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미세구조-유도제를 포함하는 분자체 합성용 겔 조성물에 하기 화학식 (1)의 유기실란, 화학식 (2)의 유기포스폰산, 유기실란 또는 유기포스폰산으로 유기-관능화된 실리카 전구체에서 선택되는 메조구조-유도제를 첨가하여 유기-무기 복합겔을 형성하는 것을 특징으로 하는, 메조다공성 골격을 갖는 미세다공성 분자체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 하기 (a)~(c) 단계로 구성된 것을 특징으로 하는, 메조다공성 골격을 갖는 미세다공성 분자체의 제조방법:(a) 미세구조-유도제, 규소원 및 알루미늄원을 포함하는 제올라이트 합성용 겔 조성물에 전술한 메조구조-유도제를 첨가하는 단계; (b) 상기 (a)단계에서 얻어진 물질을 수열반응, 마이크로파 반응, 건식-겔 (dry-gel) 합성법 등을 통해 결정화시키는 단계, 및 (c) 상기 (b) 공정에서 얻어진 물질에서 소성 또는 화학적 처리를 통해 유기물을 선택적으로 제거하는 단계
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제 1 항에 있어서, 전술한 유기-관능화된 실리카 전구체는 화학식 (1)의 유기실란 또는 화학식 (2)의 유기포스폰산을 규산염이온, 콜로이드상 실리카 훈증 실리카, 실리카겔 또는 침전 실리카겔로 구성된 군에서 선택되는 실리카 전구체와 반응시켜 제조되는 것을 특징으로 하는, 메조다공성 골격을 갖는 미세다공성 분자체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 전술한 분자체 형성용 겔 조성물에 알콜, 계면활성제, 고분자, 생체물질 또는 무기염에서 선택되는 메조구조-유도 보조제를 더 첨가하는 것을 특징으로 하는, 메조다공성 골격을 갖는 미세다공성 분자체의 제조방법
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제 5 항에 있어서, 전술한 미세구조-유도제는 테트라메틸암모늄, 테트라에틸암모늄 또는 테트라프로필암모늄에서 선택되는 것을 특징으로 하는, 메조다공성 골격을 갖는 미세다공성 분자체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 전술한 메조구조-유도제는 SiO2 또는 이의 전구체의 양을 기준으로 0
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제 1 항에 있어서, 전술한 분자체는 알루미노실리케이트, 실리케이트, 티타노실리케이트, 알루미노포스페이트, 실리코알루미노포스페이트, 보로실리케이트로부터 선택되는 화학적 조성을 갖는 것을 특징으로 하는, 메조다공성 골격을 갖는 미세다공성 분자체의 제조방법
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제 1 항의 방법에 따라 제조된, 소수성 유기물 영역은 비공유결합에 의해 자가조립되어 무기물 영역 사이에서 비연속적으로 형성되고, 분자체 형성용 겔 영역은 유기물의 구조 또는 농도에 따라 연속적인 또는 국부적으로 규칙적인 배열을 갖추게 되는, 메조다공성 골격을 갖는 미세다공성 결정성 분자체
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제 8 항에 있어서, 2㎚-50㎚의 메조기공 크기 및 0
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제 8 항에 있어서, 염기수용액 처리, 이온교환, 탈알루미늄화, 금속 담지 또는 유기관능화와 같은 후처리 반응에 의해 활성화 또는 개질화된 것을 특징으로 하는, 메조다공성 골격을 갖는 미세다공성 결정성 분자체
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제 1 항의 방법에 따라 제조되거나 제 8 항에 청구된 메조다공성 골격을 갖는 미세다공성 결정성 분자체를 포함하는, 탄화수소 개질용 촉매
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