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박리형 니트로계 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법

기술번호 : KST2015111984
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명은 유화중합법에 의해 니트로계 고분자/실리케이트 나노복합체를 제조함에 있어서, 라디칼 중합이 가능한 비닐기 및 실리케이트와 친화력을 가지는 작용기 양자를 보유한 반응형 유화제의 존재하에 비변성 층상 실리케이트 및 상기 고분자를 구성하는 단량체를 사용하여 유화중합을 수행하는 것을 특징으로 하는 박리형 니트로계 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법에 관한 것으로, 상기 중합과정 중에 실리케이트가 충분히 박리되어 고분자 전체에 균일하게 분산되므로 소량의 실리케이트만으로도 목적 고분자의 열적 및 기계적 물성을 크게 개선할 수 있으며, 유기치환된 실리케이트를 사용할 필요가 없기 때문에 생산공정 및 경제적 측면에서 유리하다. 유화중합, 고분자/실리케이트 나노복합체, 반응형 유화제, 박리
Int. CL	B82B 3/00 (2017.01.01) B82Y 40/00 (2017.01.01) C08F 292/00 (2006.01.01) C08F 2/24 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자	1020020042905 (2002.07.22)
출원인	한화토탈 주식회사, 주식회사 엘지화학, 한국과학기술원
등록번호/일자	10-0483851-0000 (2005.04.08)
공개번호/일자	10-2004-0009075 (2004.01.31) 문서열기
공고번호/일자	(20050418) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	등록
심사진행상태	수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2002.07.22)
심사청구항수	13

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	한화토탈 주식회사	대한민국	충청남도 서산시
2	주식회사 엘지화학	대한민국	서울특별시 영등포구
3	한국과학기술원	대한민국	대전광역시 유성구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	최용석	대한민국	대전광역시유성구
2	정인재	대한민국	대전광역시유성구
3	김성철	대한민국	대전광역시유성구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	특허법인원전	대한민국	서울특별시 강남구 테헤란로 **, 풍림빌딩 층 (역삼동)
2	김학제	대한민국	서울특별시 서초구 매헌로 하이브랜드빌딩 층 (양재동)(피닉스국제특허법률사무소)
3	문혜정	대한민국	서울특별시 서초구 매헌로 , 하이브랜드빌딩 층 (양재동)(피닉스국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	주식회사 엘지화학	대한민국	서울특별시 영등포구
2	한화토탈 주식회사	대한민국	충청남도 서산시
3	한국과학기술원	대한민국	대전 유성구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	특허출원서 Patent Application	2002.07.22	수리 (Accepted)	1-1-2002-0232959-40
2	전자문서첨부서류제출서 Submission of Attachment to Electronic Document	2002.07.23	수리 (Accepted)	1-1-2002-5181549-98
3	보정통지서 Request for Amendment	2002.08.12	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2002-0056570-03
4	서지사항보정서 Amendment to Bibliographic items	2002.09.09	수리 (Accepted)	1-1-2002-5223494-49
5	명세서 등 보정서 Amendment to Description, etc.	2003.02.03	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2003-0037261-51
6	출원인변경신고서 Applicant change Notification	2003.09.05	불수리 (Non-acceptance)	1-1-2003-5172860-17
7	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2003.09.05	수리 (Accepted)	4-1-2003-0049425-15
8	반려이유통지서 Notice of Reason for Return of Document	2003.09.17	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2003-0059940-42
9	반려요청서 Request for Return	2003.09.24	수리 (Accepted)	1-1-2003-5182409-17
10	반려통지서 Notice for Return	2003.09.30	수리 (Accepted)	1-5-2003-0062153-08
11	출원인변경신고서 Applicant change Notification	2003.11.21	불수리 (Non-acceptance)	1-1-2003-5221275-45
12	반려이유통지서 Notice of Reason for Return of Document	2003.12.17	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2003-0080491-36
13	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2004.01.14	수리 (Accepted)	4-1-2004-0001933-29
14	반려통지서 Notice for Return	2004.01.26	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2004-0003572-32
15	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2004.03.19	수리 (Accepted)	4-1-2004-0012166-74
16	출원인변경신고서 Applicant change Notification	2004.06.30	수리 (Accepted)	1-1-2004-5098773-52
17	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2004.08.10	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
18	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2004.09.10	수리 (Accepted)	9-1-2004-0052174-72
19	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2004.09.22	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2004-0394924-23
20	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2004.10.15	수리 (Accepted)	4-1-2004-0041375-89
21	의견서 Written Opinion	2004.11.19	수리 (Accepted)	1-1-2004-0540692-15
22	명세서 등 보정서 Amendment to Description, etc.	2004.11.19	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2004-0540697-43
23	등록결정서 Decision to grant	2005.03.10	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2005-0107565-16
24	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2006.08.25	수리 (Accepted)	4-1-2006-0019818-11
25	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2013.02.01	수리 (Accepted)	4-1-2013-5019983-17
26	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2013.10.15	수리 (Accepted)	4-1-2013-5136067-76
27	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2014.02.04	수리 (Accepted)	4-1-2014-5014974-79
28	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2014.12.24	수리 (Accepted)	4-1-2014-5157968-69
29	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2014.12.24	수리 (Accepted)	4-1-2014-5158129-58
30	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2014.12.24	수리 (Accepted)	4-1-2014-5157993-01
31	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2015.01.02	수리 (Accepted)	4-1-2015-5000389-31
32	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2015.05.06	수리 (Accepted)	4-1-2015-5059044-66
33	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2015.05.07	수리 (Accepted)	4-1-2015-5059544-83
34	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2015.05.08	수리 (Accepted)	4-1-2015-5060206-91
35	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2015.12.02	수리 (Accepted)	4-1-2015-5161532-51
36	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2018.11.12	수리 (Accepted)	4-1-2018-5227604-80
37	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2018.12.19	수리 (Accepted)	4-1-2018-5261818-30
38	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2019.04.24	수리 (Accepted)	4-1-2019-5081392-49
39	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2019.08.19	수리 (Accepted)	4-1-2019-5164284-96
40	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2020.05.15	수리 (Accepted)	4-1-2020-5108396-12
41	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2020.06.12	수리 (Accepted)	4-1-2020-5131486-63

