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트리플루오로메틸기가 치환된 폴리(아릴렌 에테르) 및이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015111944
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 트리플루오로메틸기가 치환된 폴리(아릴렌 에테르) 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 하기 화학식 1로 표시되는 폴리(바이페닐렌 옥사이드) 및 하기 화학식 7로 표시되는 폴리(아릴렌 에테르) 등에 관한 것이며, 본 발명에 의해 열가소성 및 용해도가 좋아 가공성이 좋을 뿐만 아니라 내열성 및 광학 성질 등의 물성이 우수하여 전기전자용, 또는 광학용 재료로서 매우 유용한 새로운 고분자 재료를 제공할 수 있다.[화학식 1][화학식 7]폴리(아릴렌 에테르), 폴리(바이페닐렌 옥사이드), 트리플루오로메틸기
Int. CL C08G 65/40 (2006.01.01) C08G 65/48 (2006.01.01)
CPC C08G 65/40(2013.01) C08G 65/40(2013.01) C08G 65/40(2013.01)
출원번호/일자 1020010080099 (2001.12.17)
출원인 한화토탈 주식회사, 주식회사 엘지화학, 한국과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2003-0049785 (2003.06.25) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2001.12.17)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한화토탈 주식회사 대한민국 충청남도 서산시
2 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구
3 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김상율 대한민국 대전광역시유성구
2 정임식 대한민국 부산광역시동래구
3 인인식 대한민국 대전광역시유성구
4 김성철 대한민국 서울특별시강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인원전 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 풍림빌딩 *층 (역삼동)
2 김학제 대한민국 서울특별시 서초구 매헌로 ** 하이브랜드빌딩 **층 (양재동)(피닉스국제특허법률사무소)
3 문혜정 대한민국 서울특별시 서초구 매헌로 **, 하이브랜드빌딩 **층 (양재동)(피닉스국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2001.12.17 수리 (Accepted) 1-1-2001-0333048-28
2 전자문서첨부서류제출서
Submission of Attachment to Electronic Document
2001.12.18 수리 (Accepted) 1-1-2001-5344522-55
3 서지사항보정서
Amendment to Bibliographic items
2002.01.08 수리 (Accepted) 1-1-2002-5004949-96
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2003.09.05 수리 (Accepted) 4-1-2003-0049425-15
5 출원인변경신고서
Applicant change Notification
2003.09.05 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2003-5172860-17
6 출원인변경신고서
Applicant change Notification
2003.11.21 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2003-5221275-45
7 반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document
2003.12.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2003-0080491-36
8 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2004.01.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2004-0001933-29
10 반려통지서
Notice for Return
2004.01.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2004-0003572-32
11 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2004.02.13 수리 (Accepted) 9-1-2004-0007352-58
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.03.19 수리 (Accepted) 4-1-2004-0012166-74
13 출원인변경신고서
Applicant change Notification
2004.06.30 수리 (Accepted) 1-1-2004-5098773-52
14 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2004.09.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0392393-32
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2004.10.15 수리 (Accepted) 4-1-2004-0041375-89
16 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2004.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0510481-98
17 출원인정보변경(경정)신고서
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2006.08.25 수리 (Accepted) 4-1-2006-0019818-11
18 출원인정보변경(경정)신고서
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2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
19 출원인정보변경(경정)신고서
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2013.10.15 수리 (Accepted) 4-1-2013-5136067-76
20 출원인정보변경(경정)신고서
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2014.02.04 수리 (Accepted) 4-1-2014-5014974-79
21 출원인정보변경(경정)신고서
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2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
22 출원인정보변경(경정)신고서
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2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
23 출원인정보변경(경정)신고서
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2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
24 출원인정보변경(경정)신고서
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2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
25 출원인정보변경(경정)신고서
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2015.05.06 수리 (Accepted) 4-1-2015-5059044-66
26 출원인정보변경(경정)신고서
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2015.05.07 수리 (Accepted) 4-1-2015-5059544-83
27 출원인정보변경(경정)신고서
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2015.05.08 수리 (Accepted) 4-1-2015-5060206-91
28 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
29 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
30 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
31 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
32 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
33 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
34 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

하기 화학식 1로 표시되는 폴리(바이페닐렌 옥사이드)

2 2

상기 제 1항의 폴리(바이페닐렌 옥사이드)를 제조하기 위한, 화학식 4로 표시되는 단량체

3 3

상기 제 2항의 단량체를 극성 양성자성 용매에 용해시킨 후, 탄산칼륨을 1

4 4

제 3항에 있어서, 상기 극성 양성자성 용매가 N-메틸피롤리돈, 다이메틸 술폭사이드, N,N-다이메틸아세트아마이드, N,N-다이메틸포름아마이드, 다이페닐술폰, 및 술폴레인으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법

5 5

하기 화학식 7로 표시되는 폴리(아릴렌 에테르)

6 6

하기 화학식 8로 표시되는 단량체 및 다이하이드록시 화합물을 극성 양성자성 용매에 용해시킨 후, 탄산칼륨을 1

7 7

제 6항에 있어서, 상기 극성 양성자성 용매가 N-메틸피롤리돈, 다이메틸 술폭사이드, N,N-다이메틸아세트아마이드, N,N-다이메틸포름아마이드, 다이페닐술폰, 및 술폴레인으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.