맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

폴링 및 외부 전장 없이 두 빔의 결합 광증폭이 가능한고분자 조성물 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015111858
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 폴링에 의한 비선형 염료의 배열 과정이 없고 두 빔 결합 시에도 외부에서 전장을 가하지 않은 상태에서 높은 이득 계수를 나타내도록 광학적인 투명성이 우수한 고분자와 광화학 반응을 쉽게 일으키는 염료를 적절히 혼합하여 복합체를 형성하고 광증폭이나 정보 기록, 이미지 처리에 사용할 수 있는 유사 광굴절 고분자(pseudo-photorefractive polymer) 특성을 가지는 폴링 및 외부 전장 없이 두 빔의 결합 광증폭이 가능한 고분자 조성물 및 그 제조 방법에 관한 것이다.본 발명은 투명성이 우수한 매트릭스 고분자 물질과; 상기 매트릭스 고분자 물질과 혼합되어 굴절율을 변화시키는 작용을 하는 염료와 염료가 그라프트되어 있는 고분자 물질 중 선택된 적어도 1종을 포함하여 조성되어, 유사 광굴절 고분자를 조성하는 것을 특징으로 하는 폴링 및 외부 전장 없이 두 빔의 결합 광증폭이 가능한 고분자 조성물을 제공한다.유사 광굴절, 고분자, 염료, 염료가 그라프트된 고분자, 가소제,
Int. CL C08L 33/10 (2006.01)
CPC C08L 101/00(2013.01) C08L 101/00(2013.01) C08L 101/00(2013.01)
출원번호/일자 1020010014840 (2001.03.22)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0426805-0000 (2004.03.30)
공개번호/일자 10-2002-0074814 (2002.10.04) 문서열기
공고번호/일자 (20040408) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2001.03.22)
심사청구항수 10

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 박정기 대한민국 대전광역시서구
2 윤춘섭 대한민국 대전광역시유성구
3 이종우 대한민국 서울특별시은평구
4 이광섭 대한민국 대전광역시유성구
5 문준호 대한민국 경기도수원시팔달구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이재화 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 덕천빌딩 *층 이재화특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2001.03.22 수리 (Accepted) 1-1-2001-0063990-02
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2003.02.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2003.03.18 수리 (Accepted) 9-1-2003-0008401-31
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2003.06.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0248166-51
5 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2003.09.01 수리 (Accepted) 1-1-2003-0325707-45
6 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2003.09.30 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2003-0365857-12
7 의견서
Written Opinion		 2003.09.30 수리 (Accepted) 1-1-2003-0365858-57
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2004-0001933-29
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2004.03.19 수리 (Accepted) 4-1-2004-0012166-74
10 등록결정서
Decision to grant		 2004.03.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0118168-16
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

폴링 및 외부 전장 없이 두 빔을 결합하여 광증폭이 가능한 조성물에 있어서,

광학적으로 투명한 매트릭스 고분자 물질 : 5 ∼ 95중량%와;

상기 매트릭스 고분자 물질과 혼합되어 굴절율을 변화시키며 사용되는 레이저의 파장대에서 광흡수율이 낮고 광반응이 용이하게 유도되는 염료와, 상기 염료가 그라프트되어 있는 고분자 물질 중 선택된 적어도 1종 : 5 ∼ 95중량%를 포함하여 조성되어, 유사 광굴절 고분자를 조성하는 것을 특징으로 하는 폴링 및 외부 전장 없이 두 빔의 결합 광증폭이 가능한 고분자 조성물

2 2

삭제
3 3

제 1항에 있어서, 상기 염료가 그라프트되어 있는 고분자 물질은 주사슬이 상기 매트릭스 고분자 물질로 이루어지고, 상기 염료가 곁가지에 붙어 있는 단일 고분자중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 블랜드, 상기 중에서 선택된 2종 이상의 공중합체 및 그 유도체 중에서 선택된 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 폴링 및 외부 전장 없이 두 빔의 결합 광증폭이 가능한 고분자 조성물

4 4

제 1항 또는 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 매트릭스 고분자 물질은 폴리아크릴레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리아크릴아마이드, 폴리카보네이트, 폴리비닐부티랄, 폴리비닐피롤리돈, 폴리우레탄, 폴리에스터, 폴리아마이드, 폴리스티렌, 폴리이미드, 페놀, 멜라민, 우레아 등과 이의 유도체 및 공중합체로써 광학적으로 투명한 고분자와 폴리비닐카바졸, 폴리실록산카바졸, 폴리파라페닐렌비닐렌, 폴리아닐린, 폴리피롤, 폴리아세틸렌, 폴리티오펜, 폴리알킬티오펜 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 블랜드, 상기 중에서 선택된 2종 이상의 공중합체 및 그 유도체 중에서 선택된 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 폴링 및 외부 전장 없이 두 빔의 결합 광증폭이 가능한 고분자 조성물