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 유화중합법에 의해 니트로계 고분자/실리케이트 나노복합체를 제조함에 있어서, 라디칼 중합이 가능한 비닐기 및 실리케이트와 친화력을 가지는 작용기 양자를 보유한 반응형 유화제의 존재하에 상기 고분자를 구성하는 단량체 및 비변성 층상 실리케이트를 사용하여 유화중합을 수행하는 것을 특징으로 하는 박리형 니트로계 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
2	2 제 1항에 있어서, 상기 단량체가 아크릴로니트릴을 포함하는 것을 특징으로 하는 박리형 니트로계 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
3	3 제 2항에 있어서, 상기 단량체가 스티렌, 비닐클로라이드, 메틸 메타크릴레이트, 부틸메타크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 이소옥틸아크릴레이트, 하이드록시에틸메틸아크릴레이트, 부타디엔 및 이소프렌으로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 박리형 니트로계 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
4	4 제 1항에 있어서, 상기 비변성 층상 실리케이트는 평균 층간 간격이 7∼12Å인 것을 특징으로 하는 박리형 니트로계 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
5	5 제 4항에 있어서, 상기 층상 실리케이트가 몬모릴로나이트, 헥토라이트, 사포나이트 및 플루오로헥토라이트로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 박리형 니트로계 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
6	6 제 1항에 있어서, 상기 반응형 유화제의 실리케이트와 친화력을 가지는 작용기가 아마이드기 또는 술폰기인 것을 특징으로 하는 박리형 니트로계 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
7	7 제 6항에 있어서, 상기 반응형 유화제가 2-아크릴아미도-2-메틸-1-프로판 술폰산, (3-아크릴아미도프로필)트리메틸암모니움 클로라이드, [2-(아크릴로일옥시)에틸]트리메틸암모니움 메틸 설페이트, 비닐벤질트리메틸암모니움 클로라이드, 3-아크릴아미도-3-메틸부틸트리메틸-암모니움 클로라이드, N,N-디알킬아미노에틸 아크릴레이트, N,N-디알킬아미노에틸 메타크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸 아크릴레이트, N,N-디메틸아미토에틸 메타크릴레이트, N,N-디메틸아미노메틸 아크릴아마이드, N,N-디메틸아미노프로필 메타크릴아마이드, 2-메타크릴아미도프로필트리메틸암모니움 클로라이드, 및 1,1-(디메틸)-1-(3-메타크릴옥시-에틸)-1-(3-술포프로필)암모늄 베타인으로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 박리형 니트로계 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
8	8 제 1항에 있어서, 상기 유화중합을 개시하는데 사용되는 개시제가 암모늄퍼설페이트, 포타슘퍼설페이트, 아조비스아이소니트릴 및 벤질퍼옥사이드로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 박리형 니트로계 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
9	9 제 1항에 있어서, 상기 유화중합시 입자 안정화제가 투입되는 것을 특징으로 하는 박리형 니트로계 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
10	10 제 9항에 있어서, 상기 입자 안정화제는 주쇄가 알킬기 또는 에틸렌옥사이드로 구성되는 선형 알킬벤젠 설포네이트 계열의 음이온성 유화제, 비이온성 유화제, 로진비누, 지방비누, 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 박리형 니트로계 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
11	11 제 10항에 있어서, 상기 음이온성 유화제가 도데실 벤젠술폰산 나트륨, 라우린산 나트륨, 데실술폰산 나트륨 및 도데실술폰산 나트륨으로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 박리형 니트로계 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
12	12 제 10항에 있어서, 상기 비이온성 유화제가 N-트리에톡시레이티드노난아마이드, 데실메틸설폭사이드 및 베타-도데실말토사이드로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 박리형 니트로계 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법
13	13 제 1항에 있어서, 상기 유화중합이 씨드중합, 연속중합 또는 배치중합 방식으로 수행되는 것을 특징으로 하는 방법
14	14 삭제
15	14 삭제

