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화학 작용기가 도입된 고체 기질, 또는 입자를 촉매 존재하에 1,5-디옥세판-2-온과 중합반응시켜, 고체 기질 표면 또는 입자 표면에 폴리(1,5-디옥세판-2-온)을 코팅하는 것을 특징으로 하는 코팅방법
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제 1항에 있어서, 상기 촉매가 주석(II) 2-에틸헥사노에이트인 것을 특징으로 하는 코팅방법
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제 1항에 있어서, 상기 중합반응이 55∼100℃에서 수행되는 것을 특징으로 코팅방법
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제 1항에 있어서, 상기 화학 작용기가 도입된 고체 기질이 고체 기질 표면 위에 히드록시기 말단을 가진 화합물을 자기조립반응시켜 얻어진 것을 특징으로 하는 코팅방법
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제 4항에 있어서, 상기 고체 기질이 금, 실리콘 웨이퍼 또는 고분자로 이루어진 것을 특징으로 하는 코팅방법
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제 4항에 있어서, 상기 히드록시기 말단을 가진 화합물이 1-머캅토운데크-11-일-트리(에틸렌글리콜) 또는 (N-트리에톡시실릴프로필)-O-폴리에틸렌-옥시드 우레탄인 것을 특징으로 하는 코팅방법
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7
제 1항에 있어서, 상기 입자가 금, 실리카 또는 고분자로 이루어진 나노입자 또는 마이크로입자인 것을 특징으로 하는 코팅방법
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제 7항에 있어서, 상기 입자가 실리카 나노입자인 것을 특징으로 하는 코팅방법
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제 1항에 있어서, 상기 코팅방법이 하기 반응식 1에서 보는 바와 같이, 금 표면 위에 말단에 히드록시기를 가진 1-머캅토운데크-11-일-트리(에틸렌글리콜)(1)을 자기조립반응시켜 금속 표면에 화학 작용기를 도입하는 단계(단계 1), 및 상기 화학 작용기가 도입된 금을 주석(II) 2-에틸헥사노에이트 촉매 존재하에 1,5-디옥세판-2-온과 계면시작중합반응시켜 표면에 폴리(1,5-디옥세판-2-온)이 도입된 금을 얻는 단계(단계 2)로 이루어진 것을 특징으로 하는 코팅방법
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제 1항에 있어서, 상기 코팅방법이 하기 반응식 2에서 보는 바와 같이, 실리콘 웨이퍼 표면 위에 말단에 히드록시기를 가진 (N-트리에톡시실릴프로필)-O-폴리에틸렌-옥시드 우레탄(2)을 자기조립반응시켜 금속 표면에 화학 작용기를 도입하는 단계(단계 1), 및 상기 화학 작용기가 도입된 실리콘 웨이퍼를 주석(II) 2-에틸헥사노에이트촉매 존재하에 1,5-디옥세판-2-온과 계면시작중합반응시켜 표면에 폴리(1,5-디옥세판-2-온)이 도입된 실리콘 웨이퍼를 얻는 단계(단계 2)로 이루어진 것을 특징으로 하는 코팅방법
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제 1항에 있어서, 상기 코팅방법이 하기 반응식 3에서 보는 바와 같이, 실리카 나노입자 표면에 내재되어있는 히드록시기를 직접 이용하여, 실리카 나노입자를 주석(II) 2-에틸헥사노에이트 촉매 존재하에 1,5-디옥세판-2-온과 계면시작중합반응시켜 표면에 폴리(1,5-디옥세판-2-온)이 도입된 실리카 나노입자를 얻는 것으로 이루어진 것을 특징으로 하는 코팅방법
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제 1항에 있어서, 상기 코팅방법이 하기 반응식 3에서 보는 바와 같이, 실리카 나노입자 표면에 내재되어있는 히드록시기를 직접 이용하여, 실리카 나노입자를 주석(II) 2-에틸헥사노에이트 촉매 존재하에 1,5-디옥세판-2-온과 계면시작중합반응시켜 표면에 폴리(1,5-디옥세판-2-온)이 도입된 실리카 나노입자를 얻는 것으로 이루어진 것을 특징으로 하는 코팅방법
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