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낮은 전자온도를 갖는 플라즈마 발생 방법 및 그 장치

  • 기술번호 : KST2015112180
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노공정에 적합한 낮은 전자온도를 갖는 플라즈마 발생 방법 및 그 장치에 관한 것으로, 여기수단을 이용하여 중성가스의 여기 에너지와 비슷한 에너지를 중성가스에 전달하여 중성가스를 여기 상태로 만든 후 이온화 에너지와 여기 에너지 차이에 해당하는 에너지를 가진 광소스를 이용하여 중성가스를 이온화 시켜 플라즈마를 생성시키도록 되어 있고, 그 장치는 내부에 피처리물이 수용될 수 있는 공간이 형성되고, 이 공간의 상부에는 투명 유전체가 씌워지며, 일측에는 내부 공간으로 중성가스를 공급하기 위한 주입구와 내부를 진공분위기로 만들기 위한 진공펌프가 접속된 챔버; 상기 챔버에 주입된 중성가스의 여기 에너지와 비슷한 에너지를 중성가스에 전달하여 중성가스를 여기 상태로 만들기 위한 여기수단; 여기 상태인 중성가스의 이온화 에너지와 여기 에너지 차이에 해당하는 에너지를 가진 광자를 상기 챔버 내부에 조사하여 중성가스를 이온화시켜 플라즈마를 생성시키기 위한 이온화수단;을 포함하여 이루어져 있다. 전자온도, 플라즈마, 여기, 이온화, 중성가스
Int. CL B82Y 30/00 (2011.01) H01L 21/18 (2011.01)
CPC H01J 37/32009(2013.01) H01J 37/32009(2013.01) H01J 37/32009(2013.01) H01J 37/32009(2013.01)
출원번호/일자 1020040010956 (2004.02.19)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-0819336-0000 (2008.03.27)
공개번호/일자 10-2005-0082503 (2005.08.24) 문서열기
공고번호/일자 (20080402) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.01.03)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장홍영 대한민국 대전광역시유성구
2 서상훈 대한민국 대전광역시유성구
3 정원봉 대한민국 대전광역시유성구
4 채수항 대한민국 대전광역시유성구
5 김재현 대한민국 대전광역시유성구
6 이상원 대한민국 대전광역시서구
7 엄세훈 대한민국 경기도남양주시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유병선 대한민국 대전광역시 서구 월평북로 **, ***호 (월평동, 만년오피스텔)(금강국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2004.02.19 수리 (Accepted) 1-1-2004-0068367-42
2 전자문서첨부서류제출서
Submission of Attachment to Electronic Document		 2004.02.19 수리 (Accepted) 1-1-2004-5028330-76
3 출원인변경신고서
Applicant change Notification		 2005.01.26 수리 (Accepted) 1-1-2005-5011587-39
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2005.01.26 수리 (Accepted) 4-1-2005-0003357-11
5 출원심사청구서
Request for Examination		 2007.01.03 수리 (Accepted) 1-1-2007-0005451-84
6 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2007.12.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2007.12.14 수리 (Accepted) 9-1-2007-0075846-32
8 등록결정서
Decision to grant		 2008.03.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0145586-69
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.02.01 수리 (Accepted) 4-1-2013-5019983-17
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157993-01
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5158129-58
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2014-5157968-69
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2019-5081392-49
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5108396-12
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.06.12 수리 (Accepted) 4-1-2020-5131486-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
여기수단을 이용하여 중성가스의 여기 에너지와 비슷한 에너지를 중성가스에 전달하여 중성가스를 여기 상태로 만든 후, 이온화 에너지와 여기 에너지 차이에 해당하는 에너지를 가진 이온화수단을 이용하여 중성가스를 이온화 시켜 플라즈마를 생성시키는 것을 특징으로 하는 낮은 전자온도를 갖는 플라즈마 발생방법
2 2
내부에 피처리물이 수용될 수 있는 공간이 형성되고, 이 공간의 상부에는 투명 유전체가 씌워지며, 일측에는 내부 공간으로 중성가스를 공급하기 위한 주입구와 내부를 진공분위기로 만들기 위한 진공펌프가 접속된 챔버; 상기 챔버에 주입된 중성가스의 여기 에너지와 비슷한 에너지를 중성가스에 전달하여 중성가스를 여기 상태로 만들기 위한 여기수단; 여기 상태인 중성가스의 이온화 에너지와 여기 에너지 차이에 해당하는 에너지를 가진 광자를 상기 챔버 내부에 조사하여 중성가스를 이온화 시켜 플라즈마를 생성시키기 위한 이온화수단;을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 낮은 전자온도를 갖는 플라즈마 발생장치
3 3
청구항 2에 있어서, 상기 여기수단은 전자빔, 분자빔, 양성자빔, 중성자빔 중에서 택일되는 것을 특징으로 하는 낮은 전자온도를 갖는 플라즈마 발생장치
4 4
청구항 2에 있어서, 상기 이온화수단은 UV램프나 UV레이저를 포함하는 광소스 중에서 택일되는 것을 특징으로 하는 낮은 전자온도를 갖는 플라즈마 발생장치
5 5
청구항 2에 있어서, 상기 중성가스는 Ar, He, Ne, O2, N2, H2중에서 선택되는 1종 또는 그 이상이 혼합가스임을 특징으로 하는 낮은 전자온도를 갖는 플라즈마 발생장치
6 5
청구항 2에 있어서, 상기 중성가스는 Ar, He, Ne, O2, N2, H2중에서 선택되는 1종 또는 그 이상이 혼합가스임을 특징으로 하는 낮은 전자온도를 갖는 플라즈마 발생장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.