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순번	패밀리번호	국가코드	국가명	종류
1	JP04112965	JP	일본	FAMILY
2	JP16051939	JP	일본	FAMILY
3	US06881798	US	미국	FAMILY
4	US20050065248	US	미국	FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번	패밀리번호	국가코드	국가명	종류
1	JP2004051939	JP	일본	DOCDBFAMILY
2	JP4112965	JP	일본	DOCDBFAMILY
3	US2005065248	US	미국	DOCDBFAMILY
4	US6881798	US	미국	DOCDBFAMILY

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데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.

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특허 등록번호	10-0483851-0000

권리란

표시번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 권리란 표입니다.
표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20020722 출원 번호 : 1020020042905 공고 연월일 : 20050418 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20050310 청구범위의 항수 : 13 유별 : B82B 3/00 발명의 명칭 : 박리형 니트로계 고분자/실리케이트 나노복합체의 제조방법 존속기간(예정)만료일 :

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 주식회사 엘지화학 서울특별시 영등포구...
1	(권리자) 한화토탈 주식회사 충청남도 서산시...
1	(권리자) 한국과학기술원 대전 유성구...

등록료란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 등록료란 표입니다.
제 1 - 3 년분	금 액	783,000 원	2005년 04월 11일	납입
제 4 년분	금 액	350,000 원	2008년 03월 19일	납입
제 5 년분	금 액	326,000 원	2009년 03월 26일	납입
제 6 년분	금 액	326,000 원	2010년 03월 30일	납입
제 7 년분	금 액	594,000 원	2011년 04월 05일	납입
제 8 년분	금 액	594,000 원	2012년 03월 30일	납입
제 9 년분	금 액	594,000 원	2013년 04월 01일	납입
제 10 년분	금 액	955,000 원	2014년 03월 05일	납입
제 11 년분	금 액	955,000 원	2015년 03월 03일	납입
제 12 년분	금 액	955,000 원	2016년 03월 29일	납입
제 13 년분	금 액	1,075,000 원	2017년 03월 29일	납입
제 14 년분	금 액	1,075,000 원	2018년 03월 30일	납입
제 15 년분	금 액	1,075,000 원	2019년 03월 25일	납입
제 16 년분	금 액	1,075,000 원	2020년 03월 30일	납입

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정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	특허출원서	2002.07.22	수리 (Accepted)	1-1-2002-0232959-40
2	전자문서첨부서류제출서	2002.07.23	수리 (Accepted)	1-1-2002-5181549-98
3	보정통지서	2002.08.12	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2002-0056570-03
4	서지사항보정서	2002.09.09	수리 (Accepted)	1-1-2002-5223494-49
5	명세서 등 보정서	2003.02.03	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2003-0037261-51
6	출원인변경신고서	2003.09.05	불수리 (Non-acceptance)	1-1-2003-5172860-17
7	출원인정보변경(경정)신고서	2003.09.05	수리 (Accepted)	4-1-2003-0049425-15
8	반려이유통지서	2003.09.17	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2003-0059940-42
9	반려요청서	2003.09.24	수리 (Accepted)	1-1-2003-5182409-17
10	반려통지서	2003.09.30	수리 (Accepted)	1-5-2003-0062153-08
11	출원인변경신고서	2003.11.21	불수리 (Non-acceptance)	1-1-2003-5221275-45
12	반려이유통지서	2003.12.17	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2003-0080491-36
13	출원인정보변경(경정)신고서	2004.01.14	수리 (Accepted)	4-1-2004-0001933-29
14	반려통지서	2004.01.26	발송처리완료 (Completion of Transmission)	1-5-2004-0003572-32
15	출원인정보변경(경정)신고서	2004.03.19	수리 (Accepted)	4-1-2004-0012166-74
16	출원인변경신고서	2004.06.30	수리 (Accepted)	1-1-2004-5098773-52
17	선행기술조사의뢰서	2004.08.10	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
18	선행기술조사보고서	2004.09.10	수리 (Accepted)	9-1-2004-0052174-72
19	의견제출통지서	2004.09.22	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2004-0394924-23
20	출원인정보변경(경정)신고서	2004.10.15	수리 (Accepted)	4-1-2004-0041375-89
21	의견서	2004.11.19	수리 (Accepted)	1-1-2004-0540692-15
22	명세서 등 보정서	2004.11.19	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2004-0540697-43
23	등록결정서	2005.03.10	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2005-0107565-16
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