5 5

제 1항 또는 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 염료는 금속 착염 염료, 냉염 염료, 류코화합물, 반응성 염료, 산성 매염 염료, 산성 염료, 산화 염료, 색소, 식물성 염료, 아세테이트 염료, 아조익 염료, 아크리딘 염료, 안료, 안료 수지 염료, 안트라퀴논계 염료, 염기성 염료, 유용성 염료, 인디고, 직접 염료, 황화 염료, 퍼킨, 형광염료, 아조그룹, 스틸벤그룹 중에서 선택된 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 폴링 및 외부 전장 없이 두 빔의 결합 광증폭이 가능한 고분자 조성물

6 6

제 1항에 있어서, 0

7 7

제 6항에 있어서, 상기 전하 생성체는 플루오린(buckminsterfullorine; C60), TNF(2,4,7-trinitro-9-fluorenone) 중에서 선택된 1종인 것을 특징으로 하는 폴링 및 외부 전장 없이 두 빔의 결합 광증폭이 가능한 고분자 조성물

8 8

제 1항에 있어서, 40중량% 이하의 가소제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴링 및 외부 전장 없이 두 빔의 결합 광증폭이 가능한 고분자 조성물

9 9

제 8항에 있어서, 상기 가소제는 에틸카바졸(ethylcarbazole; ECZ); 디메틸(DMP), 디에틸(DEP), 디이소부틸(DIBP), 디부틸(DBP), 디헵틸(DHP), 디2-에틸헥실(DOP), 디이소옥틸(DIOP), 디n-옥틸(DnOP), 디노닐(DNP), 디이소데실(DIDP), 디트리데실(DTDP), 디시크로헥실(DCHP)의 프탈산 에스텔 중 어느 하나와; 부틸벤질(BBP), 부틸라울일(BLP), 메틸올레인(MOP)의 프탈산혼기에스텔 중 어느 하나와; 아디핀산디옥틸(DOA), 이디핀산디이소데실(DIDA), 아제라이난디옥틸(DOZ), 세바신산디부틸(DBS), 세바신산디옥틸(DOS), 테트라히드로프탈산디옥틸(DOTP)의 지방족 2염기산 중 어느 하나와; 에스텔, 디에틸렌글리콜디벤조에이트(DEDB), 디펜타엘리슬리톨헥산에스텔(707), 헥타에리슬리톨에스텔의 글리콜 중 어느 하나와; 에스텔, 올레인산부틸(BO), 아세틸리시놀산에틸(MAR), 염소화지방산메틸, 메톡시 염소화지방산 에틸(ISP-R)의 지방산 에스텔 중의 어느 하나와; 트리클레딜(TCP), 트리옥틸(TOP), 옥틸디페닐(2EDP), 트리페닐(TPP), 트리클로로에틸(TCEP), 클레딜디페닐(CDPP)의 인산에스텔 중 어느 하나 중에서 선택된 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 폴링 및 외부 전장 없이 두 빔의 결합 광증폭이 가능한 고분자 조성물

10 10

폴링 및 외부 전장 없이 두 빔을 결합하여 광증폭이 가능한 조성물 제조 방법에 있어서,

광학적 투명성을 가지는 매트릭스 고분자 물질과, 상기 매트릭스 고분자 물질과 혼합되어 굴절율을 변화시키며 사용되는 레이저의 파장대에서 광흡수율이 낮고 광반응이 용이하게 유도되는 염료와, 상기 염료가 그라프트되어 있는 고분자 물질 중 선택된 적어도 1종을 포함하여 조성하는 단계와;

상기 조성물을 공용매에 용해시켜 용액을 얻는 단계와;

상기 용액을 지지체 위에 캐스팅하고, 공용매를 증발시켜 혼합물을 얻는 단계와;

상기 혼합물을 고온에서 가압 성형하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴링 및 외부 전장 없이 두 빔의 결합 광증폭이 가능한 고분자 조성물 제조 방법

11 11

제 10항에 있어서, 상기 공용매는 클로로벤젠과 사이클로헥사논 중 적어도 1종이며, 상기 조성물이 상기 공용매에 대하여 5∼30중량% 비율로 용해되는 것을 특징으로 하는 폴링 및 외부 전장 없이 두 빔의 결합 광증폭이 가능한 고분자 조성물 제조 방법

12 12

삭제
13 13

삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.