소옥틸(DIOP), 디n-옥틸(DnOP), 디노닐(DNP), 디이소데실(DIDP), 디트리데실(DTDP), 디시크로헥실(DCHP)의 프탈산 에스텔 중 어느 하나와; 부틸벤질(BBP), 부틸라울일(BLP), 메틸올레인(MOP)의 프탈산혼기에스텔 중 어느 하나와; 아디핀산디옥틸(DOA), 이디핀 산디이소데실(DIDA), 아제라이난디옥틸(DOZ), 세바신산디부틸(DBS), 세바신산디옥틸(DOS), 테트라히드로프탈산디옥틸(DOTP)의 지방족 2염기산 중 어느 하나와; 에스텔, 디에틸렌글리콜디벤조에이트(DEDB), 디펜타엘리슬리톨헥산에스텔(707), 헥타에리슬리톨에스텔 등의 글리콜 중 어느 하나와; 에스텔, 올레인산부틸(BO), 아세틸리시놀산에틸(MAR), 염소화지방산메틸, 메톡시 염소화지방산 에틸(ISP-R)의 지방산 에스텔 중의 어느 하나와; 트리클레딜(TCP), 트리옥틸(TOP), 옥틸디페닐(2EDP), 트리페닐(TPP), 트리클로로에틸(TCEP), 클레딜디페닐(CDPP)의 인산에스텔 중 어느 하나 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 상안정성이 우수한 광굴절 고분자 조성물
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폴리비닐카바졸, 폴리실록산카바졸, 폴리파라페닐렌비닐렌, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리아세틸렌, 폴리티오펜, 폴리알킬티오펜 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 블랜드, 상기 중에서 선택된 2종 이상의 공중합체 또는 그 유도체 중에서 선택된 적어도 어느 하나로 이루어진 광전도성 물질과, 아조그룹과 스틸벤그룹 중 어느 하나를 곁가지에 갖는 폴리메틸메타크레이트, 폴리우레탄 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 블랜드, 상기 중에서 선택된 2종 이상의 공중합체 또는 그 유도체 중에서 선택된 적어도 어느 하나로 이루어진 선형 전기 광학 물질과, 플루오린(buckminsterfullerene; C60), TNF(2,4,7-trinitro-9-fluorenone) 중에서 선택된 1종으로 이루어진 전하 발생체와, 가소제를 혼합 조성하여 조성물을 얻는 단계와; 상기 조성물의 필름 가공성을 높이기 위한 가소성 확보를 위하여 상기 조성물을 가소시켜 주는 가소제를 혼합하여 혼합물을 얻는 단계와; 상기 혼합물을 공용매에 대하여 용해시켜 용액을 얻는 단계와; 상기 용액을 투명전극이 코팅된 투명 기판에 캐스팅하고, 상기 공용매를 증발시켜서 혼합물을 얻는 단계; 및 상기 혼합물을 고온에서 가압 성형하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 상안정성이 우수한 광굴절 고분자 조성물 제조 방법
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제 8항에 있어서, 상기 공용매는 클로로벤젠과 사이클로헥사논 중 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 상안정성이 우수한 광굴절 고분자 조성물 제조 방법
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제 8항에 있어서, 상기 투명 전극은 인듐틴옥사이드인 것을 특징으로 하는 상안정성이 우수한 광굴절 고분자 조성물 제조 방법
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